Translation of "Vitreous silica" in German

The vitreous fused silica 16 is pulled downwardly as indicated by arrow 17.
Das Quarzglas 16 wird, wie durch Pfeil 17 angedeutet, nach unten abgezogen.
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BACKGROUND It has already been proposed that semiconductor substrates be transported automatically into and out of heat treatment furnaces, which are generally tubular furnaces, with the aid of transport devices which feed the semiconductor substrates, contained in magazines of glass or ceramic, normally vitreous silica, horizontally into and out of the furnaces.
Es wurde bereits vorgeschlagen, Halbleitersubstrate automatisch in und aus Wärmebehandlungsöfen, die im allgemeinen Rohröfen sind, mit Hilfe von Transportvorrichtungen zu transportieren, die die in Magazinen aus Glas oder Keramik, normalerweise aus Quarzglas, eingesetzten Halbleitersubstrate in horizontaler Richtung in und aus den Öfen befördern.
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In order to assure the best possible drying action, it has been found desirable for the inner tube, the outer tube and the protective tube to consist of transparent vitreous silica, at least in the heated zones.
Um eine möglichst gute Trocknung zu gewährleisten, hat es sich bewährt, daß das Innenrohr, das Außenrohr und das Schutzrohr wenigstens im Bereich der beheizten Zonen aus Quarzglas besteht, das für Infrarotstrahlung besonders gut durchlässig ist.
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A method in accordance with claim -,1 which includes, after the tube or rod of vitreous fused silica has cooled, removing its outer layer to a depth of 2 mm.
Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß nach Erkalten des Rohres oder Stabes aus Quarzglas dessen Außenschicht bis zu einer Dicke von 2 mm abgetragen wird.
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Component for the transmission of light of high energy density with a wavelength between 250 nm and 400 nm, made of synthetic, high-purity fused vitreous silica, with a light input section having a light entry surface, a light output section having a light exit surface, and a light transmission section disposed between the light input section and the light output section, wherein the fused silica has a hydroxyl ion content in the range between 50 ppm and 1200 ppm and an under-stoichiometric content of oxygen.
Bauteil für die Übertragung von Licht hoher Energiedichte mit einer Wellenlänge zwischen 250 nm und 400 nm, aus synthetischem, hochreinem Quarzglas, mit einem, eine Lichteintrittsfläche aufweisenden Lichteinkoppelbereich, einem, eine Lichtaustrittsfläche aufweisenden Lichtauskoppelbereich und einer zwischen Lichteinkoppelbereich und Lichtauskoppelbereich angeordneten Lichtübertragungsstrecke, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt im Bereich zwischen 50 ppm und 1200 ppm und einen unterstöchiometrischen Gehalt an Sauerstoff aufweist.
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Component according to claim 1 wherein the fused vitreous silica has a hydroxyl ion content of less than 600 ppm, and the under-stoichiometric content of oxygen is such that the fused silica has an absorption band with a maximum in the wavelength range of 240 nm to 250 nm with an intensity of more than 0.1 dB/m.
Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt von weniger als 600 ppm aufweist und der unterstöchiometrische Gehalt an Sauerstoff derart ist, daß das Quarzglas eine Absorptionsbande (5) mit einem Maximum im Wellenlängenbereich von 240 nm bis 250 nm mit einer Intensität von mehr als 0,1 dB/m aufweist.
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Component according to claim 1 wherein the fused vitreous silica has a hydroxyl ion content of at least 200 ppm.
Bauteil nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt von mindestens 200 ppm aufweist.
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Component according to claim 8 wherein the jacket material contains fused vitreous silica doped with at lest one of fluorine and boron.
Bauteil nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Mantelmaterial mit Fluor und/oder Bor dotiertes Quarzglas enthält.
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The invention relates to a method for the continuous production of a tube or rod of vitreous fused silica by heating particulate silicon dioxide to softening temperature in a crucible of a high-melting material, especially one which consists substantially of tungsten or molybdenum, having a bottom outlet in which a shaping tool is disposed, and by continuously drawing the softened silicon dioxide downwardly through an annular space formed between the bottom outlet and the shaping tool, while a hydrogen-containing atmosphere is sustained in the crucible above the silicon dioxide and in the space below the crucible adjoining the shaping region.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines Rohres oder Stabes aus Quarzglas durch Erhitzen von teilchenförmigem Siliziumdioxid auf Erweichungstemperatur in einem Tiegel aus hochschmelzendem Werkstoff, insbesondere aus im wesentlichen Wolfram oder Molybdän, mit Bodenausflußöffnung, in der ein Formwerkzeug angeordnet ist, und kontinuierliches Abziehen des erweichten Siliziumdioxids nach unten durch den zwischen Bodenausflußöffnung und Formwerkzeug gebildeten Ringraum, wobei im Tiegel oberhalb des Siliziumdioxids und im Raum, der sich an den Formgebungsbereich unterhalb des Tiegels anschließt, eine wasserstoffhaltige Atmosphäre aufrechterhalten wird.
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The vitreous fused silica tubes thus produced are free of air bubbles and very clear, and they are characterized by uniform wall thicknesses.
Die so hergestellten Quarzglasrohre sind frei von Lufteinschlüssen und sehr klar und zeichnen sich durch gleichmäßige Wandstärken aus.
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It is an object of the invention to provide a method for the continuous production of rods or tubes of vitreous fused silica whose content of lithium impurities is reduced to levels on the order of 1/10 ppm and less.
Die Erfindung hat sich daher die Aufgabe gestellt, ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Rohren oder Stäben aus Quarzglas zu schaffen, deren Gehalt an Lithium-Verunreinigungen auf Werte in der Größenordnung von 1/10 ppm und weniger vermindert ist.
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After the rod or tube of vitreous fused silica has cooled, its outer layer is preferably removed to a depth of 2 mm.
Nach dem Erkalten des Rohres oder Stabes aus Quarzglas wird vorzugsweise dessen Außenschicht bis zu einer Dicke von 2 mm abgetragen.
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A component for the transmission of light of high energy density with a wavelength between 250 nm and 400 nm is made of synthetic, high-purity fused vitreous silica having a hydroxyl ion content in the range between 50 ppm and 1200 ppm and an under-stoichiometric content of oxygen for the achievement of a minimal transmission variation in the transmission of the light.
Es wird ein Bauteil für die Übertragung von Licht hoher Energiedichte mit einer Wellenlänge zwischen 250 nm und 400 nm aus synthetischem, hochreinem Quarzglas beschrieben, bei dem zur Erzielung einer möglichst geringen Transmissionsänderung bei der Übertragung des Lichtes, das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt im Bereich zwischen 50 ppm und 1200 ppm und einen unterstöchiometrischen Gehalt an Sauerstoff aufweist.
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As an example, this involves silicic acid modifications based on quartz, crystobalite and vitreous fused silica and produced by treating crystalline silicic acid modifications with epoxy silanes.
Es handelt sich dabei beispielsweise um Kieselsäuremodifikationen auf der Basis von Quarz, Cristobalit und Quarzgut, die hergestellt werden durch Behandlung der kristallinen Kieselsäuremodifikationen mit Epoxisilanen.
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These are, for example, silane-modified silicic acid modifications based on quartz, cristobalite and vitreous fused silica.
Es handelt sich dabei beispielsweise um silanmodifizierte Kieselsäure-Modifikationen auf der Basis von Quarz, Cristobalit und Quarzgut.
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Preferred substrates are those consisting of glass, vitreous silica, graphite, metal or silicon or consisting of a coat of silicon, of indium tin oxide, of ZnO:F, of ZnO:Al or of SnO 2:F on a heat-compatible support.
Bevorzugt sind Substrate bestehend aus Glas, Quarzglas, Graphit, Metall, Silicium oder bestehend aus einer auf einem hitzeverträglichen Träger befindlichen Silicium-, Indiumzinnoxid-, ZnO:F-, ZnO:Al- oder SnO 2:F-Schicht.
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