Translation of "Semiconductor layer" in German

Thereby, the semiconductor layer 1 and the electrode 5 in FIG.
Dabei ist dann die Halbleiterschicht 1 und die Elektrode 5 in Fig.
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The layers to be examined are applied to the metal or semiconductor layer.
Die zu untersuchenden Schichten werden auf die Metall- oder Halbleiterschicht aufgebracht.
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For this purpose, the layers to be examined have preferably been applied to a metallic or semiconductor layer.
Die zu untersuchenden Schichten sind hierzu vorzugsweise auf eine metallische oder Halbleiterschicht aufgebracht.
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A structured metal contact 11 is applied onto the free surface of the semiconductor layer structure.
Auf die freie Oberfläche des Halbleiterschichtaufbaus wird ein strukturierter Metallkontakt 11 aufgebracht.
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The function element contains at least one highly doped semiconductor layer produced by implantation or epitaxy.
Das Funktionselement enthält mindestens eine mittels Implantation oder Epitaxie hergestellte hoch dotierte Halbleiterschicht.
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The functional semiconductor structure is arranged on the second doped III-V semiconductor layer.
Auf der zweiten dotierten III-V-Halbleiterschicht ist die funktionelle Halbleiterstruktur angeordnet.
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It is advantageous to structure the semiconductor layer suitably before the temperature treatment.
Es ist vorteilhaft, die Halbleiterschicht vor dem Temperieren geeignet zu strukturieren.
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The inclined surface 84 is coated with a semiconductor layer 88 .
Die Schrägfläche 84 ist mit einer Halbleiterschicht 88 beschichtet.
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On the other hand, the semiconductor layer can be suitably structured in the form of conductor tracks or address lines.
Andererseits kann die Halbleiterschicht in Form von Leiterbahnen oder Adreßleitungen geeignet strukturiert werden.
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The semiconductor layer can also preferably be used at the same time for making contact with the dopant region.
Bevorzugt kann die Halbleiterschicht auch gleichzeitig zum Kontaktieren des Dotierungsgebiets verwendet werden.
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Of course, the semiconductor layer can also have p-type doping.
Selbstverständlich kann die Halbleiterschicht auch eine p-Dotierung aufweisen.
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A semiconductor layer structure 1 comprises at least one interconnect 2 (see FIG. 1).
Ein Halbleiterschichtaufbau 1 umfaßt mindestens eine Leiterbahn 2 (siehe Figur 1).
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The semiconductor layer structure 1 is introduced into an electrolyte suitable for an electro-deposition.
Der Halbleiterschichtaufbau 1 wird in einen für eine galvanische Abscheidung geeigneten Elektrolyten eingebracht.
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The highly-doped semiconductor layer 5 is used for lateral contacting of the base of the bipolar transistor to be manufactured.
Die hochdotierte Halbleiterschicht 5 dient zur seitlichen Kontaktierung der Basis des herzustellenden Bipolartransistors.
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However, other materials can also be used to make the semiconductor layer.
Zur Bildung der Halbleiterschicht können jedoch auch andere Materialien verwendet werden.
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This crossing point reliably marks the end of the etching of the doped silicon semiconductor layer.
Dieser Einbruch markiert also zuverlässig das Ende des Ätzvorgangs der dotierten Halbleiterschicht.
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An auxiliary via hole 3 is produced in the semiconductor layer structure 1.
In dem Halbleiterschichtaufbau 1 wird ein Hilfskontaktloch 3 erzeugt.
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The surface of the semiconductor layer structure is prepared for following process steps by etching the planarization layer back.
Durch Rückätzen der Planarisierungsschicht wird die Oberfläche des Halbleiterschichtaufbaus für folgende Prozeßschritte vorbereitet.
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A semiconductor layer structure 101 is provided with elevations 102 of monocrystalline silicon.
Ein Halbleiterschichtaufbau 101 ist mit Erhebungen 102 aus einkristallinem Silizium versehen.
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