Übersetzung für "Semiconductor manufacture" in Deutsch

Passive protective mechanisms are essentially based directly on the technology of semiconductor manufacture.
Passive Schutzmechanismen basieren im wesentlichen direkt auf der Technologie der Halbleiterherstellung.
EuroPat v2

It shows a high resistance to dry etching as compared with the standard fluorine-containing process gases of the semiconductor manufacture.
Sie zeigt eine hohe Trockenätzbeständigkeit gegenüber den üblichen fluorhaltigen Prozessgasen der Halbleiterfertigung.
EuroPat v2

Lithographic structuring is used in many ways, for example including in semiconductor manufacture.
Lithographische Strukturierung wird in vielfältiger Weise beispielsweise auch in der Halbleiterfertigung eingesetzt.
EuroPat v2

We develop and manufacture semiconductor- and system solutions for our...
Hier entwickelt und fertigt Infineon Halbleiter- und Systemlösungen für...
ParaCrawl v7.1

In semiconductor manufacture, photoresist is normally used as the mask material for the etching mask in these dry etching processes.
Als Maskenmaterial für die Aetzmaske wird in der Halbleiterfertigung bei diesen Trockenätzprozessen üblicherweise Photolack verwendet.
EuroPat v2

The invention concerns an impermeable cooled closing plug for processing tubes, in particular in semiconductor manufacture.
Die Erfindung betrifft einen dichten, gekühlten Verschluß für Prozeßrohre, insbesondere in der Halbleiterfertigung.
EuroPat v2

The spectrum of use is wide and ranges from immunobiological tests to surface tests in semiconductor manufacture.
Das Anwendungsspektrum ist breit gestreut und reicht von immunbiologischen Untersuchungen bis zu Oberflächenuntersuchungen bei der Halbleiterherstellung.
EuroPat v2

It is distinguished by the absence of cracks and a high resistance to dry etching with respect to the standard fluorine-containing process gases in semiconductor manufacture.
Die zeichnet sich durch Rissfreiheit und hohe Trockenätzbeständigkeit gegenüber den üblichen fluorhaltigen Prozessgasen der Halbleiterfertigung aus.
EuroPat v2

With users of the optical industry or semiconductor manufacture the fine air conditioning is added supplementing as requirement.
Bei Anwendern der Optischen Industrie oder Halbleiterherstellung kommt die Feinklimatisierung ergänzend als Anforderung hinzu.
ParaCrawl v7.1

They are also used as foam blowing agents, aerosol propellants, fire-fighting agents, process gases in semiconductor manufacture and electrical insulators.
Die Gase werden auch als Treibmittel für Schaumstoffe und Aerosole, in Ausrüstungen zur Brandbekämpfung, als Prozessgase bei der Halbleiterherstellung und elektrische Isolatoren eingesetzt.
TildeMODEL v2018

New developments in semiconductor manufacture require specialised process fluids to allow the patterning to take place with very high reliability, density and uniformity.
Neue Entwicklungen in der Halbleiterherstellung benötigen hochentwickelte Verarbeitungsflüssigkeiten, um eine sehr hohe Zuverlässigkeit, Dichte und Einheitlichkeit bei der Übertragung von Strukturinformation zu ermöglichen.
TildeMODEL v2018

The quinone diazide compounds desensitised according to the present invention are excellently suited to the preparation of radiation-sensitive compositions such as are used for producing positive relief images in the manufacture of printing plates are as photoresists in semiconductor manufacture.
Die gemäss der vorliegenden Erfindung phlegmatisierten Chinondiazid-Verbindungen eignen sich in hervorragender Weise zur Herstellung strahlungsempfindlicher Zusammensetzungen, wie sie zur Erzeugung von positiven Reliefbildern bei der Herstellung von Druckplatten oder als Fotoresists bei der Halbleiterfertigung Verwendung finden.
EuroPat v2

FIG. 1 shows a micromechanical structure of a sensor according to the invention including a substrate 1 made of a silicon wafer, a sacrificial layer 7 which is located on top of the substrate 1 and is made of silicon oxide with a thickness preferably in the region between approximately 0.2 and 4 ?m, a diaphragm layer 3 made of polysilicon or monocrystalline silicon, a closure layer 4 made of a suitable material which is preferably BPSG, an oxide or a nitride, an etch stop 5 made of a suitable material, preferably aluminum, undoped silicon or doped silicon being used as the etch stop, and a terminating structure 2 composed of layers which are customary in semiconductor manufacture.
Figur 1 zeigt die mikromechanische Struktur eines erfindungs-Sensors umfassend ein Substrat 1 aus einem Siliziumwafer, einer darauf befindlichen Opferschicht 7 aus Siliziumoxid mit einer Dicke vorzugweise im Bereich von etwa 0,2 bis 4 µm, eine Membranschicht 3 aus Polysilizium oder einkristallinem Silizium, einer Verschlußschicht 4 aus einem geeigneten Material, welches vorzugsweise BPSG, ein Oxid oder ein Nitrid ist, einem Ätzstopp 5 aus einem geeignetem Material, wobei vorzugsweise als Ätzstop Aluminium, undotiertes Silizium oder dotiertes Silizium eingesetzt wird, und einer Abschlußstruktur 2 bestehend aus Schichten, welche in der Halbleiterfertigung üblich sind.
EuroPat v2

SUMMARY OF THE INVENTION The object underlying the invention is to provide a process for preparing cleaning solutions for semiconductor manufacture, which process avoids said disadvantages.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von Reinigungslösungen für die Halbleiterherstellung bereitzustellen, das die genannten Nachteile vermeidet.
EuroPat v2

The invention thus relates to a process for the direct preparation of cleaning solutions for semiconductor manufacture which comprises generating the cleaning solutions directly at the site of use by mixing a gas with water or aqueous solutions, with a static mixer system being used.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur direkten Herstellung von Reinigungslösungen für die Halbleiterherstellung, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungslösungen durch Mischen eines Gases mit Wasser oder wäßrigen Lösungen direkt am Ort der Verwendung erzeugt werden, wobei ein statisches Mischersystem eingesetzt wird.
EuroPat v2

This device is used especially in the field of thin-layer technology in the production of LCD screen monitors, masks for semiconductor manufacture and semiconductor or ceramic substrates.
Die Verwendung dieser Vorrichtung liegt insbesondere im Bereich der Dünnschichttechnik bei der Herstellung von LCD-Bildschirmen, Masken für die Halbleiterfertigung und Halbleiter- oder Keramiksubstraten.
EuroPat v2

This sensor can be produced economically in batch processes that are suitable for mass production, with recourse to methods known from semiconductor manufacture.
Dieser Sensor kann mit zur Massenfertigung geeigneten Batchprozessen kostengünstig hergestellt werden, wobei auf aus der Halbleiterfertigung bekannte Verfahren zurückgegriffen wird.
EuroPat v2

The electrode chips designed as type ASIS or ASICS thus offer the advantage of a rational semiconductor manufacture in spite of varied and different application specifications.
Die als ASIS bzw. ASICS ausgeführten Elektrodenchips haben somit - trotz vielseitiger und unterschiedlicher Anwendungsspezifikationen - den Vorteil einer rationalen Halbleiterfertigung.
EuroPat v2

Such an extracochlear transducer array in its entirety can be developed and produced simply and with high precision in processes which are conventional in semiconductor manufacture art using microsystems engineering, for example, by photolithography.
Ein solches extracochleäres Wandler-Array kann als Ganzes einfach und mit hoher Genauigkeit in aus der Halbleiterfertigung üblichen Verfahren mikrosystemtechnisch, zum Beispiel fotolithographisch, entwickelt und hergestellt werden.
EuroPat v2

This extracochlear converter array can be developed and produced, as a whole, simply and with high precision in processes conventional in semiconductor manufacture using microsystems engineering techniques, for example, photolithographically.
Ein solches extracochleäres Wandler-Array kann als Ganzes einfach und mit hoher Genauigkeit in aus der Halbleiterfertigung üblichen Verfahren mikrosystemtechnisch, zum Beispiel fotolithographisch, entwickelt und hergestellt werden.
EuroPat v2

The measuring device described above is preferably used for determining the edges of structures on masks and wafers for semiconductor manufacture.
Das beschriebene Meßgerät wird vorzugsweise zur Bestimmung der Kantenlage von Strukturen auf Masken und Wafern für die Halbleiterherstellung verwendet.
EuroPat v2

The receiver depression arranged in the layer stack enables in the manufacture of the connection, a simple, layer by layer installation of the cutback into the boundary wall of the receiver depression, whereby in micro-mechanics and/or semiconductor manufacture, customary standard processes are used.
Die in dem Schichtstapel angeordnete Aufnahmevertiefung ermöglicht bei der Herstellung der Kupplung eine einfache, schichtweise Einbringung des Rücksprungs in die Begrenzungswand der Aufnahmevertiefung, wobei in der Mikromechanik und/oder der Halbleiterfertigung übliche Standardprozesse zur Anwendung kommen können.
EuroPat v2

The focus is on user driven assessment of advanced prototype equipment, of related OEM components and of materials for semiconductor manufacture.
Der Fokus liegt auf der anwenderseitigen Beurteilung von fortschrittlichen Prototypausrüstungen, zugehörigen OEM-Komponenten und von Werkstoffen für die Halbleiterfertigung.
EUbookshop v2