Übersetzung für "Grabentiefe" in Englisch
Die
Grabentiefe
von
etwa
40
um
entspricht
der
späteren
Leiterzugdicke.
The
trench
depth
of
about
40
?m
correspondends
to
the
future
conductor
thickness.
EuroPat v2
Auf
diese
Weise
wird
die
Reproduzierbarkeit
der
Grabentiefe
verbessert.
In
this
way,
the
replicability
of
the
trench
depth
is
improved.
EuroPat v2
Die
Grabentiefe
von
etwa
40
pm
entspricht
der
späteren
Leiterzugdicke.
The
trench
depth
of
about
40
?m
correspondends
to
the
future
conductor
thickness.
EuroPat v2
Dieses
Markup
ist
der
Maßstab,
an
dem
gräbt
eine
Grabentiefe
erforderlich.
This
markup
is
the
benchmark
by
which
digs
a
trench
depth
required.
ParaCrawl v7.1
Die
Grabentiefe
liegt
wiederum
innerhalb
des
oben
angegebenen
Bereichs.
The
trench
depth
in
turn
lies
within
the
range
specified
above.
EuroPat v2
Der
Fahrer
hat
jederzeit
die
volle
Kontrolle
über
die
Grabentiefe.
The
operator
has
full
control
of
the
trenching
depth
at
all
times.
ParaCrawl v7.1
Sie
sollte
vorzugsweise
etwa
doppelt
so
dick
sein
wie
die
gewünschte
Grabentiefe
im
Silicium.
Layer
2
should
preferably
be
about
twice
as
thick
as
the
desired
trench
depth
in
the
silicon.
EuroPat v2
Es
werden
zwei
gegenüberliegende
Teile
(Seiten)
der
Grabenwand
bis
zur
selben
Grabentiefe
implantiert.
Two
opposite
parts
(sides)
of
the
trench
wall
are
implanted
down
to
the
same
trench
depth.
EuroPat v2
Durch
den
Implantationswinkel
in
Kombination
mit
der
Breite
des
Grabens
ergibt
sich,
bis
zu
welcher
Grabentiefe
die
Grabenwand
dotiert
wird,
und
damit,
welche
Kanallänge
(nicht-implantierter
mittlerer
Bereich
der
Grabenwand)
verbleibt.
The
implantation
angle
in
combination
with
the
width
of
the
trench
determines
to
what
trench
depth
the
trench
wall
is
doped,
and
thus
what
channel
length
(non-implanted
middle
region
of
the
trench
wall)
remains.
EuroPat v2
Obwohl
das
Ätzverfahren
aufwendiger
ist
und
zudem
eine
Ätzmaske
und
Lithografieschritte
benötigt
werden,
hat
es
den
Vorteil
einer
genaueren
und
gleichmäßigeren
Definition
der
Grabentiefe.
Although
the
etching
method
is
more
involved
and
requires
an
etching
template
and
lithographic
steps,
it
has
the
advantage
of
a
more
accurate
and
more
uniform
definition
of
the
trench
depth.
EuroPat v2
Die
Verwendung
einer
Hartmaske
hat
den
Vorteil,
daß
der
erste
Graben
beziehungsweise
der
zweite
Graben
mit
einer
großen
Grabentiefe
gebildet
werden
kann.
The
use
of
a
hard
mask
has
the
advantage
that
the
first
trench
and/or
the
second
trench
can
be
formed
with
a
large
trench
depth.
EuroPat v2
Die
Ätzung
zur
Bildung
des
ersten
Grabens
5
und
des
zweiten
Grabens
7
wird
beispielsweise
anisotrop
durchgeführt,
um
einen
Graben
mit
hohem
Aspektverhältnis
(Grabentiefe
zu
Grabendurchmesser)
zu
bilden.
The
etching
for
forming
the
first
trench
5
and
the
second
trench
7
is
carried
out
anisotropically,
for
example,
in
order
to
form
a
trench
having
a
high
aspect
ratio
(trench
depth
to
trench
diameter).
EuroPat v2
Der
Erfindung
liegt
deshalb
die
Aufgabe
zugrunde,
unter
Verwendung
der
dreidimensionalen
Integration
der
Bauelemente
eine
1-Transistorzellenanordnung
mit
beherrschbarer
Grabentiefe
für
dynamische
Halbleiterspeicher
anzugeben,
bei
der
neben
einer
Optimierung
der
elektrischen
Parameter,
unter
anderem
bezüglich
Unempfindlichkeit
gegenüber
Herstelltoleranzen,
sowie
der
Minimierung
von
Degradationseffekten
im
Langzeitbetrieb,
eine
weitere
Reduzierung
der
Speicher-Zellfläche
möglich
ist.
The
present
invention
employs
a
three-dimensional
integration
of
the
component
parts,
whereby
there
is
provided
a
1
transistor
cell
arrangement
comprising
a
manageable
trench
depth
for
dynamic
semiconductor
memories
where,
in
addition
to
an
optimization
of
the
electrical
parameters
with
respect
to,
among
other
things,
a
lower
dependence
on
manufacturing
tolerances
as
well
as
a
minimization
of
degradation
effects
in
long
term
operation,
a
further
reduction
of
the
memory
cell
area
is
possible.
EuroPat v2
Die
Folge
dieser
Massnahme
ist
jedoch,
dass
das
erreichbare
Verhältnis
von
Grabentiefe
zu
Grabenbreite
sich
noch
weiter
verkleinert.
However,
the
consequence
of
the
latter
action
is
further
degradation
of
the
groove
depth
to
groove
width
ratio.
EuroPat v2
Sie
erfüllt
ihre
Funktion
erst,
wenn
gemäß
der
Erfindung
eine
zweite
Verbauvorrichtung
in
die
zuvor
beschriebene
erste
Verbauvorrichtung
eingesetzt
und
durch
diese
hindurch
in
eine
größere
Grabentiefe
eingebaut
wird.
It
performs
its
function
only
when,
in
accordance
with
the
invention,
a
second
shoring
device
is
inserted
into
the
above-described
first
shoring
device
and
is
installed
therethrough
to
a
greater
trench
depth.
EuroPat v2
Insbesondere
erhält
man
mit
dem
hier
beschriebenen
Verfahren
einwandfreie
Ränder
der
M
usterelemente
und
das
Verhältnis
von
Grabentiefe
zur
Grabenbreite
kann
hoch
sein.
The
method
described
here
permits
in
particular
perfect
edges
of
the
pattern
elements,
and
the
ratio
of
groove
depth
to
groove
width
can
be
high.
EuroPat v2
Ein
ähnlich
ungünstiger
Konzentrationsgradient
wird
bei
der
Diffusion
aus
PSG-Schichten
nach
dem
oben
erwähnten
Verfahren
als
Folge
einer
mit
zunehmender
Grabentiefe
dünner
werdenden
PSG-Schicht
erzielt.
A
similarly
unfavorable
concentration
gradient
occurs
when
PSG
layers
are
diffused
in
accordance
with
the
above
described
process
due
to
the
fact
that
the
PSG
layer
becomes
thinner
with
increasing
trench
depth.
EuroPat v2
Dreidimensionale
1-Transistorzellenanordnung
nach
Anspruch
1,
dadurch
gekennzeichnet,
daß
die
Tiefe
der
asymmetrischen
Erweiterung
(3)
der
Grabenöffnung
auf
maximal
20
%
der
Grabentiefe
und
die
Erweiterung
auf
maximal
50
%
des
Grabenquerschnittes
eingestellt
wird.
The
three-dimensional,
one-transistor
cell
arrangement
of
claim
1
wherein
the
depth
of
the
asymmetrical
expansion
of
the
trench
opening
is
less
than
or
equal
to
approximately
20%
of
the
trench
depth
and
the
expansion
is
less
than
or
equal
to
approximately
50%
of
the
trench
cross-section.
EuroPat v2
Dreidimensionale
1-Transistorzellenanordnung
nach
einem
der
Ansprüche
1
bis
3,
dadurch
gekennzeichnet,
daß
die
asymmetrische
Erweiterung
(3)
der
Grabenöffnung
im
Substrat
(1)
auf
ca.
0,4
µm
und
ca.
1
µm
Tiefe
bei
einer
Grabentiefe
(2)
im
Bereich
von
4
bis
6
µm
eingestellt
wird.
The
three-dimensional,
one-transistor
cell
arrangement
of
claim
1
wherein
the
asymmetrical
expansion
of
the
trench
opening
in
the
substrate
is
approximately
0.4
?m
and
having
a
depth
of
approximately
1
?m
given
a
trench
depth
between
approximately
4
to
about
6
?m.
EuroPat v2
An
der
Unterseite
des
hergestellten
Grabentiefe
von
25-30
cm
ist
notwendig,
eine
Tonschicht
(ca.
10
cm)
zu
bringen.
At
the
bottom
of
the
prepared
trench
depth
of
25-30
cm
is
necessary
to
put
a
layer
of
clay
(about
10
cm).
ParaCrawl v7.1
Tecnoagri
vorschlagt
eine
weite
Auswahlmodelle
(E
/
F)
mit
ein
Grabentiefe
von
150
bis
360
cm.
Tecnoagri
offers
you
a
wide
range
of
models
(E/F)
with
digging
depths
from
150
to
360
cm.
ParaCrawl v7.1
Wichtig:
Die
Tiefe
des
Grabens
ist
abhängig
von
der
Bodenart:
für
Sandstein
Aquifer
mit
der
Tiefe
mehr
als
2
Meter
ausreichen,
um
eine
Grabentiefe
von
30-40
cm
zu
graben,
und
in
anderen
Fällen
wird
auf
einen
angemessenen
Abstand
zu
gehen.
Important:
The
depth
of
the
trench
depends
on
the
type
of
soil:
for
sandstone
aquifer
with
depth
more
than
2
meters
will
be
enough
to
dig
a
trench
depth
of
30-40
cm,
and
in
other
cases
will
have
to
go
to
a
decent
distance.
ParaCrawl v7.1
Um
zu
bestimmen,
haften
der
Neigungswinkel
der
folgenden
Regel:
je
zehn
Meter
von
der
Route
der
Grabentiefe
erhöht
werden
sollte,
um
einen
halben
Meter.
To
determine
the
slope
angle
adhere
to
the
following
rule:
for
every
ten
meters
of
the
route
of
the
trench
depth
should
be
increased
by
half
a
meter.
ParaCrawl v7.1
So
graben
eine
Grabentiefe
von
0,7
m
bis
1
m
(unter
dem
Gefrierpunkt
Boden),
eine
Breite
von
0,5
-.
So
dig
a
trench
depth
of
0.7
m
to
1
m
(below
freezing
soil),
a
width
of
0.5
-.
ParaCrawl v7.1
Jedoch
wird
die
Aussparung
für
den
Drainbereich
zunächst
nur
bis
zur
gleichen
Tiefe
geätzt
wie
die
Aussparungen
für
die
Gatebereiche
136,
138,
d.h.
weniger
als
die
halbe
Grabentiefe
des
Grabens
134
tief.
However,
the
cutout
for
the
drain
region
is
first
etched
only
to
the
same
depth
as
the
cutouts
for
the
gate
regions
136,
138,
i.e.
to
a
depth
of
less
than
half
the
trench
depth
of
the
trench
134
.
EuroPat v2
Um
ein
Maximum
an
Homogenität
der
Grabentiefe
und
zugleich
eine
minimale
Rauhigkeit
der
Grabenböden
(27)
zu
erzielen,
kann
für
den
Formwafer
21
anstelle
des
Standard
Siliziumwafers
ein
SOI-Wafer
(Silicon
on
insulator
-
Wafer)
entsprechender
Dicke
verwendet
werden,
wobei
die
Gräben
23
bis
auf
die
verborgene
Oxidschicht
geätzt
werden.
To
maximize
homogeneity
of
groove
depth
and
at
the
same
time
to
minimize
roughness
on
the
groove
bottoms
(27),
an
SOI
wafer
(silicon
on
insulator
wafer)
of
equivalent
thickness
can
be
used
for
the
patterned
wafer
21
instead
of
the
standard
silicon
wafer,
the
grooves
23
being
etched
up
to
the
concealed
oxide
layer.
EuroPat v2
Die
Grabentiefe
geht
somit
zumindest
durch
die
beiden
n-
und
p-dotierten
Teilschichten
sowie
die
aktive
Schicht
der
Schichtenfolge.
The
trench
depth
therefore
passes
at
least
through
the
two
n-doped
and
p-doped
sublayers
as
well
as
the
active
layer
in
the
layer
sequence.
EuroPat v2
Aufgrund
der
höhenmodulierten
Oberseite
6
weist
die
Mehrschichtstruktur
7
erste
Abschnitte
11,
die
in
den
Gräben
4
gebildet
sind,
sowie
zweite
Abschnitte
12,
die
auf
den
Stegen
5
gebildet
sind,
auf,
die
zueinander
in
einer
Modulationsrichtung
P2
senkrecht
zur
ersten
Richtung
P1
jeweils
um
die
Grabentiefe
t,
die
auch
als
Modulationstiefe
bezeichnet
werden
kann,
versetzt
sind.
Due
to
the
height-modulated
upper
side
6
the
multilayer
structure
7
has
first
portions
11
which
are
formed
in
the
trenches
4
as
well
as
second
portions
12
which
are
formed
on
the
bars
5,
which
portions
are
disposed
mutually
offset
in
a
modulation
direction
P
2
perpendicular
to
the
first
direction
P
1,
in
each
case
by
the
trench
depth
t
which
can
also
be
referred
to
as
the
modulation
depth.
EuroPat v2
Wie
in
der
Schnittdarstellung
in
der
nicht
unter
die
Erfindung
fallenden
Figur
2
zu
entnehmen
ist,
die
vergrößert
einen
Teil
des
Sicherheitselementes
1
entlang
der
Schnittlinie
A-A
von
Figur
1
zeigt,
umfasst
das
Sicherheitselement
1
einen
Träger
3,
in
dessen
Oberseite
6
in
einer
ersten
Richtung
P1
periodisch
angeordnete
Gräben
4
mit
einer
Grabentiefe
t
ausgebildet
sind.
As
can
be
inferred
from
the
sectional
view
in
FIG.
2,
which
shows
in
an
enlarged
fashion
a
part
of
the
security
element
1
along
the
sectional
line
A-A
of
FIG.
1,
the
security
element
1
comprises
a
carrier
3
in
whose
upper
side
6
there
are
formed
in
a
first
direction
P
1
periodically
disposed
trenches
4
with
a
trench
depth
t.
EuroPat v2