Übersetzung für "Dc bias" in Deutsch
A
DC
bias
voltage
of
500
V
is
applied
only
to
the
substrate
retainer.
Lediglich
an
den
Substrathalter
wird
eine
DC-Biasspannung
von
500
V
angelegt.
EuroPat v2
The
TruPlasma
Bias
Series
4000
is
a
state-of-the-art
product
family
of
pulsed
DC
bias
generators.
Die
TruPlasma
Bias
Serie
4000
ist
eine
Produktfamilie
modernster
gepulster
DC-Bias-Generatoren.
ParaCrawl v7.1
The
DC
bias
voltage
and
the
match
requirements
are
the
same.
Die
DC-Vorspannung
und
die
Anpassungs-Anforderungen
sind
die
gleichen.
EuroPat v2
The
DC
bias
of
the
relevant
transducer
element
is
frequency-dependent
in
an
advantageous
variation.
Die
DC-Vorspannung
des
jeweiligen
Wandlerelements
ist
in
einer
vorteilhaften
Variante
frequenzabhängig.
EuroPat v2
Compared
to
MLCCÂ
?s,
H-Chips
do
not
have
a
DC-Bias
behavior.
Im
Vergleich
zu
Keramikkondensatoren
besitzen
H-Chips
kein
DC-Bias
Verhalten.
ParaCrawl v7.1
The
TruPlasma
Bias
Series
3000
is
a
diverse
group
of
state-of-the-art
DC
bias
generators.
Die
TruPlasma
Bias
Serie
3000
ist
eine
vielseitige
Gruppe
modernster
DC-Bias-Generatoren.
ParaCrawl v7.1
The
TruPlasma
Bias
Series
4000
is
a
state-of-the-art
family
of
pulsed
DC
bias
generators.
Die
TruPlasma
Bias
Serie
4000
ist
eine
Produktfamilie
modernster
gepulster
DC-Bias-Generatoren.
ParaCrawl v7.1
In
the
state
without
DC
bias,
the
remaining
input
is
connected
to
the
antenna
input
of
the
television
receiver.
Im
Zustand
ohne
Gleichvorspannung
wird
der
verbliebene
Eingang
an
den
Antenneneingang
des
Fernsehempfängers
angeschlossen.
EuroPat v2
The
result
is
a
reduction
of
the
DC
self
bias
and
therefore
of
the
ion
striking
energies.
Die
Folge
hiervon
ist
eine
Reduktion
der
DC
Self
Bias
und
damit
der
Ionenauftreffenergien.
EuroPat v2
A
DC
substrate
bias
of
?40
V
is
applied
to
the
substrates
during
this
step.
An
die
Substrate
wird
ein
DC
Substratbias
von
-40
V
während
dieses
Schrittes
anlegt.
EuroPat v2
The
propagation
speed
will
determine
the
center
frequency
of
the
transmission/template
spectrum
and
can
be
calibrated
by
DC
bias
voltage.
Die
Ausbreitungsgeschwindigkeit
bestimmt
die
Mittenfrequenz
des
Sende-/Vorgaben-Spektrums
und
kann
mittels
einer
DC-Vorspannung
kalibriert
werden.
EuroPat v2
The
noise
generator
61
can
be
implemented,
for
example,
with
a
zener
diode
whose
cathode
is
connected
through
a
resistor
to
a
positive
DC
bias
and
whose
anode
is
grounded,
as
is
known
from
DE-C2
28
20
426.
Der
Rauschgenerator
61
kann
beispielsweise
durch
eine
Zenerdiode
realisiert
sein,
deren
Kathode
über
einen
Widerstand
an
einer
positiven
Gleich-Vorspannung
liegt
und
deren
Anode
auf
Masse
liegt,
wie
aus
DE-C2
28
20
426
bekannt.
EuroPat v2
The
noise
generator
61,
for
example,
can
also
be
implemented
with
two
zener
diodes
whose
respective
cathodes
are
connected
through
a
resistor
to
a
positive
DC
bias
and
whose
anodes
are
grounded.
Beispielsweise
kann
der
Rauschgenerator
61
auch
durch
zwei
Zenerdioden
realisiert
sein,
deren
Kathoden
jeweils
über
einen
Widerstand
an
einer
positiven
Gleich-Vorspannung
liegen
und
deren
Anoden
auf
Masse
liegen.
EuroPat v2
This
arrangement
comprises
an
antenna
switch
which
has
semiconductor
switching
elements
connecting
one
of
two
input
terminals
to
an
output
terminal
when
a
DC
bias
voltage
is
supplied
so
as
to
apply
a
signal
to
the
television
receiver.
Diese
Anordnung
umfaßt
einen
Antennenschalter,
der
Halbleiter-Schaltelemente
aufweist,
die
beim
Zuführen
einer
Gleichvorspannung
einen
von
zwei
Eingangsanschlüssen
mit
einem
Ausgangsanschluß
verbinden,
um
ein
Signal
an
den
Fernsehempfänger
zu
liefern.
EuroPat v2
Finally,
the
substrate
can
work
with
a
switched
bias
(DC,
10
kHz
to
100
MHz)
and
be
heated
or
cooled.
Schliesslich
kann
das
Substrat
mit
einem
eingeschalteten
Bias
(DC,
10
kHz
bis
100
MHz)
arbeiten
sowie
erwärmt
oder
gekühlt
werden.
EuroPat v2
The
ion
bombardment
and
the
resulting
layer
densification
during
the
sputtering
process
can
additionally
be
aided
by
a
parallel-operated
low-voltage
arc
and/or
a
magnetic
field
applied
for
stabilizing
and
intensifying
the
plasma,
and/or
by
applying
a
DC
bias
voltage
to
the
substrate
or
by
applying
a
medium
frequency
bias
between
the
substrate
and
the
process
chamber
in
the
range
of
from
1
to
10,000,
particularly
between
20
and
250
kHz.
Der
Ionenbeschuss
und
die
damit
bewirkte
Schichtverdichtung
während
des
Sputterprozesses
kann
zusätzlich
durch
einen
parallel
betriebenen
Niedervoltbogen
und/oder
ein
zur
Stabilisierung
bzw.
Intensivierung
des
Plasmas
angelegtes
Magnetfeld,
und/oder
durch
das
Anlegen
einer
DC-Biasspannung
am
Substrat
oder
durch
das
Anlegen
eines
Mittelfrequenzbias
zwischen
Substrat
und
Prozesskammer
im
Bereich
von
1
bis
10.000,
insbesondere
zwischen
20
bis
250
kHz
unterstützt
werden.
EuroPat v2
Preferably,
if
a
DC
bias
was
used
for
applying
the
adhesive
layer,
when
the
transition
layer
is
applied,
a
medium
frequency
generator
is
first
connected
to
the
holding
device,
which
medium
frequency
generator
emits
its
voltage
pulses
(a
regulating
by
controlling
the
fed
power
is
also
possible,
but
not
preferred)
in
the
form
of
a
sinusoidal
or
of
another
bipolar
or
unipolar
signal
course.
Vorzugsweise
wird,
falls
für
das
Aufbringen
der
Haftschicht
ein
DC-Bias
verwendet
wurde,
beim
Aufbringen
der
Uebergangsschicht,
zunächst
an
die
Halterungsvorrichtung
ein
Mittelfrequenzgenerator
angeschlossen,
der
seine
Sapnnungsimpulse
(Regelung
über
Steuerung
der
eingebrachten
Leistung
ist
ebenfalls
möglich,
aber
nicht
bevorzugt)
in
Form
eines
sinus-,
oder
eines
anderen
bi-
bzw.
auch
unipolaren
Signalverlaufs
abgibt.
EuroPat v2
The
sputtering
process
is
aided
by
the
connection
of
the
low-voltage
arc
and
the
application
of
a
negative
DC
bias
voltage
of
75
V
to
the
substrate.
Der
Sputterprozess
wird
durch
die
Zuschaltung
des
Niedervoltbogens
und
das
Anlegen
einer
negativen
DC-Biasspannung
von
75
V
am
Substrat
unterstützt.
EuroPat v2
In
this
case,
the
substrate
retainer
can
be
operated
with
both
an
RF
bias
and
a
DC
bias.
In
diesem
Fall
kann
der
Substrathalter
sowohl
mit
einer
HF-Bias,
als
auch
mit
einer
DC-Bias
betrieben
werden.
EuroPat v2