Translation of "Silicon oxide" in German
																						The
																											two
																											most
																											commonly
																											used
																											IR
																											radiation
																											detecting
																											materials
																											in
																											microbolometers
																											are
																											amorphous
																											silicon
																											and
																											vanadium
																											oxide.
																		
			
				
																						Die
																											am
																											häufigsten
																											verwendeten
																											Sensormaterialien
																											in
																											Mikrobolometern
																											sind
																											amorphes
																											Silizium
																											und
																											Vanadiumoxid.
															 
				
		 WikiMatrix v1
			
																						Silicon
																											dioxide,
																											silicon
																											oxide
																											or
																											soda-lime
																											window
																											glass
																											are
																											used
																											as
																											substances.
																		
			
				
																						Als
																											Substanzen
																											werden
																											Siliziunidioxid,
																											Siliziumoxid
																											oder
																											Natron-Kalk-Fensterglas
																											verwendet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											insulating
																											layer
																											is
																											usually
																											formed
																											by
																											a
																											natural
																											silicon
																											oxide
																											layer.
																		
			
				
																						Diese
																											Isolierschicht
																											wird
																											üblicherweise
																											durch
																											eine
																											natürliche
																											Siliziumoxidschicht
																											gebildet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Apart
																											from
																											tin,
																											silicon
																											or
																											its
																											oxide
																											may
																											also
																											be
																											used
																											as
																											the
																											metal.
																		
			
				
																						Neben
																											Zinn
																											kann
																											auch
																											noch
																											Silizium
																											als
																											Metall
																											bzw.
																											dessen
																											Oxyd
																											eingesetzt
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Aqueous
																											solutions
																											of
																											colloidal
																											silicon
																											oxide
																											may
																											also
																											be
																											used.
																		
			
				
																						Auch
																											wässrige
																											Lösung
																											von
																											kolloidalem
																											Siliciumoxid
																											können
																											Verwendung
																											finden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											silicon-oxide
																											layer
																											may
																											then
																											be
																											covered
																											with
																											a
																											material
																											other
																											than
																											the
																											semiconductor
																											material.
																		
			
				
																						Auf
																											die
																											Siliziumoxidschicht
																											kann
																											dann
																											ein
																											anderes
																											Material
																											als
																											das
																											Halbleitermaterial
																											aufgebracht
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						A
																											double
																											layer
																											of
																											silicon
																											oxide
																											3
																											and
																											polysilicon
																											8
																											is
																											deposited
																											on
																											the
																											etch
																											stop
																											layer
																											2.
																		
			
				
																						Darüber
																											wird
																											eine
																											Doppelschicht
																											aus
																											Siliziumoxid
																											3
																											und
																											Polysilizium
																											8
																											abgeschieden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											memory
																											cell
																											configuration
																											according
																											to
																											claim
																											7,
																											wherein
																											said
																											oxide
																											is
																											silicon
																											oxide.
																		
			
				
																						Speicherzellenanordnung
																											nach
																											Anspruch
																											7,
																											dadurch
																											gekennzeichnet,
																											dass
																											das
																											Oxid
																											Siliziumoxid
																											ist.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						One
																											preferred
																											oxide
																											is,
																											for
																											example,
																											silicon
																											oxide
																											(SiO
																											x).
																		
			
				
																						Ein
																											bevorzugtes
																											Oxid
																											ist
																											beispielsweise
																											Siliziumoxid
																											(SiO
																											x).
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											results
																											in
																											a
																											higher
																											etching
																											rate
																											for
																											the
																											silicon
																											oxide
																											layer.
																		
			
				
																						Dies
																											resultiert
																											in
																											einer
																											höheren
																											Ätzrate
																											für
																											die
																											Siliziumoxidschicht.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											mask
																											layer
																											may
																											be
																											of
																											aluminum,
																											and
																											the
																											etch
																											stop
																											layer
																											of
																											silicon
																											oxide.
																		
			
				
																						Die
																											Maskierschicht
																											kann
																											aus
																											Aluminium,
																											die
																											Ätzstoppschicht
																											aus
																											Siliziumoxid
																											gebildet
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											further
																											insulation
																											8
																											is
																											formed
																											of
																											a
																											passivation
																											layer
																											of
																											silicon
																											oxide
																											and
																											silicon
																											nitride.
																		
			
				
																						Die
																											weitere
																											Isolation
																											8
																											besteht
																											aus
																											einer
																											Passivierung
																											aus
																											Siliziumoxid
																											und
																											-nitrid.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Silicon
																											oxide
																											(SiO
																											2)
																											is
																											used,
																											for
																											example,
																											as
																											the
																											capacitor
																											dielectric.
																		
			
				
																						Als
																											Kondensatordielektrikum
																											wird
																											beispielsweise
																											Siliziumoxid
																											(SiO
																											2)
																											verwendet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											silicon
																											oxide
																											condenses
																											on
																											the
																											relatively
																											cool
																											coal
																											located
																											farther
																											up
																											the
																											shaft.
																		
			
				
																						Dieses
																											Siliziumoxid
																											kondensiert
																											an
																											der
																											weiter
																											oben
																											im
																											Schacht
																											befindlichen
																											relativ
																											kalten
																											Kohle.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											insulation
																											layer
																											6
																											may
																											consist
																											of
																											silicon
																											oxide
																											or
																											nitride.
																		
			
				
																						Die
																											Isolationsschicht
																											6
																											kann
																											aus
																											Siliziumoxid
																											oder
																											-Nitrid
																											bestehen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											first
																											dielectric
																											layer
																											8
																											may
																											contain
																											silicon
																											oxide
																											or
																											silicon
																											nitride,
																											for
																											example.
																		
			
				
																						Die
																											erste
																											dielektrische
																											Schicht
																											kann
																											beispielsweise
																											Siliziumoxid
																											oder
																											Siliziumnitrid
																											enthalten.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						All
																											the
																											photoresists
																											are
																											removed
																											again
																											after
																											the
																											photomask
																											has
																											been
																											transferred
																											into
																											the
																											silicon
																											oxide.
																		
			
				
																						Alle
																											Photolacke
																											werden
																											nach
																											der
																											Übertragung
																											der
																											Photomaske
																											in
																											das
																											Siliziumoxid
																											wieder
																											entfernt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											production
																											of
																											silicon
																											oxide
																											should
																											be
																											avoided
																											by
																											a
																											suitable
																											process
																											control.
																		
			
				
																						Das
																											Entstehen
																											von
																											Siliziumoxid
																											sollte
																											durch
																											eine
																											geeignete
																											Prozessführung
																											vermieden
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											silicon
																											oxide
																											layer
																											is
																											removed
																											by
																											means
																											of
																											buffered
																											hydrofluoric
																											acid
																											(HF).
																		
			
				
																						Die
																											Entfernung
																											der
																											Siliziumoxidschicht
																											geschieht
																											mittels
																											gepufferter
																											Flusssäure
																											(HF).
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						As
																											a
																											result,
																											a
																											step
																											is
																											formed
																											in
																											the
																											silicon
																											oxide
																											layer
																											on
																											the
																											underside.
																		
			
				
																						Infolgedessen
																											entsteht
																											eine
																											Stufe
																											in
																											der
																											Siliziumoxidschicht
																											auf
																											der
																											Unterseite.
															 
				
		 EuroPat v2