Übersetzung für "Measurement pattern" in Deutsch

For the precise measurement of a pattern, it is illuminated with two laser beams showing symmetrical angles of incidence.
Zur genauen Ausmessung eines Musters wird dieses mit zwei Laserbündeln bestrahlt, die symmetrische Einfallswinkel aufweisen.
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For the following examples, the measurement duration t pattern is 200 ms (milliseconds).
Für die nachfolgenden Beispiele beträgt die Messdauer t pattern 200 ms (Millisekunden).
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This can be achieved either by using additional detectors located outside the actual measuring field, or the pattern can be recorded directly with a measurement provided said pattern is applied directly on the sample or by means of a transparent carrier for the wavelength.
Dazu können entweder gesondert Detektoren angebracht werden, die außerhalb des eigentlichen Meßfeldes liegen oder das Raster kann direkt mit der Messung aufgezeichnet werden, wenn das Raster auf der Probe direkt oder durch einen bei den verwendeten Wellenlängen transparenten Träger auf die Probe aufgebracht wird.
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When a patient sits on such a blank, there results in the measurement an "error pattern", on the basis of which (taking into consideration the forms of the blank) the numerically controlled machine can then produce the seat cushion actually to be fitted to the subject.
Sitzt ein Patient auf einem solchen Rohling, so ergibt sich bei der Messung ein "Fehlermuster", aufgrund dessen (unter Berücksichtigung der Formen des Rohlings) dann die numerisch gesteuerte Maschine das tatsächlich dem Probanden anzupassende Sitzpolster fertigen kann.
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The measurement pattern can then be calculated in real time such that the desired resolutions at positions determined before the measurement are achieved during the measurement.
Das Messmuster kann dann so in Echtzeit berechnet werden, dass während der Messung die gewünschten Auflösungen an vor der Messung bestimmten Positionen erreicht werden.
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If, for instance, the entire surface of an undeformed body is covered with a suitable pattern, the geometric form of the body can be adequately exactly described with a measurement of the pattern.
Ist beispielsweise die gesamte Oberfläche des nicht deformierten Objekts mit einem geeigneten Muster bedeckt, kann aus Kenntnis des Musters die geometrische Form des Objekts mit einer Messung ausreichend exakt beschrieben werden.
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By means of sequential, high-frequency measurement of the pattern on the detection face during a relative motion 28 between the measurement arrangement, i.e. the illuminating means 14 and the detection face 16 as well as the sensing unit 18, and the at least partially specular surface 12 it is possible to sequentially achieve partial or complete sensing of the at least partially specular surface 12 .
Durch eine sequentielle, hochfrequente Messung des Musters auf der Detektionsfläche während einer Relativbewegung 28 zwischen der Messanordnung, d.h. der Beleuchtungseinrichtung 14 und der Detektionsfläche 16 sowie der Erfassungseinheit 18, und der zumindest teilweise spiegelnden Oberfläche 12 kann sequentiell eine teilweise oder vollständige Erfassung der zumindest teilweise spiegelnden Oberfläche 12 erreicht werden.
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This configuration, however, has the drawback that the determination of the irregular pattern occurs in a delayed manner because for purposes of the time measurement the irregular pattern must first be completely scanned.
Dabei ist nachteilig, dass die Ermittlung des unregelmäßigen Musters verzögert erfolgt, da zur Zeitmessung das unregelmäßige Muster erst vollständig abgetastet sein muss.
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The invention relates to a process for testing of a workpiece by means of eddy currents induced by a field coil in the workpiece and from which a measurement signal is obtained by means of a measurement sensor, a pattern signal representative of a workpiece fault being generated, a correlation function of the measurement signal acquired by the sensor with the pattern signal being determined, and the correlation function being evaluated in order to detect a fault in the workpiece.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Prüfung eines Werkstücks mittels Wirbelströmen, die von einer Erregerspule in dem Werkstück induziert werden und aus denen mittels eines Messsensors ein Messsignal gewonnen wird, wobei ein für einen Werkstückfehler repräsentatives Mustersignal erzeugt wird, eine Korrelationsfunktion des von dem Sensor erfassten Messsignals mit dem Mustersignal ermittelt wird, und die Korrelationsfunktion ausgewertet wird, um einen Fehler in dem Werkstück zu erkennen.
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By means of a numerical interpolation between the measurement points of the measurement pattern, a corresponding desired height of the color measuring head can be calculated for every position of the measuring table or its surface and then used to control the distance.
Mittels numerischer Interpolation zwischen den Messpunkten des Messrasters kann für jede Position des Messtischs bzw. seiner Oberfläche eine entsprechende Soll-Höhe des Farbmesskopfs berechnet und dann für die Abstandsregelung verwendet werden.
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The absolute desired height of the color measuring head MH corresponding to the desired measuring distance is now clearly determined at every measurement point of the measurement pattern on the basis of an identical criterion.
Die dem Soll-Messabstand entsprechende absolute Soll-Höhe des Farbmesskopfs MH wird nun an jedem Messpunkt des Messrasters nach einem gleichen Kriterium auf eindeutige Weise bestimmt.
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The control device (100) according to claim 2, wherein the characteristic measurement instruction pattern is a short pulse of a unit time width.
Steuervorrichtung (100) gemäß Anspruch 2, wobei das kennzeichnende Messungsanweisungsmuster ein kurzer Puls einer Einheitszeitbreite ist.
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The control device (100) according to claim 2, wherein the characteristic measurement instruction pattern is in a step function, and the correction shift time calculation part (50) is configured to calculate the correction shift time by calculating a step response.
Steuervorrichtung (100) gemäß Anspruch 2, wobei sich das kennzeichnende Messungsanweisungsmuster in einer Schrittfunktion befindet und das Korrekturverschiebungszeit-Berechnungsteil (50) konfiguriert ist, um die Korrekturverschiebungszeit durch Berechnen einer Schrittantwort zu berechnen.
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The control device (100) according to claim 2, wherein the characteristic measurement instruction pattern is in a ramp function, and the correction shift time calculation part (50) is configured to calculate the step response from a ramp response and to calculate the correction shift time from the step response.
Steuervorrichtung (100) gemäß Anspruch 2, wobei sich das kennzeichnende Messungsanweisungsmuster in einer Rampenfunktion befindet und das Korrekturverschiebungszeit-Berechnungsteil (50) konfiguriert ist, um die Schrittantwort aus einer Rampenantwort zu berechnen und um die Korrekturverschiebungszeit aus der Schrittantwort zu breechnen.
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A typical set of measurements of the pattern to be looked for is used as pattern.
Als Pattern dient dabei ein typischer Messdatensatz des zu suchenden Ereignisses.
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Converging mathematical function series are suitable for the approximation of the measured pattern of measured values by a correction function.
Für die Annäherung des gemessenen Musters von Meßwerten zu einer Korrektur-Funktion sind konvergente mathematische Funktionsreihen geeignet.
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The required measurement patterns can also be calculated before the measurement and stored in the measurement system.
Die benötigten Messmuster können auch vor der Messung berechnet werden und im Messsystem abgespeichert werden.
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In an embodiment of the invention, the maximum likelihood method is used as a stochastic comparison method for evaluating the measured pattern.
In einer Ausführungsform der Erfindung wird als stochastische Vergleichsmethode zum Auswerten des Messmusters die Maximum-Likelihood-Methode angewandt.
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In this ideal case, the spectrum can be determined by a Fourier transformation of the measured interference pattern.
In diesem idealen Fall kann das Spektrum durch eine Fourier-Transformation des gemessenen Interferenzmusters bestimmt werden.
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The interference pattern of a spectral component is sinusoidal, the corresponding measured interference pattern (FIG.
Das Interferenzmuster einer spektralen Komponente ist sinusoidal, das entsprechende gemessene Interferenzmuster (Fig.
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Thou son of man, shew the house to the house of Israel, that they may be ashamed of their iniquities: and let them measure the pattern.
Und du, Menschenkind, zeige dem Haus Israel den Tempel an, daß sie sich schämen ihrer Missetaten, und laß sie ein reinliches Muster davon nehmen.
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