Übersetzung für "Wafer stage" in Deutsch
In
particular,
phosphor
layer
13
can
be
applied
to
radiation
decoupling
surface
12
as
early
as
the
wafer
composite
stage.
Insbesondere
kann
die
Leuchtstoffschicht
13
dabei
noch
im
Waferverbund
auf
die
Strahlungsauskoppelfläche
12
aufgebracht
werden.
EuroPat v2
A
planar
mirror
300
for
folding
the
system
is
also
introduced
following
the
collector
3,
in
order
to
provide
installation
space
for
mechanical
and
electronic
components
in
the
object
plane,
114,
in
which
the
wafer
stage
is
positioned.
Zusätzlich
eingefügt
ist
auf
den
Kollektor
3
folgend
ein
Planspiegel
200
zur
Faltung
des
Systems,
um
Bauräume
für
mechanische
und
elektronische
Komponenten
in
der
Objektebene
114,
in
der
der
Waferstage
angeordnet
ist,
zur
Verfügung
zu
stellen.
EuroPat v2
The
wafer
is
held
by
a
device
126
(wafer
stage)
comprising
a
scanner
drive
in
order
to
move
the
wafer
synchronously
with
the
mask
115
in
a
fashion
parallel
to
the
latter.
Der
Wafer
wird
durch
eine
Einrichtung
126
(wafer
stage)
gehalten,
die
einen
Scannerantrieb
umfasst,
um
den
Wafer
synchron
mit
der
Maske
115
parallel
zu
dieser
zu
bewegen.
EuroPat v2
The
structure-bearing
mask
150
is
imaged
by
the
projection
lens
120
onto
a
substrate
106
provided
with
a
light-sensitive
layer,
or
onto
a
wafer,
which
is
arranged
on
a
wafer
stage
161
.
Die
Struktur
tragende
Maske
150
wird
mit
dem
Projektionsobjektiv
120
auf
ein
mit
einer
lichtempfindlichen
Schicht
versehenes
Substrat
160
bzw.
einen
Wafer,
welcher
auf
einem
Wafertisch
(auch
üblicherweise
bezeichnet
als
"wafer
stage")
161
angeordnet
ist,
abgebildet.
EuroPat v2
Arranged
on
a
mask
stage
620
at
the
location
of
the
object
field
is
a
reflective
structure-bearing
mask
621,
which
with
the
aid
of
the
projection
lens
is
imaged
into
an
image
plane,
in
which
there
is
a
substrate
661
coated
with
a
light-sensitive
layer
(photoresist)
on
a
wafer
stage
660
.
Am
Ort
des
Objektfeldes
ist
eine
reflektive
strukturtragende
Maske
621
auf
einem
Maskentisch
620
angeordnet,
die
mit
Hilfe
des
Projektionsobjektivs
in
eine
Bildebene
abgebildet
wird,
in
welcher
sich
ein
mit
einer
lichtempfindlichen
Schicht
(Photoresist)
beschichtetes
Substrat
661
auf
einem
Wafertisch
660
befindet.
EuroPat v2
At
the
location
of
the
object
field,
a
reflective
structure-bearing
mask
31
is
arranged
on
a
mask
stage
30,
said
mask
being
imaged
with
the
aid
of
the
projection
lens
into
an
image
plane
in
which
a
substrate
41
coated
with
a
light-sensitive
layer
(photoresist)
is
situated
on
a
wafer
stage
40
.
Am
Ort
des
Objektfeldes
ist
eine
reflektive
strukturtragende
Maske
31
auf
einem
Maskentisch
30
angeordnet,
die
mit
Hilfe
des
Projektionsobjektivs
in
eine
Bildebene
abgebildet
wird,
in
welcher
sich
ein
mit
einer
lichtempfindlichen
Schicht
(Photoresist)
beschichtetes
Substrat
41
auf
einem
Wafertisch
40
befindet.
EuroPat v2
The
device
181,
which
is
also
designated
as
“wafer
stage”,
and
the
device
171,
which
is
also
designated
as
“reticle
stage”,
are
part
of
a
scanner
device
controlled
by
means
of
a
scan
control
device.
Die
Einrichtung
181,
die
auch
als
"Waferstage"
bezeichnet
wird,
sowie
die
Einrichtung
171,
die
auch
als
"Retikelstage"
bezeichnet
wird,
sind
Bestandteil
einer
Scannereinrichtung,
die
über
eine
Scan-Steuereinrichtung
gesteuert
wird.
EuroPat v2
This
can
apply
especially
to
the
optical
components
of
the
projection
exposure
apparatus
arranged
after
the
coupling
element
in
the
direction
of
the
illumination
or
projection
beam
such
as,
for
example,
a
condenser,
a
REMA
(reticle/masking)
objective,
a
reticle
or
a
mask,
optical
components
of
a
projection
objective,
immersion
layers,
the
photoresist,
the
wafer
and
the
wafer
stage.
Dies
gilt
insbesondere
auch
für
die
optischen
Komponenten
der
Projektionsbelichtungsanlage,
die
in
Strahlrichtung
des
Beleuchtungs-
bzw.
Projektionsstrahls
nach
dem
Einkoppelelement
angeordnet
sind,
wie
zum
Beispiel
ein
Kondensor,
ein
REMA-
(Retikel/Masking-)
Objektiv,
ein
Retikel
bzw.
eine
Maske,
optische
Komponenten
eines
Projektionsobjektivs,
Immersions-schichten
bis
hin
zum
Fotoresist,
dem
Wafer
und
dem
Waferstage.
EuroPat v2
A
reflective
structure-bearing
mask
521
on
a
mask
stage
520
is
arranged
at
the
location
of
the
object
field,
said
mask
being
imaged
into
an
image
plane
with
the
aid
of
the
projection
lens,
in
which
image
plane
is
situated
a
substrate
561
coated
with
a
light-sensitive
layer
(photoresist)
on
a
wafer
stage
560
.
Am
Ort
des
Objektfeldes
ist
eine
reflektive
strukturtragende
Maske
521
auf
einem
Maskentisch
520
angeordnet,
die
mit
Hilfe
des
Projektionsobjektivs
in
eine
Bildebene
abgebildet
wird,
in
welcher
sich
ein
mit
einer
lichtempfindlichen
Schicht
(Photoresist)
beschichtetes
Substrat
561
auf
einem
Wafertisch
560
befindet.
EuroPat v2
The
invention
is
furthermore
suitable
for
separating
stacked
wafers
in
other
stages
of
the
production
process,
for
example
cleaned
or
even
post-treated
or
polished
wafers.
Die
Erfindung
eignet
sich
weiterhin
zum
Vereinzeln
von
gestapelten
Scheiben
in
anderen
Stadien
des
Herstellungsprozesses,
z.
B.
gereinigten
oder
auch
nachbehandelten
oder
polierten
Scheiben.
EuroPat v2
These
glass
ceramics
are
therefore
used
in
transparent
form,
for
example
for
fireproof
glass,
as
view
windows
in
stoves
and
furnaces
or
as
cookware,
as
well
as
for
substrate
material
for
wafer
stages
or
mirrors
for
telescopes.
Diese
Glaskeramiken
finden
daher
in
transparenter
Form
Anwendung
zum
Beispiel
als
Brandschutzglas,
Kaminsichtscheiben
oder
Kochgeschirr,
sowie
als
Substratmaterial
für
wafer
stages
oder
Spiegelträger
für
Teleskope.
EuroPat v2
With
their
CMP
(chemical-mechanical
polishing
process)
and
wet-bench
cleaning
projects,
the
two
winners
have
optimized
processes
in
the
final
wafer
treatment
stages.
Die
beiden
Preisträger
haben
mit
ihren
Projekten
in
der
CMP-Reinigung
(chemisch-mechanisches
Polieren)
und
in
der
Badreinigungsanlage
Prozesse
der
abschließenden
Waferbearbeitung
optimiert.
ParaCrawl v7.1
With
their
CMP
(chemical-mechanical
polishing
process)
and
wet-bench
cleaning
projects,
the
two
winners
in
2013
improved
processes
in
the
final
wafer-treatment
stages.
Die
beiden
Preisträger
im
Jahr
2013
verbesserten
mit
ihren
Projekten
in
der
CMP-Reinigung
(chemisch-mechanisches
Polieren)
und
in
der
Badreinigungsanlage
Prozesse
der
abschließenden
Waferbearbeitung.
ParaCrawl v7.1
Wafers
in
all
stages
of
production
can
be
measured
precisely
offline
and
inline
within
a
gauge
range
of
10
µm
-
1000
µm.
Wafer
in
allen
Bearbeitungsstadien
können
in
einem
Dickenbereich
von
10
µm
-
1000
µm
präzise
offline
und
inline
gemessen
werden.
ParaCrawl v7.1
Thus,
e.g.,
with
application
as
substrate
materials,
wafer
stages,
or
mirror
supports
for
telescopes,
thermal
expansion
in
the
region
of
room
temperature
is
minimized.
So
wird
z.
B.
bei
Anwendung
als
Substratmaterial,
wafer
stages
oder
Spiegelträger
für
Teleskope
die
thermische
Ausdehnung
im
Bereich
der
Raumtemperatur
minimiert.
EuroPat v2
These
glass
ceramics
are
therefore
used
in
transparent
form
as,
e.g.,
fire
protection
glass,
fireplace
door
windows,
cookware,
and
cooking
surfaces,
as
well
as
substrate
material
for
wafer
stages
or
for
mirror
supports
for
telescopes
and
for
reflectors
in
beamers.
Diese
Glaskeramiken
finden
daher
in
transparenter
Form
Anwendung
z.B.
als
Brandschutzglas,
Kaminsichtscheiben,
Kochgeschirr,
Kochflächen,
sowie
als
Substratmaterial
für
wafer
stages
oder
für
Spiegelträger
für
Teleskope
und
sowie
für
Reflektoren
in
Beamem.
EuroPat v2