Übersetzung für "Physical vapour deposition" in Deutsch

The acronym PVD stands for Physical Vapour Deposition.
Die Abkürzung PVD steht für Physical Vapor Deposition.
ParaCrawl v7.1
The coating is implemented with the aid of a PVD method (physical vapour deposition).
Die Beschichtung erfolgt mit Hilfe eines PVD-Verfahrens (Physical Vapour Deposition).
EuroPat v2
We use the technique of physical vapour deposition (PVD).
Wir verwenden die Technik der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD).
CCAligned v1
This is preferably carried out by means of thermal spraying or physical vapour deposition using an electron beam.
Bevorzugt erfolgt dies durch thermisches Spritzen oder physikalische Gasphasenabscheidung mit Elektronenstrahl.
EuroPat v2
Physical vapour deposition (PVD) production equipment;
Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapor deposition);
DGT v2019
The coating may be applied both by CVD and PVD (physical vapour deposition).
Die Beschichtung kann sowohl mittels CVD als auch mittels PVD (physikalische Gasphasenabscheidung) erfolgen.
EuroPat v2
The fourth method step is preferably carried out by means of thermal spraying or by means of physical vapour deposition using an electron beam.
Vorzugsweise erfolgt der vierte Verfahrensschritt durch thermisches Spritzen oder durch eine physikalische Gasphasenabscheidung mittels Elektronenstrahl.
EuroPat v2
According to Constellium, in a physical vapour deposition process aluminium is used instead of copper, without any additional pre-treatment.
Laut Constellium wird in einem „Physical Vapour Deposition“-Verfahren Aluminium statt Kupfer ohne zusätzliche Vorbehandlung eingesetzt.
ParaCrawl v7.1
Physical vapour deposition (PVD) continues to be an important process in semiconductor manufacturing.
Die physikalische Dampfphasenabscheidung (PVD) ist weiterhin ein wichtiger Prozess bei der Halbleiterherstellung.
ParaCrawl v7.1
Thanks to environmentally friendly PVD (Physical Vapour Deposition) technology, numerous attractive colour coatings can be achieved.
Dank umweltfreundlicher PVD-Technologie (Physical Vapour Deposition) können viele verschiedene, farbige Beschichtungen entwickelt werden.
ParaCrawl v7.1
The watch and the bracelet are made entirely of titanium with a black PVD coating (Physical Vapour Deposition).
Uhr und Armband sind vollständig aus Titan mit schwarzer PVD-Beschichtung (Physical Vapour Deposition) gefertigt.
ParaCrawl v7.1
Specialists in nanosurface treatment master different chemical and physical procedures for coating ultra-thin surfaces, especially in the field of chemical vapour deposition (CVD), PECVD, MOCVD and physical vapour deposition (PVD), sputtering, arc deposition.
Spezialisten für Nanooberflächenbearbeitung beherrschen verschiedene chemische und physikalische Verfahren zur Beschichtung ultradünner Oberflächen, insbesondere im Bereich der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD, PECVD, MOCVD) und physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD, Sputtern, Lichtbogenverdampfung).
EUbookshop v2
Benefits of the new microlubrication process, developed by the MICLUB project,using PVD (physical vapour deposition) to deposit a coating on the surface of toolsused in metal forming.
Vorteile des neuen, im Rahmen des Projekts MICLUB entwickelten Mikroschmierverfahrens, bei dem mittels PVD (Physical vapour deposition) eine Schicht auf die Oberfläche des für die Metallbearbeitung benutzten Werkzeugsaufgetragen wird.
EUbookshop v2
For applying semiconductor or photoconductor layers, processes may be used which are generally termed chemical or physical vapour deposition.
Für das Aufbringen von Halbleiter- oder Photoleiterschichten lassen sich Verfahren anwenden, die man allgemein als chemical oder physical vapor deposition bezeichnet.
EuroPat v2
Such cathodes are manufactured by sintering powder layers on the carrier or also by (physical) vapour deposition of a layer on the carriers.
Hergestellt werden solche Kathoden durch Aufsintern von Pulverschichten auf den Träger oder auch durch (physikalisches) Bedampfen des Trägers.
EuroPat v2
The deposition of the metal can take place by metalization preferably by a vacuum thin film deposition process such as chemical vapour deposition (CVD) or physical vapour deposition (PVD) or by sputtering.
Das Aufbringen des Metalles kann durch Metallisieren der Oberfläche, vorzugsweise durch ein Vakuumdünnschichtverfahren, wie die sogenannte "chemical vapor deposition" (CVD) oder "physical vapor deposition" (PVD) oder durch Sputtern erfolgen.
EuroPat v2
The layers may be deposited onto the surface according to the invention or onto a layer already deposited there e.g. by gas phase or vapour phase deposition in vacuum (physical vapour deposition PVD), by thermal vaporisation, by electron beam vaporisation, with and without ion bombardment, by sputtering, in particular magnetron sputtering or by chemical gas phase deposition (chemical vapour deposition, CVP), with and without plasma support.
Die Schichten können beispielsweise durch Gas- oder Dampfphasenabscheidung im Vakuum (physical vapour deposition, PVD), durch thermische Verdampfung, durch Elektronenstrahlverdampfung, mit und ohne Ionenunterstützung, durch Sputtern, insbesondere durch Magnetronsputtering, oder durch chemische Gasphasenabscheidung (chemical vapour deposition, CVD), mit und ohne Plasmaunterstützung, auf der erfindungsgemässen Oberfläche oder einer bereits aufgebrachten Schicht abgeschieden werden.
EuroPat v2
The reflective layer c) and therefore the reflecting layer or the reflecting layer and further layers of the multilayer system may be deposited on the reflector body e.g. by gas or vapour deposition in vacuum, (physical vapour deposition PVD), by thermal vaporisation, by means of electron beam vaporisation, with and without ion support, by sputtering, in particular by magnetron sputtering or by chemical gas phase deposition (chemical vapour deposition CVP) with and without plasma support.
Die Reflexionsschicht c) und dabei die reflektierende Schicht oder die reflektierende Schicht und weiteren Schichten des Mehrschichtsystems, können beispielsweise durch Gas- oder Dampfphasenabscheidung im Vakuum, (physical vapor deposition, PVD), durch thermische Verdampfung, durch Elektronenstrahlverdampfung, mit und ohne Ionenunterstützung, durch Sputtern, insbesondere durch Magnetronsputtering oder durch chemische Gasphasenabscheidung (chemical vapor deposition, CVD) mit und ohne Plasmaunterstützung, auf den Reflektorkörper aufgebracht werden.
EuroPat v2
The oxide-containing bonding layer may be deposited on the surface according to the invention or on the previously deposited layer e.g. by gas or vapour deposition in vacuum, (physical vapour deposition), by thermal vaporisation, by means of electron beam vaporisation, with and without ion support, by sputtering, in particular by magnetron sputtering or by chemical gas phase deposition (chemical vapour deposition) with and without plasma support.
Die oxidhaltige Haftschicht kann beispielsweise durch Gas-oder Dampfphasenabscheidung im Vakuum (physical vapour deposition), durch thermische Verdampfung, durch Elektronenstrahlverdampfung, mit und ohne Ionenunterstützung, durch Sputtern, insbesondere durch Magnetronsputtering, oder durch chemische Gasphasenabscheidung (chemical vapour deposition), mit und ohne Plasmaunterstützung, auf der erfindungsgemässen Oberfläche oder der bereits aufgebrachten, vorherigen Schicht abgschieden werden.
EuroPat v2
Production using the PVD (Physical Vapour Deposition) method is described in EP-A 0 722 193 (=P.6658).
Eine Herstellung mit dem PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) ist in der EP-A 0 722 193 (= P.6658) beschrieben.
EuroPat v2

Ähnliche Begriffe

vapourous deposited with chemical vapour deposition a physically
the deposit physic deposit vapour deposition
vapour physical vapour deposition