Übersetzung für "Hochdotiert" in Englisch
Die
Kathodenschichten
sind
hochdotiert
und
wirken
als
n?-Emmitter.
The
cathode
layers
are
highly
doped
and
act
as
n+
emitters.
EuroPat v2
Alternativ
enthalten
die
Elektrodenbereiche
beispielsweise
polykristallines
Silizium,
das
hochdotiert
ist.
As
an
alternative,
the
electrode
regions
contain
polycrystalline
silicon,
for
example,
which
is
highly
doped.
EuroPat v2
Die
p-dotierte
zweite
Zone
5
ist
jedoch
hochdotiert,
ebenso
wie
die
Unterseite
2
des
Substrats.
However,
the
p-doped
second
zone
5
is
highly
doped,
as
is
the
underside
2
of
the
substrate.
EuroPat v2
Anschließend
wird
das
Substrat
2
von
der
Oberseite
her
mit
einer
eine
P
+-
Leitfähigkeit
vermittelnden
Verunreinigung
hochdotiert.
Subsequently,
substrate
2
is
highly
doped
from
the
upper
side
with
an
impurity
producing
P+
-conductivity.
EuroPat v2
Zur
Herstellung
der
Lochmaske
wird
das
Siliciumplättchen
einseitig
mit
Bor
hochdotiert,
so
dass
an
der
einen
Oberfläche
eine
dünne
Schicht
aus
P
+-
Silicium
entsteht.
For
making
the
hole
mask,
the
silicon
is
highly
doped
with
boron
on
one
side
so
that
a
thin
P+silicon
layer
is
formed
on
the
one
surface.
EuroPat v2
Dadurch,
dass
nur
die
Siliziumbereiche
der
Finger
5
hochdotiert
bzw.
elektrisch
gut
leitend
sind,
ist
sichergestellt,
dass
zwischen
den
Leiterzügen
4
des
Bauteils
2,
welches
mit
den
Kontaktfingern
5
versehen
ist,
keine
Kurzschlüsse
möglich
sind.
Owing
to
the
fact
that
only
the
silicon
areas
of
fingers
5
are
highly
doped,
or
well-conductive
electrically,
respectively,
it
is
made
sure
that
there
can
be
no
shorts
between
conductor
lines
4
of
component
2
fitted
with
contact
fingers
5.
EuroPat v2
Anschliessend
wird
die
der
Rückseite
abgewandte
Oberfläche
(im
folgenden
Vorderseite
genannt)
des
Siliciumkörpers
30
mit
einer
eine
P
+-
Leitfähigkeit
vermittelnden
Verunreinigung
hochdotiert,
wobei
die
Schicht
32
sich
bildet.
Subsequently,
the
surface
facing
away
from
the
back
(hereinafter
referred
to
as
the
front)
of
silicon
wafer
30
is
highly
doped
with
an
impurity
giving
rise
to
a
P+
conductivity,
so
that
layer
31
is
formed.
EuroPat v2
Darüber
wird
die
dünne
Keimbildungsschicht
(20),
die
vorzugsweise
4
µm
dick,
p-leitend
und
hochdotiert
ist,
ausgebildet.
The
thin
nucleation
film
(20),
which
is
preferably
4
?m
thick,
p-conducting
and
highly
doped,
is
formed
above
this.
EuroPat v2
Zur
kapazitiven
Erfassung
der
Deformation
der
membranartigen
Polysiliziumschicht
4
kann
diese
durch
Implantation
im
Bereich
eines
Membrangebietes
6
hochdotiert
werden,
wodurch
eine
Gegenelektrode
zu
der
durch
das
Substrat
1
gebildeten
Elektrode
erzeugt
wird,
wie
dies
insbesondere
in
Fig.
For
capacitively
detecting
the
deformation
of
the
diaphragm-like
polysilicon
film
4,
the
polysilicon
film
4
can
be
doped
heavily
by
implantation
in
the
area
of
a
diaphragm
region
6,
whereby
a
counterelectrode
to
the
electrode
formed
by
the
substrate
1
is
produced,
as
will
especially
be
evident
from
FIG.
EuroPat v2
Das
p-dotierte
Substrat
2
ist
auf
seiner
Unterseite
zur
Herabsetzung
des
Kontaktwiderstandes
hochdotiert
(p
+).
A
p-type
substrate
2
is
heavily
doped
(p+)
at
its
bottom
side
to
reduce
the
contact
resistance.
EuroPat v2
Die
Implantation
hat
die
Wirkung,
daß
in
dem
Randbereich
der
Öffnung,
der
unter
dem
Beschuß
der
Bor-Ionen
liegt,
eine
begrenzte
Zone
der
niedrigdotierten
p-leitenden
Schichten
4
und
6
hochdotiert
werden,
wobei
die
Dotierung
der
Dotierung
der
übrigen
p
+
-Polysiliziumschichten
entspricht.
The
effect
of
the
implantation
is
that
the
peripheral
region
of
the
opening
that
lies
under
the
bombardment
of
the
boron
ions
has
a
limited
highly
doped
zone
located
in
the
low-doped
p-conductive
layers
4
and
6.
This
high
doping
is
equivalent
to
the
doping
of
the
remaining
p+
EuroPat v2
Die
Oberseite
des
Halbleiterfilms
(60)
kann
in
Form
einer
Schicht
(70)
hochdotiert
werden
(z.
B.
bei
p-Grunddotierung
des
Halbleiters
wird
eine
n
+
Schicht
erzeugt,
Homo-pn-Übergang)
oder
die
Schicht
(70)
besteht
aus
einem
anderen
Halbleiter
zur
Erzeugung
einer
Heterostruktur.
The
upper
side
of
the
semiconductor
film
(60)
can
be
highly
doped
in
the
form
of
a
layer
(70)
(for
example
with
p-doping
of
the
semiconductor
base
layer
an
n++
layer
is
generated,
thereby
forming
a
homo-pn-junction),
or
the
layer
(70)
comprises
another
semiconductor
for
generation
of
a
hetero-structure.
EuroPat v2
Diese
zweite
Schicht
kann
aus
einem
Isoliermaterial,
aus
polykristallinem
Silicium
oder
dergleichen
bestehen
und
ist
hochdotiert
mit
einem
P+
Dotiermittel,
z.B
in
diesem
Beispielsfall
mit
Bor.
The
second
layer
is
composed
of
a
material
which
may
be
an
insulator,
polycrystalline
silicon,
or
the
like,
and
highly
doped
with
a
P+
dopant
such
as
boron
in
this
example.
EuroPat v2
Anschließend
wird
die
der
Rückseite
abgewandte
Oberfläche
(im
folgenden
Vorderseite
genannt)
des
Siliciumplättchens
30
mit
einer
eine
P
+-
Leitfähigkeit
vermittelnden
Verunreinigung
hochdotiert,
wobei
die
Schicht
31
sich
bildet.
Subsequently,
the
surface
facing
away
from
the
back
(hereinafter
referred
to
as
the
front)
of
silicon
wafer
30
is
highly
doped
with
an
impurity
giving
rise
to
a
P+
conductivity,
so
that
layer
31
is
formed.
EuroPat v2
Um
zu
vermeiden,
daß
bei
sehr
tiefen
Temperaturen
die
Widerstände
so
hoch
anwachsen,
daß
sie
nicht
mehr
mit
genügender
Genauigkeit
gemessen
werden
können,
werden
die
verwendeten
Halbleiter
hochdotiert,
wodurch
ihr
Widerstand
abgesenkt
wird.
So
as
to
avoid
that
the
resistances,
at
very
low
temperatures,
increase
to
such
a
degree
that
they
can
no
longer
be
measured
with
sufficient
accuracy,
the
semiconductors
used
are
heavily
doped
thereby
decreasing
their
resistance.
EuroPat v2
Die
Tunnelschichten
können
jeweils
hochdotiert
ausgeführt
sein
und
insbesondere
eine
Dotierkonzentration
von
mindestens
1
*
10
19
cm
-3,
weitergehend
von
mindestens
1
*
10
20
cm
-3
aufweisen.
The
tunnel
layers
may
in
each
case
be
highly
doped
and
in
particular
have
a
doping
concentration
of
at
least
1*10
19
cm
?3,
further
of
at
least
1*10
20
cm
?3
.
EuroPat v2
Die
Tunnelschichten
241,
242,
251,
252
können
jeweils
hochdotiert
ausgeführt
sein,
etwa
mit
einer
Dotierkonzentration
von
mindestens
1
*
10
19
cm
-3,
insbesondere
mindestens
1
*
10
20
cm
-1
.
The
tunnel
layers
241,
242,
251,
252
may
in
each
case
be
highly
doped,
for
instance
with
a
doping
concentration
of
at
least
1*10
19
cm
?3,
in
particular
at
least
1*10
20
cm
?3
.
EuroPat v2
Der
Tunnelbereich
ist
vorzugsweise
mittels
zweier
Halbleiterschichten
gebildet,
die
jeweils
mit
zueinander
entgegengesetztem
Vorzeichen
hochdotiert
ausgeführt
sind.
The
tunnel
zone
is
preferably
formed
by
means
of
two
semiconductor
layers,
which
are
in
each
case
highly
doped
with
mutually
opposing
signs.
EuroPat v2
Vorzugsweise
sind
diese
beiden
Halbleiterschichten
5,
6
hochdotiert
ausgeführt,
so
dass
im
Betrieb
ein
effizienter
Tunnelübergang
mit
einem
geringen
elektrischen
Übergangswiderstand
entsteht.
These
two
semiconductor
layers
5,
6
are
preferably
embodied
in
highly
doped
fashion,
thus
giving
rise
to
an
efficient
tunnel
junction
having
a
low
electrical
junction
resistance
during
operation.
EuroPat v2
Die
Source-
und
Drainbereiche
258a,
258b
sind
hochdotiert
und
erstrecken
sich
darüber
hinaus
bis
zu
der
Hauptseite
des
Substrats
210,
von
der
aus
sich
die
Kontaktbereiche
ins
Innere
des
Substrats
erstrecken.
The
source
and
drain
areas
258
a,
258
b
are
heavily
doped
and
extend
beyond
the
same
up
to
the
main
side
of
the
substrate
210,
from
which
the
contact
areas
extend
into
the
interior
of
the
substrate.
EuroPat v2
In
einer
weiteren
bevorzugten
Ausführungsform
können
diese
Dotiergase
in
der
Konzentration
von
0,1
bis
5
%,
also
hochdotiert,
dem
Schutzgas
zugegeben
sein.
In
another
preferred
embodiment,
these
doping
gases
can
be
added
in
a
concentration
of
from
0.1
to
5%,
resulting
in
a
highly
doped
shielding
gas.
EuroPat v2
Der
Lösch-Kontakt
ist
dagegen
vorzugsweise
in
dem
Halbleitersubstrat
auf
dessen
Vorderseite
angeordnet
und
entsprechend
dem
ersten
Dotierungstyp
hochdotiert,
wobei
es
sich
vorzugsweise
um
eine
n
+
-Dotierung
handelt.
On
the
other
hand,
the
clear
contact
is
preferably
arranged
in
the
semiconductor
substrate
on
its
front
side
and
highly
doped
in
accordance
with
the
first
doping
type,
which
is
preferably
an
n
?
-doping.
EuroPat v2
Dieser
wirklich
fesche,
aber
offenbar
gern
auch
geile
Typ
wurde
vom
Vizekanzler
zum
Staatssekretär
für
Integration
gemacht
und
sitzt
seit
wenigen
Monaten
hochdotiert
im
österreichischen
Innenministerium.
This
quite
good-looking
but
also
wannabe
sexy
guy
was
made
State
Secretary
for
Integration
by
the
Vice
Chancellor
and
has
for
a
few
months
now
been
sitting
in
the
Austrian
Home
Office
holding
a
highly
paid
job.
ParaCrawl v7.1
Die
Oberseite
des
Halbleiterfilms
(60)
kann
in
Form
einer
Schicht
(70)
hochdotiert
werden
(z.
B.
bei
p-Grunddotierung
des
Halbleiters
wird
eine
n?Schicht
erzeugt,
Homo-pn-Übergang)
oder
die
Schicht
(70)
besteht
aus
einem
anderen
Halbleiter
zur
Erzeugung
einer
Heterostruktur.
The
upper
side
of
the
semiconductor
film
(60)
can
be
highly
doped
in
the
form
of
a
layer
(70)
(for
example
with
p-doping
of
the
semiconductor
base
layer
an
n++
layer
is
generated,
thereby
forming
a
homo-pn-junction),
or
the
layer
(70)
comprises
another
semiconductor
for
generation
of
a
hetero-structure.
EuroPat v2