Translation of "Lochmaske" in English

Die Positionen der Enden der taperförmigen Endabschnitte werden durch eine Lochmaske definiert.
The positions of the ends of the taper-shaped end sections are defined by an aperture mask.
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Die Lochmaske 22 und der Fensterrohling 25 sind geerdet.
The perforated mask 22 and the aperture blank are grounded.
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Dieses Licht kommt von der Lochmaske 7, die in Fig.
This light comes from the shadow mask 7 which, in FIG.
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Durch eine Lochmaske bzw. einer Camera Obscura wurde der Sicheleffekt sichtbar.
An aperture mask like a camera Obscura let the crescent effect became visible.
ParaCrawl v7.1
In diesem Fall kann die Lochmaske 16 weggelassen werden.
In this case, the aperture mask 16 can be omitted.
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Typische Lochdurchmesser in der Lochmaske liegen zwischen 1 µm und 100 µm.
Typical hole diameters in the shadow mask lie between 1 ?m and 100 ?m.
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Das Material der ersten Lochmaske 20 ist für Strahlung im interessierenden Wellenlängenbereich undurchlässig.
The material of the first aperture mask 20 is impermeable to radiation in the wavelength range of interest.
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Die zentral angeordnete Sprengladung SP ist außen von einer Lochmaske LM umgeben.
The centrally arranged explosive charge SP is surrounded by a perforated mask LM on the outside.
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Der Teil der flüssigen Lösung 12 wird dabei gegen die Lochmaske 26 gepresst.
That portion of the liquid solution 12 is pressed against the perforated mask 26 .
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Vor der Bestrahlung wird die Schicht mit einer metallischen Lochmaske abgedeckt.
Before irradiation, the layer is covered with a metallic shadow mask.
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Figur 17 stellt einen weiteren wesentlichen Vorteil der Lochmaske dar.
FIG. 17 shows a further substantial advantage of the shadow mask.
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Über diese Polymerschicht ist eine Lochmaske 4 aufgelegt.
Placed on top of this polymer is a hole mask 4 .
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Das Substrat wurde mit der Emitterschicht nach unten auf eine Lochmaske gelegt.
The substrate was placed on a shadow mask with the emitter layer underneath.
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Durch die Elektronen-Bestrahlung mit einer Lochmaske wird an den unbestrahlten Stellen das Trägermaterial nicht beschädigt.
As a result of the electron beam irradiation with a perforated mask, the backing material is not damaged at the unirradiated points.
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Auf der Siliziumoxid-Schicht 18 befindet sich eine erste Lochmaske 20 aus beispielsweise polykristallinem Silizium.
On the silicon oxide layer 18, a first aperture mask 20 is located that is made of polycrystalline silicon, for example.
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Diese erste Lochmaske 20 weist erste schmale Fenster 22 mit jeweils gleicher Breite auf.
This first aperture mask 20 has narrow first windows 22, each having the same width.
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In der linken Teilabbildung treffen die gestrichelt gezeichneten Detonationsfronten frontal senkrecht auf die Lochmaske LM auf.
In the left partial image, the detonation fronts depicted using dotted lines strike the perforated mask LM perpendicularly at the front.
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Die Lochmaske (134) ist direkt auf dem APD-Array angebracht, wie Figur 16 zeigt.
The shadow mask (134) is attached directly to the APD array, as FIG. 16 shows.
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Mit Hilfe der Lochmaske wird eine Verteilung der Strömung des flüssigen Behandlungsmittels zur Düse erzielt.
With the help of the shadow mask a distribution of the flow of the fluid treatment means to the nozzle is achieved.
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Die Verwendung einer in Abschnitte unterteilten Lochmaske wird besonders bevorzugt, weil sich die Glimmhaut am besten über die gesamte Elektrodenfläche ausbreitet, wenn die Hilfselektrode keine Vorzugsrichtung aufweist, wie dies bei einzelnen Gitterfäden oder Gitterstäben quer zur Entladung gegeben ist.
The utilization of a shadow mask subdivided into sections is particularly preferred since the glow skin spreads best over the entire electrode surface, if the auxiliary electrode shows no preferential direction, as is the case with individual grid threads or grid rods arranged transversely to the discharge.
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Erfindungsgemäß wird dabei im Stirnkantenbereich der Bedämpfungsschicht der stetige Anstieg der Schichtdicke von Null auf den Endwert der Schichtdicke durch den Abstand zwischen der Lochmaske und dem Substrat gesteuert.
According to the invention, the gradual increase of the layer thickness from zero to the final value of the layer thickness is controlled by the distance between the hole mask and the substrate.
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Da die dem Maskenmuster entsprechenden Löcher tiefer in das Silicium hineingeätzt worden sind, als die P +- Siliciumschicht dick ist, liegt nach dem Dünnätzen des Siliciumplättchens eine Lochmaske mit dem gewünschten Muster entsprechenden durchgehenden Löchern vor.
As the holes corresponding to the mask pattern have been etched into the silicon deeper than the thickness of the P+ silicon layer, a hole mask is obtained after the thinning of the silicon wafers with through-holes corresponding to the desired pattern.
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Es wird eine Farbbildröhre mit drei Strahlerzeugersystemen vorgestellt, bei der auf der Lochmaske oder einem mit dieser verbundenen Teil auf der Rückseite phosphoreszierende Markierungen angebracht sind.
A color picture tube comprising three electron-gun systems, in which on the shadow mask or a part connected thereto, phosphorescent marks are attached to the rear side thereof.
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Dies geschieht in der Regel dadurch, daß die Kontaktierbereiche der zu bedampfenden Bauelemente durch Maskierung, beispielsweise mittels Fotolack oder einer Lochmaske geschützt werden oder daß die Kontaktierbereiche nach der Bedampfung durch selektives Ätzen von der EPO-S-Schicht befreit werden.
This is usually accomplished by protecting the contact areas of the components to be vapor-deposited by masking such as by means of photoresist or a perforated mask (shadow mask) or if the EPOS film is removed from the contact areas after the vapor-deposition by selective etching.
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