Übersetzung für "Bulk silicon" in Deutsch

The required holes come from the bulk of the silicon, where they are thermally regenerated.
Die benötigten Löcher kommen dabei aus dem Volumen des Siliciums, wo sie thermisch nachgeneriert werden.
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I claim: A process for increasing the minority carrier recombination lifetime in a silicon body contaminated with a metal selected from the group consisting of iron, chromium, cobalt, manganese, zinc and vanadium, the process comprising storing the silicon body at a storage temperature and for a storage period sufficient to cause the metal to diffuse from the bulk of the silicon body to the surface of the silicon body to measurably increase the minority carrier recombination lifetime of the silicon body, the storage period being at least about 48 hours.
Ein Verfahren zur Erhöhung der Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebendauer in einem Siliciumkörper, der mit einem aus der aus Eisen, Chrom, Kobalt, Mangan, Zink und Vanadium bestehenden Gruppe ausgewählten Metall verunreinigt ist, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß der Siliciumkörper bei einer ausreichenden Lagertemperatur und für eine ausreichende Lagerungsdauer gelagert wird, um eine Diffusion des Metalls aus dem Inneren des Siliciumkörpers an die Oberfläche des Siliciumkörpers zu bewirken und die Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebensdauer des Siliciumkörpers meßbar zu erhöhen, wobei die Lagerdauer mindestens 48 Stunden beträgt.
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A process for increasing the minority carrier recombination lifetime in a silicon body component of a photovoltaic cell, which silicon body is contaminated with a metal selected from the group consisting of iron, chromium, cobalt, manganese, zinc and vanadium, the process comprising storing the silicon body at a storage temperature and for a period sufficient to cause the metal to diffuse from the bulk of the silicon body to the surface of the silicon body to measurably increase the minority carrier recombination lifetime.
Ein Verfahren zur Erhöhung der Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebendauer in einer Siliciumkörperkomponente einer photovoltaischen Zelle, deren Siliciumkörper mit einem aus der aus Eisen, Chrom, Kobalt, Mangan, Zink und Vanadium bestehenden Gruppe ausgewählten Metall verunreinigt ist, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist,
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A process for increasing the minority carrier recombination lifetime in a silicon body having a monocrystalline surface, the silicon body being contaminated with a metal selected from the group consisting of iron, chromium, cobalt, manganese, zinc and vanadium, the process comprising storing the silicon body at a storage temperature and for a storage period sufficient to cause the metal to diffuse from the bulk of the silicon body to the monocrystalline surface of the silicon body to measurably increase the minority carrier recombination lifetime of the silicon body, the storage period being at least about 48 hours.
Ein Verfahren zur Erhöhung der Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebensdauerin einem Siliciumkörper mit einer monokristallinen Oberfläche, wobei der Siliciumkörper mit einem aus der aus Eisen, Chrom, Kobalt, Mangan, Zink und Vanadium bestehenden Gruppe ausgewählten Metall verunreinigt ist, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß der Siliciumkörper bei einer ausreichenden Lagertemperatur und für eine ausreichende Lagerzeit gelagert wird, um eine Diffusion des Metalls vom Inneren des Siliciumkörpers an die monokristalline Oberfläche des Siliciumkörpers zu bewirken und die Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebensdauer im Siliciumkörper meßbar zu erhöhen, wobei die Lagerdauer mindestens 48 Stunden beträgt.
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The silicon body is stored at a temperature and for a period sufficient to cause a sufficient amount of iron to diffuse from the bulk of the silicon body to the surface of the silicon body to measurably increase the minority carrier recombination lifetime of the silicon body.
Der Siliciumkörper wird bei einer ausreichenden Temperatur und für eine ausreichende Dauer gelagert, um die Diffusion einer ausreichenden Menge Eisen aus dem Innern des Siliciumkörpers an die Oberfläche des Siliciumkörpers zu bewirken und die Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebensdauer des Siliciumkörpers meßbar zu erhöhen.
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Iron would remain at the surface of the silicon, or at an interface between the silicon and a surface layer, where it would not significantly reduce the minority carrier diffusion length of the silicon bulk.
Das Eisen würde an der Oberfläche des Siliciums oder an einer Grenzschicht zwischen dem Silicium und einer Oberflächenschicht bleiben, wo es die Minoritätsladungsträger-Diffusionslänge des Silicium-Inneren nicht erheblich reduzieren würde.
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The data of Tables 4 and 5 demonstrate that the density of internal gettering sites in the bulk of a silicon wafer can be individually adjusted to a desired level independent of the initial oxygen content.
Die Daten der Tabellen 4 und 5 zeigen, daß die Dichte der Innenstörstellen in der Masse einer Siliziumscheibe individuell auf einen gewünschten Stand, unabhängig vom Ausgangssauerstoffgehalt, eingestellt werden kann.
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The difference in oxygen concentration before and after this precipitation cycle, therefore, is a measure for the density of internal gettering sites in the bulk of the silicon wafer, and is referred to as a drop in interstitial oxygen in this application.
Die Differenz der Sauerstoffkonzentration vor und nach diesem Ausscheidungszyklus ist daher ein Maß für die Dichte der Innenstörstellen in der Masse der Siliziumscheibe und wird nachfolgend als eine "Abnahme des interstitiellen Sauerstoffs" in dieser Anmeldung bezeichnet.
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The length of the storage period should be sufficient for the diffusion of significant amounts of iron from the bulk of the silicon to its surface.
Die Länge der Lagerzeit sollte für die Diffusion bedeutender Eisenmengen aus dem Inneren des Siliciums an seine Oberfläche ausreichend sein.
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The silicon body is stored at a temperature and for a period sufficient to cause metal to diffuse from the bulk of the silicon body to the surface of the silicon body to measurably increase the minority carrier recombination lifetime.
Der Siliciumkörper wird bei einer ausreichenden Temperatur und für eine ausreichende Dauer gelagert, um eine Diffusion des Metalls aus dem Inneren des Siliciumkörpers an die Oberfläche des Siliciumkörpers zu bewirken und die Minoritätsladungsträger-Rekombinationslebensdauer meßbar zu erhöhen.
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The substrate material may be, for example, silicon carbide SiC, sapphire, silicon, bulk GaN (volume GaN) or bulk AlN (volume AlN).
Das Substratmaterial kann beispielsweise Siliziumkarbid SiC, Saphir, Silizium, Bulk-GaN (Volumen-GaN) oder Bulk-AlN (Volumen-AlN) sein.
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The method according to the present invention is based on a skillful combination of tried-and-trusted surface micromechanical process blocks having a standard etching method for the bulk silicon, starting from the rear of the substrate.
Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf einer geschickten Kombination von bewährten oberflächenmikromechanischen Prozessblöcken mit einem von der Substratrückseite ausgehenden Standard-Ätzverfahren für das Bulk-Silizium.
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For this reason, H 3 SiCl has hitherto also not been used for the deposition of silicon, for example as silicon bars (bulk silicon) or silicon layers.
Daher wird H 3 SiCl bislang auch nicht für die Abscheidung von Silizium bspw. als Silizium-Stangen (bulk Silizium) oder Silizium-Schichten verwendet.
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This refinement of the method is preferably realized with an SOI wafer, wherein the wafer section with the circuit structures is formed in the upper semiconductor layer of the SOI wafer and wherein the lower material layer (bulk silicon) is etched out before or after the production of the circuit structures.
Besonders bevorzugt wird diese Ausgestaltung des Verfahrens mit einem SOI-Wafer realisiert, wobei der Waferabschnitt mit den Schaltungsstrukturen in der oberen Halbleiterschicht des SOI-Wafers ausgebildet wird und wobei die untere Materiallage (Bulk-Silizium) vor oder nach der Erzeugung der Schaltungsstrukturen herausgeätzt wird.
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