Translation of "Strukturgröße" in English

Ihre laterale Ausdehnung ist unabhängig von der lateralen Strukturgröße der Unebenheiten 2'.
Their lateral expanse is independent of the lateral structure size of the elevations 2'.
EuroPat v2
Die erste Ziffer bezeichnet die Hälfte der Strukturgröße.
The first digit denotes half of the pattern size.
ParaCrawl v7.1
Sie definieren die Strukturgröße einer Herstellungsprozessgeneration.
They define the feature size of a production process generation.
ParaCrawl v7.1
Sie ist ein Maß für die mittlere Strukturgröße des digitalen Bilds.
It is a measure of the mean structural size of the digital image.
EuroPat v2
Die minimale Strukturgröße ist dabei durch die Fertigungstechnologie des Halbleiterprozesses vorgegeben.
The minimum structure size is thereby predetermined by the manufacturing technology of the semiconductor process.
EuroPat v2
Die Mikrostruktur 8 weist eine Strukturgröße von zirka 12 µm auf.
The microstructure 8 has a structure size of approximately 12 ?m.
EuroPat v2
Eine hohe Ortsfrequenz entspricht dabei einer kleinen Strukturgröße.
A high spatial frequency here corresponds to a small structure size.
EuroPat v2
Hierbei liegt die Strukturgröße erfindungsgemäß im Bereich von > 4 µm.
In this case, the structure size is in the range of >4 ?m.
EuroPat v2
Alle Schäume liegen bei einer ähnlichen, mittleren Strukturgröße von ca. 20 µm.
All foams exhibit a similar mean structure size of about 20 ?m.
EuroPat v2
Aufgrund der geringen Strukturgröße ist es schwierig, derartige mikroskopische Risse festzustellen.
On account of the small structure size, it is difficult to ascertain such microscopic cracks.
EuroPat v2
Strukturgröße (sehen Sie Bild unten)
Structure size (see picture below)
ParaCrawl v7.1
Die Tropfengröße kann durch die Veränderung der Strukturgröße der Strukturierung der Oberfläche variiert werden.
The droplet size can be varied by varying the structure size of the surface structure.
EuroPat v2
Die Strukturgröße liegt erneut bei ca. 20 µm, wobei ein deutlich homogeneres Aufschäumen stattgefunden hat.
The structure size is again about 20 ?m, a clearly more homogeneous foaming having occurred.
EuroPat v2
Allerdings ist die Strukturgröße weiterhin zu groß um von der Ausgangsstruktur stammen zu können.
However, the structure size is further too large to be derived from the starting structure.
EuroPat v2
Der so vorbehandelte Teilbereich 150 weist eine feine Rauhigkeit mit geringer Strukturgröße und Strukturtiefe auf.
The subregion 150 so pretreated has a fine roughness with a very small structure size and structure depth.
EuroPat v2
Der Streuwinkelbereich ist unter anderem abhängig von der jeweiligen Strukturgröße des Grundelements in der Beleuchtungs-/Betrachtungsrichtung.
The scattering angle range is dependent, among other things, on the respective structure size of the base element in the illumination/viewing direction.
EuroPat v2
Die Strukturgröße und die Justage von 13 zu 12b sind sehr unkritisch (Fig.
The structure size and the adjustment of 13 to 12 b are very non-critical (FIG.
EuroPat v2
Si3N4/SiO2) sowie durch eine Verringerung der lateralen Strukturgröße der funktionellen Bereiche generiert werden.
Si3N4/SiO2) and also by a reduction in the lateral structural size of the functional regions.
EuroPat v2
Bei der Herstellung hochintegrierter Halbleiterschaltungen besteht eine der wichtigsten Aufgaben darin, unter Zugrundelegung einer minimalen beherrschbaren Strukturgröße möglichst viele Komponenten (z. B. Transistoren) bzw. Funktionseinheiten pro Flächeneinheit unterzubringen.
Prior Art In the production of highly integrated semiconductor circuits, one of the more important goals is to pack as many circuit components (for example transistors) or, respectively, functional units per surface unit based on a controllable minimum size substrate.
EuroPat v2
Das beschriebene Verfahren zur Herstellung des Feldoxyds Dox wird angewendet, um eine Verkleinerung der Strukturgröße und eine Reduzierung der Anzahl der insgesamt erforderlichen Photolackmasken zu erreichen.
The hereinafore described method of producing the field oxide Dox is applied to gain a reduction of the structural size and of the total number of photoresist masks required.
EuroPat v2
Das bedeutet aber, daß die automatische Ausrichtung der einzelnen Halbleiterzonen und Kontakte aufeinander nicht nur eine Reduzierung in der Strukturgröße zuläßt, sondern auch die Eigenschaften, wie Zuverlässigkeit und die Ausbeute erhöht.
Thus, self-alignment not only aids in reduction of device size but also in improving device characteristics, reliability and yield.
EuroPat v2
Bei der Herstellung hochintegrierter Halbleiterschaltungen besteht eine der wichtigsten Aufgaben darin, unter Zugrundelegung einer minimalen beherrschbaren Strukturgröße möglichst viele Komponenten (zum Beispiel Transistoren) bzw. Funktionseinheiten pro Flächeneinheit unterzubringen.
Prior Art In the production of highly integrated semiconductor circuits, one of the more important goals is to pack as many circuit components (for example transistors) or, respectively, functional units per surface unit based on a controllable minimum size substrate.
EuroPat v2
Damit wird pro Speicherzelle ein minimaler Flächenbedarf erforderlich, der im günstigsten Fall bei 4 F 2 liegt, wobei F die in der jeweiligen Technologie kleinste herstellbare Strukturgröße ist.
A minimum area requirement thus becomes necessary for each memory cell and is 4 F2 in the most favorable case, where F is the smallest structure size that can be produced with the respective technology.
EuroPat v2
Werden in dieser Ausführungsform die Gräben mit einer Breite F und einem Abstand F gebildet, wobei F die in der jeweiligen Technologie kleinste herstellbare Strukturgröße ist, und wird die Abmessung der Source/Drain-Gebiete und des Kanalgebiets der planaren MOS-Transistoren in Richtung der Zeilen jeweils entsprechend F gewählt, so sind auf einer Fläche von 2 F 2 eine erste Speicherzelle mit einem planaren MOS-Transistor und eine zweite Speicherzelle mit einem vertikalen MOS-Transistor angeordnet.
If, in this embodiment, the trenches are formed with a width F and a spacing F, F being the smallest structure size that can be produced with the respective technology, and if the dimension of the source/drain regions and of the channel region of the planar MOS transistors in the direction of the rows is in each case chosen to correspond to F, then s first memory cell having a planar MOS transistor and a second memory cell having a vertical MOS transistor are arranged on an area of 2 F2.
EuroPat v2
Das Steuergerät kann eine große Anzahl von Steckerstiften aufweisen, da die Steckerstifte zunächst mit den Leiterbahnen der zweiten Leiterplatte verbunden sind: Durch die kleinere Strukturgröße von Leiterbahnen, Kontaktstiften, Kontaktflächen und Bonddrähten als Verbindungselementen zwischen zweiter und erster Leiterplatte wird das grobe Raster der aufgrund ihrer mechanischen Beanspruchung dick ausgebildeten Steckerstifte in ein wesentlich feineres Anschlußraster der Kontaktflächen umgesetzt.
The control unit may have a large number of plug pins, since the plug pins are first connected to the conductor tracks on the second printed circuit board: as a result of the relatively small structural size of conductor tracks, contact pins, contact surfaces and bonding wires as connecting elements between the second printed circuit board and the first printed circuit board, the coarse grid of the plug pins, which are designed to be close together because of their mechanical stresses, is converted into a considerably finer connecting grid for the contact surfaces.
EuroPat v2
Kleinere oder leicht größere Strukturen als die minimale, in der verwendeten Technologie herstellbaren Strukturgröße lassen sich mit Über-oder Unterätzen von Masken erzeugen.
Structures which are smaller or slightly larger than the minimal producible structural sizes in the utilized technology can be created with over-etching or under-etching of masks.
EuroPat v2
Da einer bloßen Reduktion von Abmessungen der Speicherzelle durch die minimale, in der jeweiligen Technologie herstellbare Strukturgröße F Grenzen gesetzt sind, ist dies auch mit einer Veränderung der Speicherzelle verbunden.
As such, reducing the dimensions of the memory cell is limited by the minimal structural size, that can be produced in the respective technology. In addition, the memory cell may be altered.
EuroPat v2
Diese Ausführungsform ist mit einer minimalen Speicherzellenfläche von 4 F 2 (F: minimale Strukturgröße bei der jeweiligen Technologie) herstellbar.
This embodiment can be produced with a minimum memory cell area of 4 F2 (F: minimum structure size for the respective technology).
EuroPat v2