Translation of "Chemical vapour deposition" in German

Plasma enhanced Chemical Vapour Deposition (CVD) equipment as follows:
Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt:
DGT v2019
This process is known as plasma MOCVD (plasma metal organic chemical vapour deposition).
Dieses Verfahren wird Plasma-MOCVD (Plasma-Metal Organic Chemical Vapour Deposition) genannt.
EuroPat v2
More preferably, the alitising is carried out by means of chemical vapour deposition.
Weiter vorzugsweise erfolgt die Alitierung durch chemische Gasphasenabscheidung.
EuroPat v2
For coating the DLC layer on this substructure, the researchers are using plasma-enhanced chemical vapour deposition.
Für den Aufbau der DLC-Schicht auf diesem Untergrund nutzen die Forscher die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung.
ParaCrawl v7.1
These methods include vacuum methods (sputtering, chemical vapour deposition) and wet-chemical methods.
Zu diesen Verfahren zählen Vakuumverfahren (Sputtern, chemische Gasphasenabscheidung) und nasschemische Verfahren.
EuroPat v2
Gas-phase methods include chemical vapour deposition, laser ablation deposition, sputtering techniques or ignition at high temperatures.
Gasphasenmethoden beinhalten die chemische Gasphasenabscheidung, Laser-Ablations-Deposition, Sputtering-Techniken, oder Glühungen bei hohen Temperaturen.
EuroPat v2
The production of the diamond electrodes can be carried out in particular in two specific CVD processes (Chemical Vapour Deposition).
Die Herstellung der Diamantelektroden kann insbesondere in zwei speziellen CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) erfolgen.
EuroPat v2
Such a diffusion barrier can be deposited for example by sputtering, by chemical vapour deposition or by powder plasma spraying.
Eine solche Diffusionsbarriere kann beispielsweise durch Sputtern, Chemical Vapor Deposition oder durch Pulverplasmaspritzen aufgetragen werden.
EuroPat v2
Vacuum evaporation, sputtering and chemical vapour deposition are particularly suitable methods for applying an inorganic biocidic agent.
Zum Aufbringen eines anorganischen bioziden Wirkstoffs besonders geeignet sind Vakuumverdampfen, Sputtern und chemical vapor deposition.
EuroPat v2
The invention relates to a device and a method for continuous chemical vapour deposition under atmospheric pressure on substrates.
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur kontinuierlichen Gasphasenabscheidung unter Atmosphärendruck auf Substraten.
EuroPat v2
The chroming layer is preferably applied by chemical vapour deposition (CVD).
Die Chromierungsschicht wird vorzugsweise durch die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapour Deposition - CVD) aufgebracht.
EuroPat v2
Note: 2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.
Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.
DGT v2019

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