Translation of "Carbon tetrafluoride" in German

For example, hydrocarbons are reacted to yield carbon tetrafluoride.
Kohlenwasserstoffe beispielsweise werden zu Tetrafluorkohlenstoff umgesetzt.
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In the present case, carbon tetrafluoride (CF4) was used.
Im vorliegenden Fall wurde Kohlenstofftetrafluorid (CF 4) eingesetzt.
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Fluorides This subheading includes the following compounds: carbon tetrafluoride (tetrafluoromethane), 1,1­difluoroethane, tetrafluoroethylene,. trifluoro­ethylene, trifluoromethane.
Hierher gehören z.B. 1,1­Difluoräthan, Kohlenstofftetrafluorid (Tetrafluormethan), Tetrafluor­äthylen, Trifluoräthylen und Trifluormethan.
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Carbon compounds which are hydrocarbons essentially react to form carbon tetrafluoride.
Kohlenstoffverbindungen reagieren im wesentlichen unter Bildung von Kohlenstofftetrafluorid, wenn es sich um Kohlenwasserstoffverbindungen handelt.
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The process according to the invention has the advantage that its impurities form reaction products which have very low boiling points (e.g. oxygen, carbon tetrafluoride), metal fluoro complexes having a vapor pressures which are not detectable at the boiling point of hydrogen fluoride, as well as HF when the process is carried out.
Das erfindungsgemäße Verfahren weist den Vorteil auf, daß bei seiner Durchführung aus den Verunreinigungen Reaktionsprodukte mit sehr niedrigem Siedepunkt (Sauerstoff, Kohlenstofftetrafluorid), Metallfluorokomplexe mit einem bei der Siedetemperatur von Fluorwasserstoff nicht nachweisbaren Dampfdruck sowie HF entstehen.
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For this purpose a plasma etching method can be used by means of which P+ -doped silicon is etched in an atmosphere containing carbon tetrafluoride with an etching speed between approximately 20 and approximately 40 nm/min.
Dabei einsetzbar ist ein Plasmaätzverfahren, mit welchem P +- dotiertes Silicium in einer Kohlenstofftetrafluorid enthaltenden Atmosphäre mit einer Ätzgeschwindigkeit im Bereich zwischen etwa 20 und ungefähr 40 nm/Minute geätzt werden kann.
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At this point plasma etching treatment with a gas mixture of carbon tetrafluoride and oxygen takes place, the silicon nitride layer and the silicon dioxide layer being removed.
Nun erfolgt eine Plasma-Ätzbehandlung mit einem Gasgemisch aus Tetrafluorkohlenstoff und Sauerstoff wobei die Siliziumnitridschicht und die Silizumdioxidschicht entfernt werden.
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This is, for example, a nitrogen fluoride, sulfur fluoride or carbon fluoride such as nitrogen trifluoride (NF3), sulfur hexafluoride (SF6) or carbon tetrafluoride (CF4).
Hierbei handelt es sich beispielsweise um ein Stickstoff-, Schwefel- oder Kohlenstofffluorid, wie Stickstofftrifluorid (NF 3), Schwefelhexafluorid (SF 6) oder Kohlenstofftetrafluorid (CF 4).
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The method for preparing an electrode for a lithium secondary battery of Claim 1, wherein the ion beam comprises at least one selected from the group consisting of argon, oxygen, nitrogen, acetic acid, methane, carbon tetrafluoride, silane, ammonia and trimethyl aluminum.
Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Lithium-Sekundärbatterie gemäß Anspruch 1, worin der Ionenstrahl zumindest eines umfasst, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Argon, Sauerstoff, Stickstoff, Essigsäure, Methan, Kohlenstofftetrafluorid, Silan, Ammoniak und Trimethylaluminium.
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