Übersetzung für "Wafer processing" in Deutsch

On the other hand, the market segments of relevance to Wafer Processing should continue to develop favorably.
Die für Wafer Processing relevanten Marktsegmente sollten sich hingegen weiterhin positiv entwickeln.
ParaCrawl v7.1

Given the persistent market weakness, Wafer Processing has adapted its cost structures and increased its competitiveness.
Mit Blick auf die anhaltende Marktschwäche hat Wafer Processing die Kostenstruktur angepasst und die Wettbewerbsfähigkeit erhöht.
ParaCrawl v7.1

Above all, the Wafer Processing division suffered from a delayed recovery in demand in its relevant market segments.
Vor allem die Division Wafer Processing litt unter einer verzögerten Nachfrageerholung der relevanten Marktsegmente.
ParaCrawl v7.1

Only in September did Wafer Processing start to receive larger orders for photomask systems, and in the PVD area.
Erst ab September hat Wafer Processing größere Bestellungen für Fotomasken-Systeme sowie im Bereich PVD erhalten.
ParaCrawl v7.1

Wafer Processing posted a decline in sales and orders received for the first nine months of 2005.
Wafer Processing verzeichnete in den ersten neuen Monaten 2005 einen Rückgang von Umsatz und Bestellungseingang.
ParaCrawl v7.1

The most modern equipment allows for wafer processing with new and established methods as well as the testing of innovative material combinations.
Modernste Geräte er­­möglichen die Waferprozessierung mit neuen und etablierten Methoden sowie das Testen innovativer Materialkom­bi­nationen.
ParaCrawl v7.1

Selecting a suitable adhesive for temporary bonding is key to ensuring a reliable result in thin wafer processing.
Wichtig für das Ergebnis der Waferprozessierung ist die Auswahl eines geeigneten Klebstoffes für das temporäre Bonden.
ParaCrawl v7.1

In combination, a substrate or wafer cassette and an apparatus for holding and positioning the cassette in a wafer processing and/or inspection device, comprising: a base on the cassette provided with guide runners and marginal strips for locating the cassette on the apparatus for holding and positioning, and a transverse web interconnecting said marginal strips, the holding and positioning apparatus including a base plate, a receiving plate supporting the cassette and disposed on said base plate and a multi-axis guide system on the receiving plate, the system including two runner receivers which project generally perpendicular to said receiving plate and into which the guide runners of the wafer cassette extend in a supported position of the cassette, and locking pins projecting perpendicularly from said plate for fixing said marginal strips and the transverse web on the base of the cassette in the supported position.
Vorrichtung zum Halten und Positionieren einer Substratkassette, insbesondere einer Waferkassette in Wafer-Bearbeitungs- und/oder Inspektions-Einrichtungen, mit einer Aufnahmeplatte, die auf einer Führungsplatte angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahmeplatte mit einem mehrachsigen Führungssystem verbunden ist, zwei senkrecht zur ihrer Hauptausdehnung verlaufende Kufenaufnahmen aufweist, in die die Führungskufen der Waferkassette in der Arbeitsstellung eingetaucht sind, und wobei senkrecht auf der Aufnahmeplatte Arretierbolzen vorgesehen sind, durch die sich Randleisten des Kassettenbodens in der Arbeitsstellung fixieren lassen.
EuroPat v2

The invention relates to an apparatus for holding and positioning a substrate cassette, particularly a wafer cassette, in wafer processing and/or inspection devices.
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Halten und Positionieren einer Substratkassette, insbesondere Waferkassette in Wafer-Bearbeitungs- und/ oder Inspektions-Einrichtungen.
EuroPat v2

The charging of wafers into wafer processing systems conventionally takes place by using containers in the form of standardized boxes.
Die Beschickung von Wafer-Bearbeitungsanlagen mit Wafern erfolgt herkömmlicherweise unter Verwendung von Behältern in Form von genormten Boxen.
EuroPat v2

They are used for removing particulate, organic and metallic contaminants, which accumulate on the wafer surface during processing.
Sie werden eingesetzt zur Entfernung partikullärer, organischer und metallischer Kontaminationen, die sich im Verlauf der Prozessierung auf der Waferoberfläche anreichern.
EuroPat v2

Finally, the invention relates to a method for the qualitative and quantitative measurement of charging of a wafer during processing of the wafer.
Schließlich bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zur qualitativen und quantitativen Messung einer Aufladung eines Wafers bei der Prozessierung des Wafers.
EuroPat v2

An application of the structures described therein to production goods within the scope of a CMOS wafer processing is accordingly impossible.
Eine Anwendung der dort beschriebenen Strukturen auf Produktionsware im Rahmen einer CMOS-Prozessierung eines Wafers ist somit ausgeschlossen.
EuroPat v2

This trend requires the shortening of cycles in respective production lines connected to wafer baking ovens, and to increase the processing capability of the components integrated in these production lines for the coating of the wafer sheets, the processing of wafer sheets into wafer blocks, and for processing the wafer blocks into smaller wafer pieces or small hollow bodies.
Dieser Trend macht es erforderlich in den an die Waffelbacköfen jeweils anschließenden Produktionslinien die Taktzeiten zu verkürzen und bei den in diese Produktionslinien integrierten Anlagenteilen zum Beschichten der Waffelblätter, zum Verarbeiten der Waffelblätter zu Waffelblöcken, zum Verarbeiten der Waffelblöcke zu kleinen Waffelstücken bzw. kleinen Hohlkörpern, zum Verarbeiten der kleinen Waffelstücken bzw. kleinen Hohlkörper, etc. jeweils die Verarbeitungskapazitäten zu steigern.
EuroPat v2

Thus, while the optimum concentration of gettering sites for a particular application may be known, the actual concentration present in a wafer undergoing processing has been very difficult to adjust to a specific concentration.
Während die optimale Konzentration von Störstellen für eine spezielle Anwendungsart bekannt sein mag, so kann doch die tatsächliche Konzentration, die in einer Scheibe vorhanden ist, die bearbeitet wird, nur sehr schwer auf eine bestimmte Konzentration eingestellt werden.
EuroPat v2

The internal gettering sites created during the method of the present invention will act to attract impurities and crystalline defects from the active surface of the wafer during the normal thermal exposure of the wafer during conventional processing steps.
Die Innenstörstellen, die nach dem Verfahren der vorliegenden Erfindung geschaffen werden, dienen dazu, die Verunreinigungen und kristallinen Fehler aus der aktiven Oberfläche der Scheibe bei normaler thermischer Behandlung der Scheibe während der herkömmlichen Verarbeitungsstufen an sich zu ziehen.
EuroPat v2