Übersetzung für "Etch rate" in Deutsch
The
etch
rate
can
be
ascertained
at
a
selected
point
from
this
diagram.
Aus
diesem
Diagramm
kann
die
Ätzrate
in
einem
ausgewählten
Punkt
ermittelt
werden.
EuroPat v2
There
are,
however,
substrate
materials
whose
etch
rate
is
strongly
temperature-dependent.
Es
gibt
aber
auch
Substratmaterialien,
deren
Ätzrate
stark
temperaturabhängig
ist.
EuroPat v2
The
etch
rate
of
RIE
resist
is
preferably
equal
to
that
of
RIE
polysilicon.
Die
Ätzrate
beim
reaktiven
Ionenätzen
der
Photolackschicht
ist
vorzugsweise
gleich
der
für
polykristallines
Silicium.
EuroPat v2
Polydimethylsiloxane
resin
unfortunately
has
a
relatively
slow
etch
rate
even
with
its
preferred
CF4
plasma
etchant.
Polydimethylsiloxanharz
besitzt
unglücklicherweise
eine
relativ
niedrige
Ätzrate,
selbst
bei
bevorzugt
angewendetem
Gasentladungsätzen
mit
Tetrafluorkohlenstoff.
EuroPat v2
The
minimum
flow
rate
of
the
etchant
is
generally
determined
by
the
desired
etch
rate.
Die
unterste
Grenze
für
die
Fließgeschwindigkeit
des
Ätzmittels
wird
im
allgemeinen
durch
die
gewünschte
Ätzrate
bestimmt.
EuroPat v2
It
should
not
exceed
about
15
percent
by
volume
in
order
to
maintain
the
favorable
etch
rate
ratio
of
silicon
dioxide
to
silicon.
Er
sollte
15
Vol.%
nicht
überschreiten,
damit
ein
günstiges
Ätzratenverhältnis
von
Siliciumdioxid
zu
Silicium
aufrechterhalten
werden
kann.
EuroPat v2
At
0.15
torr
or
above
the
etch
rate
of
silicon
has
increased
relative
to
silicon
dioxide
so
that
the
ratio
of
oxide
to
silicon
is
down
to
about
1.6
to
1.
Bei
19,995
Pa
oder
darüber
hat
die
Ätzrate
von
Silicium
relativ
zu
Siliciumdioxid
zugenommen,
so
daß
das
Ätzratenverhältnis
von
Oxid
zu
Silicium
auf
einen
Wert
von
etwa
1,6
zu
1
absinkt.
EuroPat v2
The
excess
silicon
dioxide
is
conveniently
removed
by
reactive
ion
etching
and
with
the
help
of
an
optical
film
thickness
monitoring
system
or
by
the
knowledge
of
the
etch
rate
of
the
silicon
dioxide.
Der
Überschuß
des
Siliciumdioxids
wird
bequem
mittels
reaktiven
Ionenätzens
und
mit
der
Hilfe
eines
optischen
Filmdickenmeßsystems
oder
wenn
die
Geschwindigkeit,
mit
der
das
Siliciumdioxid
geätzt
wird,
bekannt
ist,
auch
ohne
ein
solches
System,
entfernt.
EuroPat v2
The
addition
of
about
5
to
30%
by
volume
with
a
preferred
range
of
about
10
to
20%
by
volume
of
water
vapor
to
the
etching
gas
mixture
of
oxygen
or
noble
gas
and
polychlorinated
compound
prevents
significant
etching
of
silicon
dioxide
and
silicon
nitride
and
does
not
decrease
the
etch
rate
of
chromium.
Der
Zusatz
von
ungefähr
5
bis
ungefähr
30
Volumprozent
-
der
bevorzugte
Bereich
liegt
zwischen
ungefähr
10
und
etwa
20
Volumprozent
-
von
Wasserdampf
zu
der
aus
der
mehrfach
chlorierten
Verbindung
und
Sauerstoff
oder
Edelgas
bestehenden
Ätzgasmischung
verhindert
eine
beachtliche
Ätzung
von
Siliciumdioxid
und
Siliciumnitrid
und
vermindert
nicht
die
Ätzgeschwindigkeit
von
Chrom.
EuroPat v2