Translation of "Sputter coating" in German

Through the invention the high plasma density and the sputter coating are combined.
Durch die Erfindung werden die hohe Plasmadichte und die Sputterbeschichtung miteinander kombiniert.
EuroPat v2

The present invention arises from requirements encountered during magnetron sputter coating of substrates.
Die vorliegende Erfindung geht aus von Bedürfnissen, welche sich beim Magnetronsputterbeschichten von Substraten ergeben haben.
EuroPat v2

The disadvantage of the known arrangement resides therein that with it indeed a highly activated and high ionized plasma can be generated, however, that it is not possible to carry out a sputter coating.
Der Nachteil der bekannten Vorrichtung besteht darin, daß mit ihr zwar ein hochaktiviertes und hochionisiertes Plasma erzeugt werden kann, daß es jedoch nicht möglich ist, eine Sputterbeschichtung durchzuführen.
EuroPat v2

The sputter coating system according to the invention with at least three long target arrangements is preferably operated in such a way that the two outer target arrangements are operated with 5 to 35% more sputtering power, preferably with 10 to 20% more sputtering power than the inner target arrangements.
Die erfindungsgemässe Sputterbeschichtungsanlage mit mindestens drei Langtarget-Anordnungen wird bevorzugterweise so betrieben, dass die seitlich aussenliegenden Targetanordnungen mit 5 bis 35 % mehr Sputterleistung betrieben werden, vorzugsweise mit 10 bis 20 %, als die innenliegenden Targetanordnungen.
EuroPat v2

The present invention under all its aspects is in particular suited to sputter coating substrates, in particular large-surface and preferably plane substrates by means of a reactive process, preferably with an ITO film (Indium Tin Oxide).
Die vorliegende Erfindung unter all ihren Aspekten eignet sich insbesondere für das Sputterbeschichten von Substraten, insbesondere von grossflächigen und dabei vorzugsweise planen Substraten durch einen reaktiven Prozess, vorzugsweise ab metallischen Targets, vorzugsweise mit einer ITO-Schicht (Indium-Zinn-Oxid).
EuroPat v2

For better contacting, gold (40 nm) having an area of 0.8 mm×1 mm is furthermore deposited overlapping part of the ITO areas by means of sputter coating via a mask.
Zur besseren Kontaktierung wird weiter über eine Maske Gold (40 nm) mit einer Fläche von 0,8 mm x 1 mm überlappend auf einem Teil der ITO-Flächen mittels Sputtercoating abgeschieden.
EuroPat v2

Gold electrodes (40 nm) (three different areas measuring 230×990 ?m, 230×975 ?m and 230×950 ?m) are subsequently deposited transversely over the positions of the ITO areas by means of sputter coating via a mask.
Anschließend werden über eine Maske Goldelektroden (40 nm) (drei unterschiedliche Flächen von 230 x 990 µm, sowie 230 x 975 µm und 230 x 950 µm) quer über die Positionen der ITO-Flächen mittels Sputtercoating abgeschieden.
EuroPat v2

This invention is in particular used for reactive coating of said substrates, in particular with ITO films or for metal coating said substrates through non-reactive sputter coating.
Dabei wird die Erfindung insbesondere eingesetzt für die reaktive Beschichtung der erwähnten Substrate insbesondere mit ITO-Schichten oder zur Metallbeschichtung der erwähnten Substrate durch nicht reaktives Sputterbeschichten.
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As the problem of reactive gas distribution and/or target erosion distribution is solved in a homogenizing sense, the substrates to be coated can be positioned much closer to the source and have much larger coating surfaces relative to the source surface, which improves the economy of a sputter coating system that is equipped with a source according to the invention.
Weil das Problem der Reaktivgas-Verteilung und/oder der Targeterosions-Verteilung in homogenisierendem Sinne gelöst ist, können zu beschichtende Substrate wesentlich näher an der Quelle positioniert werden und mit wesentlich grösseren zu beschichtenden Flächen relativ zur Quellenfläche, was die Wirtschaftlichkeit einer Sputterbeschichtungsanlage mit einer erfindungsgemässen Quelle wesentlich erhöht.
EuroPat v2

In order to utilize better in particular the target material, it is known to move the field line pattern along the sputter surface during the sputter coating primarily by providing moved magnet configurations beneath the target.
Um dabei insbesondere das Targetmaterial besser zu nutzen, ist es, vornehmlich durch Vorsehen bewegter Magnetanordnungen unterhalb des Targets, bekannt, das Feldlinienmuster während des Sputterbeschichtens entlang der Sputterfläche zu bewegen.
EuroPat v2

As depicted at 42, into the treatment chamber 30 leads a gas line for a working gas, preferably argon, and optionally via the same gas inlet, however preferably by means of a gas spray head, a reactive gas is introduced into the process chamber for reactive magnetron sputter coating.
Es mündet in die Behandlungskammer 30, wie bei 42 dargestellt, eine Gasleitung für ein Arbeitsgas, vorzugsweise Argon, ein, wobei ggf. über die gleiche Gaszuspeisung, bevorzugterweise aber mittels einer schematisch bei 50 dargestellten Gasbrause, ein Reaktivgas in den Prozessraum eingelassen wird für reaktives Magnetronsputterbeschichten.
EuroPat v2