Übersetzung für "Schottky barrier" in Deutsch

An analogous problem exists with respect to Schottky barrier region 15 (FIG.
Ein analoges Problem existiert im Hinblick auf die Schottky-Sperrschicht 15 (Fig.
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The primary advantage of Schottky Barrier diodes over other diodes has been their relatively low forward barrier characteristics.
Der wesentliche Vorteil der Schottky-Sperrschichtdiode gegenüber anderen Dioden liegt in ihrem relativ niedrigen Durchlaßwiderstand.
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Also coupled to respective one of the nodes 52 and 53 are Schottky barrier diodes 58 and 59.
An den Knotenpunkten 52 und 53 sind außerdem noch Schottky-Sperrschichtdioden 58 bzw. 59 angekoppelt.
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In one configuration, the Schottky barrier between the silicide and the substrate is kept as small as possible.
Bei einer Ausgestaltung wird die Schottkybarriere zwischen dem Silizid und dem Substrat möglichst klein gehalten.
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The Schottky barrier is 0.9 eV when the fourth layer comprises essentially palladium.
Die Schottky-Barriere beträgt 0.9 eV, wenn die vierte Schicht im Wesentlichen Palladium enthält.
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The higher the electrical field strength at the Schottky contact, the lower is the Schottky barrier.
Je höher die elektrische Feldstärke am Schottkykontakt ist, desto geringer ist die Schottkybarriere.
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The Schottky barrier here is between metal layer 4 as the anode and n-layer 2 as the cathode.
Die Schottky-Barriere liegt dabei zwischen der Metallschicht 4 als Anode und der n-Schicht 2 als Kathode.
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Instead of this p-conducting zone 22, it is also possible to provide a weak injector, for example a Schottky barrier layer.
Anstelle dieser p-leitenden Zone 22 kann auch ein schwacher Injektor, beispielsweise eine Schottky-Sperrschicht vorgesehen werden.
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The PNP device is composed of Schottky Barrier collector 74, base region 76, N+ base contact 78, base electrode 80, emitter region 82, emitter reach-through 84 and emitter electrode 86.
Der PNP-Transistor setzt sich aus einem Schottkykollektor 74, einer Basis 76, einer N + -dotierten Basisanschlußzone 78, einem Basisanschluß 80, einem Emitter 82, einer Emitteransschlußzone 84 und einem Emitteranschluß 86 zusammen.
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Oberlin et al utilizes a double-diffused NPN transistor and a PNP transistor with vertical structure which includes a diffused emitter, an epitaxial base and Schottky Barrier collector.
Dort wird ein doppcltdiffundierter NPN-Transistor und ein PNP-Transistor in vertikaler Struktur angewendet, der einen diffundierten Emitter, eine epitaktische Basis und einen Schottkykollektor aufweist.
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DESCRIPTION Technical Field This invention relates to the selective etching of platinum in the presence of platinum silicide, and more particularly, to the use of this technique for the fabrication of platinum silicide contacts for formation of Schottky Barrier Diodes.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Platinsilicid-Schottky-Sperrschichtdiode durch selektives Ätzen von Platin in Anwesenheit von Platinsilicid, und insbesondere die Anwendung dieses Verfahrens bei der Herstellung von Platinsilicid-Kontakten bei der Fertigung von Schottky-Sperrschichtdioden.
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1C, that portion of silicon dioxide layer 9 which is disposed in window 13 is removed by standard wet or dry etching techniques to expose that portion of the substrate which is to constitute the anode of the low-barrier-height Schottky barrier diode (SBD).
1C wird der in der Öffnung 13 liegende Teil der Siliciumdioxid-Schicht 9 durch ein nasses oder trockenes Ätzverfahren entfernt, wodurch dieser Teil des Substrats freigelegt wird, welcher dann die Anode einer Schottky-Sperrschichtdiode mit niedriger Potentialschwelle bilden soll.
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