Translation of "Silicon disk" in German

After 1 hour, a glossy black film had formed on the silicon disk.
Nach 1 Stunde hatte sich auf der Siliciumscheibe eine glänzende schwarze Folie gebil­det.
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The membrane is a silicon disk provided with window-like perforations.
Die Membran ist eine mit fensterartigen Durchbrechungen versehene Siliziumscheibe.
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It is proposed to produce this sensor from a very thin silicon disk.
Es wird vorgeschlagen, diesen Sensor aus einer sehr dünnen Siliziumscheibe herzustellen.
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In this case the current flow can be optimized by an appropriate configuration of the silicon disk.
Der Stromfluß kann hierbei durch eine entsprechende Strukturierung der Siliziumscheibe optimiert werden.
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This silicon slice 5 forms the ion gate, and is glued to end 2.2 of silicon disk 2.
Diese das Ionentor bildende Siliziumscheibe 5 wird auf die Stirnfläche 2.2 der Siliziumscheibe 2 aufgeklebt.
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The silicon disk was then placed for 2×4 hours in 25 ml of chloroform in each case, and dried.
Die Siliciumscheibe wurde danach 2 × 4 Stunden in je 25 ml Chloroform eingelegt und getrocknet.
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These are built in a numerous process steps on a ultra-clean silicon disk (the wafer).
Diese werden durch vielerlei Fertigungsschritte in einer hochreinen monokristallinen Siliziumscheibe (dem Wafer) realisiert.
ParaCrawl v7.1

The frontal areas prepared in this manner are attached to a correspondingly prepared surface of the silicon disk and connected with it by means of heat and pressure.
Die so vorbereiteten Stirnflächen werden auf eine entsprechend vorbereitete Oberfläche der Siliziumscheibe aufgeklebt und mittels Wärme und Druck stoffschlüssig mit dieser verbunden.
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Since each individual crosspiece is resilient in itself, it can compensate, without any problems, for small differences in length which are caused by an incomplete processing of the surface of the silicon disk or of the copper spiral.
Da jeder einzelne Steg für sich federnd ist, kann er kleine Längendifferenzen, die durch eine nicht vollkommene Oberflächenbearbeitung der Siliziumscheibe oder der Kupferspirale bedingt sind, ohne weiteres ausgleichen.
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Since the copper disk material-connected with the one end of the wire brush, i.e. by means of soldering, welding or diffusion-bonding, expands more when heated than the silicon disk material-connected with the other end of the wire brush, the outside individual wires must compensate for a larger radial difference in length than those which are further inside.
Da sich die mit den einen Enden der Drahtbürste stoffschlüssig, d. h. durch Löten, Schweißen oder Diffusionsbonden, verbundene Kupferscheibe beim Erwärmen stärker ausdehnt als die mit dem anderen Ende der Drahtbürste stoffschlüssig verbundene Siliziumscheibe, müssen die außen liegenden Einzeldrähte eine größere radiale Längendifferenz ausgleichen als die weiter innenliegenden.
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An essential characteristic of pressure-coated semiconductor components is the use of a molybdenum disk and/or a tungsten disk between a silicon disk and a copper disk serving as a heat reduction.
Wesentliches Merkmal druckkontaktierter Halbleiterbauelemente ist die Verwendung einer Molybdän-Scheibe und/oder einer Wolfram-Scheibe zwischen Siliziumscheibe und den als Wärmesenke dienenden Kupferscheiben.
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The radial expansion differences between silicon disk and cooling body can be elastically compensated for by the lengths of the individual crosspieces caused by the V-shape.
Die radialen Dehnungsunterschiede zwischen Siliziumscheibe und Kühlkörper können aus der durch die V-Form bedingten Längenvorgabe der einzelnen Stege elastisch ausgeglichen werden.
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The upper frontal area 1.5 of the metal tape 1 is later material-connected with a thermal conduction disk and the lower frontal area 1.6 of the metal crosspieces 1.2 with a silicon disk.
Die obere Stirnfläche 1.5 des Metallbandes 1 wird später mit einer Wärmeableitscheibe, die untere Stirnfläche 1.6 der Metallstege 1.2 mit einer Siliziumscheibe stoffschlüssig verbunden.
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The radial expansion differences between a thermal conduction disk fastened to the upper frontal area 2.5 and a silicon disk fastened to the lower frontal area 2.6 of the crosspieces 2.2 is compensated for by the V-shape of the metal crosspieces 2.2 owing to the fact that the metal crosspieces 2.2 are more or less twisted.
Die radiale Ausdehnungsdifferenz zwischen einer an der oberen Stirnfläche 2.5 befestigten Wärmeableitscheibe und einer an der unteren Stirnfläche 2.6 der Stege 2.2 befestigten Siliziumscheibe wird durch die V-Form der Metallstege 2.2 ausgeglichen, indem sich die Metallstege 2.2 mehr oder weniger stark verwinden.
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11A shows a first embodiment of such detectors connected to mask 21, where detectors 100a, b are placed as individual elements on corresponding openings 105a, 105b of the silicon disk.
11A ist eine erste Ausführungsform derartiger mit der Belichtungsmaske 21 verbundener Detektoren dargestellt, bei der die Detektoren 100a, b als Einzelelemente auf entsprechende Durchbrüche 105a, 105b der Siliciumscheibe aufgesetzt werden.
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Then the frontal areas of the crosspieces are prepared for the connection with the silicon disk by placing, for example, gold or solder on them.
Anschließend werden die Stirnfläche der Stege für die Verbindung mit der Siliziumscheibe vorbereitet, indem beispielsweise Gold oder Lot aufgebracht wird.
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The surface of the silicon disk is excellent with respect to flatness and smoothness, but the disadvantage of this disk is that its diameter is restricted to the diameters of approximately 15 cm maximum usual for silicon wafers. SUMMARY OF THE INVENTION
Die Oberfläche der Siliciumscheibe ist zwar bezüglich Ebenheit und Oberflächenglätte hervorragend, nachteilig an der Platte ist jedoch, daß ihr Durchmesser auf die bei Siliciumwafern üblichen Durchmesser von maximal etwa 15 cm beschränkt ist.
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By centrifuging the solution at 800 rpm onto a silicon disk coated with a bonding aid, followed by drying for 30 minutes at 60° C. in a circulating air oven, 23 ?m thick homogeneous layers are obtained. After exposure for 40 s through a mask with a 350 W superpressure mercury lamp, the layers are developed with gamma-butyrolactone/xylene (volumetric ratio 1:2) and then rinsed with xylene in a spraying process to produce structured layers having sharp contours.
Durch Aufschleudern der Lösung bei 800 Umdrehungen/Minute auf eine mit einem Haftvermittler beschichtete Siliciumscheibe werden nach 30minütigem Trocknen bei 60°C in einem Umluftofen 23 µm dicke homogene Schichten erhalten, die nach einer Belichtung von 40 s mit einer 350 W-Quecksilberhöchstdrucklampe durch eine Maske mit ?-Butyrolacton/Xylol (Volumenverhältnis 1:2) und Nachspülen mit Xylol im Sprühverfahren zu konturenscharfen strukturierten Schichten entwickelt werden.
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The surface of the silicon disk is excellent with respect to flatness and smoothness, but the disadvantage of this disk is that its diameter is restricted to the diameters of approximately 15 cm maximum usual for silicon wafers.
Die Oberfläche der Siliciumscheibe ist zwar bezüglich Ebenheit und Oberflächenglätte hervorragend, nachteilig an der Platte ist jedoch, daß ihr Durchmesser auf die bei Silic-iumwafern üblichen Durchmesser von maximal etwa 15 cm beschränkt ist.
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Contrary to known technologies there are produced on a silicon disk or wafer electrically conductive regions with standard clearances which are arranged in accordance with a predetermined raster or grid.
Im Gegensatz zu bekannten Technologien werden auf einer Siliziumscheibe galvanisch leitende Bereiche mit standardisierten Aussparungen, welche nach einem vorbestimmten Raster angeordnet sind, beispielsweise durch eine Ätz-oder Auftragungstechnik erzeugt.
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