Übersetzung für "Wafersäge" in Englisch

Ganz zum Schluss erfolgt das komplette Vereinzeln des Wafers auf der Wafersäge.
At the very end, the wafer is fully diced on the wafer saw.
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Dann wird die Halbleiterscheibe 11 mit ihrer angesinterten Metallpulverschicht 10 in gewohnter Weise auf die Klebefolie 17 aufgeklebt und durch eine Wafersäge entlang den auf der Halbleitervorderseite markierten Trennungslinien, z.B. 12 bis 15, in die einzelnen Halbleiterkörper, z.B. 1 bis 1c, zerteilt.
The semiconductor wafer 11 is then glued onto the adhesive film 17 in a standard way with its sintered-on powdered metal layer 10 and is divided into the individual semiconductor bodies, for example 1 through 1c, with a wafer saw along the parting lines, for example 12 through 15, marked on the front side of the semiconductor.
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Im letzten Schritt wurden die Wellenleiter mit einer Wafersäge vereinzelt, wobei der Sägeschnitt in einem Abstand von ca. 20 µm von der Wellenleiterkante erfolgte.
In the last step, the waveguides are sliced into individual pieces using a wafer saw, the saw cut being made at a distance of approximately 20 ?m from the waveguide edge.
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Dadurch ist eine hohe Designfreiheit gegeben und der Vereinzelungsprozess wird unabhängig von aufwendigen Anlagenänderungen, wie dieses beispielsweise bei einem Wechsel zwischen Sägeblättern einer konventionellen Wafersäge mit unterschiedlicher Schnittbreite notwendig wäre.
A high design freedom is thus provided and the separation process becomes independent of complex facility changes, as would be required, for example, in the event of a change between saw blades of a conventional wafer saw using different cutting widths.
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In bestimmten Fällen, z.B. bei der Herstellung von periodischen Stempelstrukturen, wäre jedoch eine Herstellung derartiger Strukturen mittels Einsägen auf einer Wafersäge eine deutlich billigerer Alternative, jedoch stossen derartige konventionelle Materialabtragetechniken auf folgendes Problem:
In certain cases, for example in the production of periodic stamp structures, producing such type structures by means of sawing in using a wafer saw would be a considerably cheaper alternative, however such type material removal methods encounter the following problem:
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Günstig sind beispielsweise Plasmaprozesse wie reaktives Ionenätzen, Ionenbeschuß, nasschemisches Ätzen oder mechanische Verfahren (Fräsen, Wafersäge, Wasserstrahl) oder eine Bearbeitung mittels Laser.
Favourable are for example plasma processes such as reactive ion etching, ion bombardment, wet chemical etching or mechanical methods (milling, wafer saw, water jet) or a processing by means of laser.
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