Übersetzung für "Circuit pattern" in Deutsch

The insulating layer is then applied on this in the form of the circuit pattern according to FIG.
Auf diese wird dann die Isolierschicht in Form des Schaltungsmusters gemäss Fig.
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The protruding part that is guided through the perforated section and a circuit pattern of the wiring element are soldered one to the other.
Das durch den Lochabschnitt hindurchgeführte vorstehende Teil und ein Schaltungsmuster des Verdrahtungselementes sind miteinander verlötet.
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These modules take the form of a ceramic substrate base having a printed circuit pattern on a surface thereof to which is solder bonded one or more silicon chips.
Diese Moduln bestehen dabei aus einem keramischen Substrat als Grundplatte, auf der eine gedruckte Schaltung angebracht ist, an der ein aus Silicium bestehendes Halbleiterplättchen oder mehrere solcher Halbleiterplättchen angelötet sind.
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In integrated circuit packaging, it is common practice to bond the connectors of the integrated circuit chip to a printed circuit pattern on a substrate material, such as a ceramic material.
Bei der Packung hochintegrierter Schaltungen ist es üblich, die Anschlußdrähte der integrierten Schaltungsplättchen mit der gedruckten Schaltung auf einem Substrat aus keramischem Material zu verbinden.
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Connection to the printed circuit pattern is made by pins which pass through the substrate and are conductively connected to the pattern on one side of the substrate and project perpendicular to the plane of the substrate on its opposite side.
Die Verbindung mit der gedruckten Schaltung wird dabei durch Steckerstifte hergestellt, die das Substrat durchdringen und mit den elektrischen Leitungen auf einer Seite des Substrats leitend verbunden sind und senkrecht zur Ebene des Substrats auf seiner gegenüberliegenden Seite herausragen.
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Each dry-resist layer is exposed under a positive original of a circuit pattern, in the usual manner, the support films are peeled from the resist layers and the layers are developed with an aqueous-alkaline solution, such that the unexposed layer areas are rinsed off.
Jede Trockenresistschicht wird wie üblich unter einem Positiv eines Schaltbilds belichtet, die Trägerfolien werden von der Resistschicht abgezogen und die Schichten mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt, wobei die unbe lichteten Schichtbereiche ausgewaschen werden.
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Especially mixtures of chromic acid and sulfuric acid make it possible to obtain a firm bond between the subsequently formed conductive circuit pattern and the adhesive layer.
Insbesondere Gemische aus Chromsäure und Schwefelsäure ermöglichen es, daß das später gebildete leitende Schaltungsmuster fest an die Klebstoffschicht gebunden wird.
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In the processing procedure, the metal layer, particularly the copper layer, is covered with a stencil corresponding to the configuration of the desired circuit pattern, as is known in the art.
Dabei wird in bekannter Weise die Metall-, insbesondere Kupferschicht mit einer Schablone abgedeckt, die dem Aufbau des gewünschten Schaltungsmusters entspricht.
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By means of the process according to the invention it is also possible first to negatively overlay the through-hole contacting plated printed circuit boards with a screen or photo print and then to produce the circuit pattern image upon exposure and development.
Es ist mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens auch möglich, die durchkontaktierten Leiterplatten zunächst negativ mit einem Sieb- oder Photodruck zu belegen, um nach dem Belichten und Entwickeln das Leiterbild zu erzeugen.
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It is further possible to selectively produce the circuit pattern image by screen or photo printing after the catalytic activation of the bored substrate material and then selectively to galvanically metallize the exposed, already activated areas.
Schließlich ist es möglich, das Leiterbild nach der katalytischen Aktivierung des gebohrten Basismaterials selektiv mittels Sieb- oder Photodruck herzustellen, um anschließend selektiv auf den freiliegenden, bereits aktivierten Flächen galvanisch zu metallisieren.
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A copper-laminated circuit board (35 ?m Cu) is coated, as described in Example 1, with the solution, and exposed for 60 pulses (about 12 seconds) under a circuit board pattern.
Eine kupferkaschierte Leiterplatte (35 µm Cu) wird mit der Lösung, wie in Beispiel I beschrieben, beschichtet und während 60 Impulse (etwa 12 Sekunden) mit einem Leiterplattenmuster belichtet.
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The coordinate table 10 is designed in known manner for the stepwise displacement of the substrate 6 in order to image the circuit pattern of the mask 2 in consecutive steps on predetermined areas 7 according to the step-and-repeat process.
Der Koordinatentisch 10 ist in bekannter Weise zur schrittweisen Verschiebung des Substrats 6 vorgesehen, um das Schaltungsmuster der Maske 2 in aufeinanderfolgenden Schritten auf vorbestimmten Bereichen 7 nach dem Step-and-Repeat-Verfahren abzubilden.
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By changing the auxiliary Wehnelt voltages UW and UQ the line of the electron beam generated by the Wehnelt electrode W can be rotated such that, in combination with the slot diaphragm FS3, the beam is disposed in a favorable direction for generating the desired circuit pattern on the target.
Durch Änderung der Wehnelt-Zusatzspannungen U w, U, läßt sich die von der Fernfokus-Multipol-Wehnelt-Elektrode W erzeugte Linie der Elektronenintensität jeweils so drehen, daß sie in Kombination mit der strukturierenden Schlitzblende FS3 für die Erzeugung des Schaltungsmusters auf dem Target in einer günstigen Richtung liegt.
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A 24×36 cm board composed of epoxy resin impregnated glass cloth and having a circuit pattern deposited on both sides, composed of 0.2 to 1.5 mm wide and 50 to 90 ?m thick copper tracks and plated-through drill holes was plated over the entire surface with the solution described under (d) using a semiautomatic screen printing machine (Alfra Plan 50/70).
Eine 24 x 36 cm große Platte aus Epoxidharz-­Glasgewebe mit einem beidseitig aufgebrachten Schaltbild aus 0,2 bis 1,5 mm breiten und 50 bis 90µm dicken Kupferbahnen und durchkontaktierten Bohrungen wurde mit der unter d) beschriebenen Lösung mittels einer halbautomatischen Siebdruck­maschine (Alfra-Plan 50/70) vollflächig beschich­tet.
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Then the resist layer is exposed under a circuit pattern which reproduces the desired conductive paths and the platedthrough holes which are required.
Danach wird die Resistschicht unter einem Schaltbild belichtet, das die gewünschten Leiterzüge und die benötigten Durchkontaktierungslöcher wiedergibt.
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This is because during the manufacture of the circuit pattern, i.e. during firing, glass diffuses into the conductor layer.
Dies hat seine Ursache darin, dass Glas bei der Herstellung des Schaltungsmusters, d.h. beim Brennen, in die Leiterschicht diffundiert.
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