Translation of "Feinausrichtung" in English

In Fig.13 ist die Feinausrichtung im einzelnen dargestellt.
In FIG. 13 the fine levelling is illustrated in detail.
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Die fehlende Skalierbarkeit ist insbesondere nachteilig bei der Feinausrichtung auf ein Ziel.
The lack of scalability is particularly disadvantageous for fine orientation to a target.
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Für die Feinausrichtung wird die mindestens eine Markierung der Kontaktiervorrichtung optisch erfasst.
The at least one marking on the contact-making apparatus is optically detected for fine alignment.
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Nach Abschluss der Feinausrichtung sind die Kontakte und Gegenkontakte exakt zueinander ausgerichtet.
After completion of the fine alignment, the contacts and mating contacts are aligned exactly with respect to one another.
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Hierdurch ist eine Feinausrichtung durch Austeleskopieren des Auslegers möglich.
A fine alignment by telescoping the boom is hereby possible.
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Die Feinausrichtung erfolgt dann mittels des Manipulators.
The fine alignment then takes place by means of the manipulator.
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Sofort nach der Feinausrichtung kann ein Protokoll erstellt werden.
A report can be prepared immediately after a fine alignment.
ParaCrawl v7.1
Damit soll zum Ausdruck gebracht werden, daß in diesem Bereich noch keine Feinausrichtung stattfindet.
This means that no fine adjusting takes place in this region.
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Durch eine derartige "Feinausrichtung" kann erforderlichenfalls die Genauigkeit der Produktausrichtung weiter verbessert werden.
The precision of the product alignment can be further improved by such a “fine alignment”.
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Dadurch entfallen Zwischenschritte, wie beispielsweise eine Feinausrichtung der Behälter 2 vor der Etikettierung.
Intermediate steps, such as a more precise orientation of the containers 2 prior to labeling, can thus be dispensed with.
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Nach der Feinausrichtung erfolgt die Kontaktierung des Prüflings mittels der Kontakte in einer Prüfposition.
The fine alignment is followed by the contacts making contact with the unit under test in a test position.
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Ein Manipulator mit vier oder mehr Achsen kann dabei die vollständige Feinausrichtung des Flügels übernehmen.
A manipulator having four or more axles can in this respect take over the complete fine alignment of the vane.
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Aufgrund dieser Probleme ist häufig eine Kontrollmessung mit einer zusätzlichen Feinausrichtung der Flasche nötig.
Due to these problems, a check measurement with an additional fine adjustment of the bottle is required.
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Da die Ausrichtung der einzelnen Komplementärmasken in bezug auf die zu belichtenden Halbleiterplättchen durch eine Grobeinstellung durch Verschiebung des Halbleiterplättchens und einer Feinausrichtung durch steuerbare Änderung des Einfallswinkels des Elektronenstrahls auf die Maske erfolgt, können die Einzelbelichtungen in wesentlich schnellerer Reihenfolge als bei den bisher bekannten Verfahren erfolgen.
As the alignment of the semiconductor wafers to be exposed with respect to the individual complementary masks comprises a coarse positioning by shifting the semiconductor wafer, and a fine positioning by controllably altering the angle of incidence of the electron beam onto the mask, the individual exposures can be executed in a much quicker succession than in the formerly known processes.
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Da die Grobeinstellung durch mechanische Verschiebung des Halbleiterplättchens und die Feinausrichtung durch die steuerbare Änderung des Einfallswinkels des Elektronenstrahls unabhängig voneinander erfolgen, genügen für Ausrichtgenauigkeiten von beispielsweise 0,5 o/oo, Ausrichtgenauigkeiten des das Halbleiterplättchen tragenden, verschiebbaren Tisches von 5 % und der Ablenkelektonik des Elektronenstrahls von 1 %, das sind Werte, die leicht verwirklicht, aber auch noch leicht verbessert werden können.
Since coarse positioning by mechanical shifting of the semiconductor wafer and fine positioning by controllably altering the angle of incidence of the electron beam are performed independently of each other for an alignment precision of 5% for the shiftable table carrying the semiconductor wafer and of 1% for the deflection electronics of the electron beam will be sufficent; these are values which can easily be realized but also easily improved still further. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be described below in detail by means of the drawings which show the following:
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Zur Registrierung wird ein zweistufiges Verfahren angewandt: mechanisch-interferometrische Waferregistrierung und schrittweises Verschieben, gefolgt von einer elektronischen Feinausrichtung durch Strahlkippung.
In accordance with the invention, a two-stage method is used for registration: mechano-interferometric water registration and stepwise shifting for coarse registration followed by precision alignment using electron beam registration.
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Da die Grobeinstellung durch mechanische Verschiebung des Halbleiterplättchens und die Feinausrichtung durch die steuerbare Änderung des Einfallswinkels des Elektronenstrahls unabhängig voneinander erfolgen, genügen für Ausrichtgenauigkeiten von beispielsweise 0,5%o, Ausrichtgenauigkeiten des das Halbleiterplättchen tragenden, verschiebbaren Tisches von 5% und der Ablenkelektronik des Elektronenstrahls von 1%, das sind Werte, die leicht verwirklicht, aber auch noch leicht verbessert werden können.
Since coarse positioning by mechanical shifting of the semiconductor wafer and fine positioning by controllably altering the angle of incidence of the electron beam are performed independently of each other for an alignment precision of 5% for the shiftable table carrying the semiconductor wafer and of 1% for the deflection electronics of the electron beam will be sufficent; these are values which can easily be realized but also easily improved still further. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
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Da das Ausstrahlen der Heißluft aus der Luftdüse diffus erfolgt, d.h. daß es sich um einen nicht punktuell, sondern nur flächig gerichteten Luftstrahl handelt, ist es auch nicht unbedingt notwendig, eine zur Feinausrichtung der Luftdüse dienende Meßeinrichtung vorzusehen, da eventuelle kleine Abweichungen des frei zu schneidenden Spaltes von der Ist-Lage durch den diffusen Luftstrom ausgeglichen werden.
Since the hot air is emitted from the air nozzle (that is, the air jet is directed not at a point, but only over an area, it is not absolutely necessary to provide a measuring device for fine alignment of the air nozzle. That is, any small deviations of the gap from the actual position are compensated by the diffuse air current.
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Die Vorrichtung ermöglicht eine Feinausrichtung des empfangenen Strahls unabhängig vom Sendestrahl, wenn der Sendestrahl in der Akquisitionsphase von zwei Terminals nicht beeinflusst werden darf, wobei das eigentliche Sehfeld der Vier-Quadranten-Schaltung überschritten wird und durch ein vorgeschaltetes Teleskop eine sehr präzise Ausrichtung ermöglicht wird.
The device allows a fine adjustment of the received beam independently of the transmitted beam, if in the acquisition phase the transmitted beam is not to be affected by two terminals, wherein the actual field of view of the four quadrant circuit is traversed and a very precise alignment is made possible by means of a series-connected telescope.
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Einer der beiden Spiegel ist zusätzlich über zwei zueinander orthogonale Achsen kippbar und ermöglicht somit eine Feinausrichtung der Lichtstrahlen sowie die Kompensation mechanischer Erschütterungen des Satellitenkörpers.
One of the two mirrors can be tilted in addition in two axes which are located orthogonally in respect to each other and therefore permits the fine adjustment of the light beams as well as a compensation of mechanical vibrations of the satellite body.
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Werden sowohl der zur Feinausrichtung des Empfangsstrahles vorgesehene verkippbare Spiegel sowie derjenige zur Kontrolle des Vorhaltewinkels derart ausgeführt, dass ihr dynamisches Verhalten zur Kompensation von Erschütterungen des Satellitenkörpers hinreichend ist, braucht keiner der Periskopspiegel schnell verkippbar zu sein.
If both the tiltable mirror provided for the fine adjustment of the received beam and that for controlling the lead correction angle are designed in such a way, that their dynamic behavior is sufficient for compensating shocks of the satellite body, none of the periscope mirrors needs to be rapidly tiltable.
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Bei einem bekannten Verfahren erfolgt nach einer Grobausrichtung des Wafers, beispielsweise durch eine Orientierung an dessen geometrischen Rändern, ein Zwischenschritt mit Hilfe erster Marken, die im Folgenden auch als Global-Alignment-Marken bezeichnet werden, bevor die eigentliche Feinausrichtung anhand der Justiermarken erfolgt.
In one known method, after a coarse alignment of the wafer, for example by orientation at its geometrical edges, an intermediate step using first marks (hereinafter also called “global alignment marks”) is performed before the actual fine alignment is accomplished based on the alignment marks.
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Dem Global-Alignment nach dem erfindungsgemäßen Verfahren kann eine Feinausrichtung des Wafers anhand von auf dem Wafer vorhandenen Justiermarken nachgeordnet werden.
Global alignment using the method according to the present invention can be followed by fine alignment of the wafer on the basis of alignment marks present on the wafer.
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Im Verlauf der Absenkbewegung des Dornes 32 erfolgt zunächst eine Feinausrichtung des Formlings 10, so daß dieser genau koaxial zum Dorn 32 angeordnet ist.
In the course of the downward movement of the mandrel 32, the blank 10 is first subjected to a fine orientation or centralising effect so that it is arranged in precise coaxial relationship with the mandrel 32.
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Im Verlauf der Absenkbewegung des Werkzeugs 15 erfolgt zunächst eine Feinausrichtung des Formlings 10, so daß dieser, nachdem im Zuge der Absenkbewegung eine erste Berührung zwischen der Endabschnitt 20 und der inneren Begrenzungswandung 18 des Werkzeugs 15 stattgefun­den hat, der Formling 10 genau koaxial zum Werkzeug 15 ausgerichtet ist.
In the course of the downward movementof the tool 15, the blank 10 is first subjected to a fine alignment effect so that the blank 10 is aligned in precisely coaxial relationship with thetool 15 after a first contact has occurred, in the course of the downward movement of the tool 15, between the end portion 20 of the blank and the inner boundary wall surface 18 of the tool 15.
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Eine derartige Ausgestaltung hat den Vorteil, daß die Feinausrichtung automatisch dann erfolgt, wenn sich die Spindeleinheit in die Werkzeugübergabestellung bewegt und sich die damit verbundene Kopplung des Werkzeugträgers mit der Spindeleinheit dann löst, wenn sich diese in ihre zurückgezogene Ausgangsstellung zurückbewegt.
Such a design has the advantage that the fine adjustment is made automatically when the spindle unit moves to the tool transfer position and the coupling of the tool support with the spindle unit caused thereby is released when the latter returns to its withdrawn starting point.
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Ggf. kann während des Einführens des konischen Endabschnittes 58 des Stempels 44 noch eine Feinausrichtung des Formlings 10 zum Stempel 44 erfolgen, wenngleich dies im allgemeinen nicht erforderlich ist, da die axiale Ausrichtung des Formlings 10 zum Unterteil 42 des Werkzeugs und damit auch zu dessen Stempel 44 beim Einführen des verengten Endabschnittes in das Unterteil 42 oder spätestens beim Hochfahren der Stützhülse 90 bewirkt wird.
Fine alignment of the blank 10 with respect to the punch member 44may possibly also occur as the conical end portion 58 of the punch member 44 is introduced into the blank 10, although that is generally not necessary as axial alignment of the blank 10 with respect to the bottom portion 42 of the tool and thus also with respect to the punch member 44 thereof is effected as the contracted end portion 20 of the blank is introduced into the bottom portion 42 or at the latest when the support sleeve 90 moves upwardly.
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