Translation of "Photolack" in English

Diese Ätzmaske kann wiederum in der geschilderten Weise aus Photolack gebildet werden.
This etching mask can once again be formed in the manner outlined by a photoresist.
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Schliesslich wird die Maske aus Photolack samt dem darüberliegenden Chrom und Gold weggelöst.
Finally, the mask of photoresist and the chromium and gold thereabove are dissolved away.
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Es schließt sich ein Entwicklungsprozeß für den Photolack an.
A development process for the photolacquer is then carried out.
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Dickere Läufer können aus Photolack mit Tiefenlithographie gefertigt werden.
Thicker rotors can be made from photographic lacquer using deep-etch lithography.
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Anschließend wird die Oberfläche mit Photolack beschichtet.
Thereafter, the surface is coated with photoresist to form a photoresist layer.
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In der oberen Schicht 21 besteht das Bindemittel mindestens teilweise aus üblichem Photolack.
In the top layer 21, the fixing agent consists at least in part of common photo-lacquer.
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In den unbelichteten Bereichen 33 der Schicht 21 bleibt der Photolack unverändert.
In the unexposed areas 33 of the layer 21, the photo-lacquer remains unchanged.
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Im darauffolgenden Schritt wird der Photolack entfernt.
The photoresist is removed in the subsequent step.
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Dazu wird die Struktur in ein den Photolack lösendes Medium eingetaucht.
For that purpose, the structure is immersed into a medium dissolving the photoresist.
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Der bei der Strukturierung verwendete Photolack wird vollständig entfernt.
The photoresist used for the structuring is removed completely.
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Hierzu wird ein Photolack auf der Waferunterseite aufgebracht und strukturiert.
For this purpose, a photoresist is applied to the wafer underside and patterned.
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Hierzu wird ein Photolack auf die vorstrukturierte Waferunterseite aufgebracht und strukturiert.
For this purpose, a photoresist is applied to the pre-patterned wafer underside and is patterned.
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Höhere Rotoren können aus Photolack mit Tiefenlithographie gefertigt werden.
Higher rotors can be made out of photographic lacquer using deep etch lithography.
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Diese Füllstrukturen werden mit Hilfe einer zusätzlichen Phototechnik zum Beispiel aus Photolack hergestellt.
These filler structures are produced, for example, of photoresist by using an additional photo technique.
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Nach der Strukturierung der leitfähigen Schicht 3 wird der Photolack 8 entfernt.
After structuring of the conductive layer 3, the photo lacquer 8 is removed.
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In einem nachfolgenden Lift-off-Prozeß wird der Photolack mittels Aceton abgehoben.
In a subsequent liftoff process, the photolacquer is lifted by means of acetone.
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Dann wird der Lack entwickelt und der belichtete Photolack entfernt.
The resist is then developed and the exposed photoresist is removed.
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Anschließend wird das Oxid mit dem Photolack als Maskenschicht geätzt.
The oxide is subsequently etched with the photoresist as a mask layer.
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Dazu werden die Polyimidschichten zunächst vorgetrocknet und dann mit einem Photolack überzogen.
For this purpose, the polyimide layers are first predried and then coated with a photoresist.
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Die Abdeckung 23 kann, wenn sie aus Photolack besteht, gehärtet werden.
The layer 23 when composed of a photolacquer can be hardened.
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Der Begriff "Photolack" umfasst auch olefinisch ungesättigte Verbindungen.
The term "photoresist" also comprises olefinically unsaturated compounds.
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Die Ätzmaske kann wieder in der bereits geschilderten Weise aus Photolack gebildet werden.
The etching mask may be formed in the manner already described from photoresist.
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Es ist vorteilhaft, wenn als Maskenmaterial ein positiver Photolack verwendet wird.
It is of advantage if a positive photoresist is used as mask material.
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Laserstrahlen härten die gewünschte mikrometergroße Struktur in einem Photolack aus.
Laser beams harden the desired microstructure in a photoresist.
ParaCrawl v7.1
Der Photolack wurde im folgenden Schritt mit Aceton entfernt.
In the following step, the photoresist is removed using acetone.
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Die eingeschriebenen Muster und Strukturen stellen Vertiefungen in dem Photolack dar.
The inscribed patterns and structures represent depressions in the photoresist.
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Auch eine Demetallisierung mit einer Photomaske und Photolack ist möglich.
Demetallization with a photomask and photo lacquer is also possible.
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