Translation of "Photoacid" in German

In addition, alkaline contaminants can diffuse into exposed areas and deactivate the photoacid there.
Außerdem können basische Verunreinigungen in belichtete Bereiche eindiffundieren und dort die Photosäure desaktivieren.
EuroPat v2
As a photoinitiator (or photoacid), which forms a strong acid when irradiated with DUV light, or with electron or X-ray beams, so-called Crivello salts are used, that is onium salts, such as triphenylsulphonium-hexafluorophosphate.
Als Photoinitiator (bzw. Photosäure), der bei Belichtung mit DUV-Licht, Elektronen- oder Röntgenstrahlen eine starke Säure bildet, dienen sogenannte Crivellosalze, d.h. Oniumsalze, wie Triphenylsulfonium-hexafluorophosphat.
EuroPat v2
The high sensitivity of resist compositions of the above mentioned type can be explained by the fact that during a temperature treatment following the exposure ("post exposure bake"), a single proton produced from the photoacid during exposure, and in fact by means of a photon, catalytically cleaves off multiple acid-cleavable groups, that is it releases a number of alkali-soluble groups.
Die hohe Empfindlichkeit von Resistzusammensetzungen der vorstehend genannten Art erklärt sich daraus, daß bei einer auf die Belichtung folgenden Temperaturbehandlung ("post exposure bake") ein einziges Proton, welches bei der Belichtung aus der Photosäure erzeugt wurde, und zwar durch ein Photon, katalytisch eine Vielzahl der säurespaltbaren Gruppen abspaltet, d.h. eine Vielzahl von alkalilöslichen Gruppen freisetzt.
EuroPat v2
For that, the resist composition has 1 to 50% of a latent photoacid and 50 to 99% of a film-forming, imide-group containing polymer, dissolved together in a solvent.
Die Resistzusammensetzung weist dazu 1 bis 50 % einer latenten Photosäure und 50 bis 99 % eines filmbildenden, Imidgruppen enthaltenden Polymers auf, zusammen gelöst in einem Lösungsmittel.
EuroPat v2
The resist is then blanket exposed to produce photoacid in the previously unexposed areas and then processed to develop the image.
Um in den zuvor unbelichteten Bereichen auf photolytischem Wege Säure zu bilden, wird die Photoresistschicht dann ganzflächig be­lichtet und anschließend erwärmt und entwickelt.
EuroPat v2
Coating the substrate with a photoresist film comprising a hydrophobic blocked polymer and a latent photoacid.
Beschichten des Schichtträgers mit einer dünnen Photoresistschicht, die ein hydrophobes blockiertes Polymeres und eine latente, photolytische Säure ent­hält.
EuroPat v2
When a positive photoresist of the type disclosed above is exposed through a pattern mask, photoacid is produced in the irradiated areas.
Wenn ein Positivphotoresist der oben beschriebenen Art durch eine Strukturmaske belichtet wird, entsteht in den bestrahlten Bereichen durch Photolyse eine Säure.
EuroPat v2
In the areas which were irradiated by the original (masked) exposure, the photoacid has been rendered ineffective by the neutralization step (3), so the removal of the acid labile groups does not proceed and the polymer remains insoluble.
Dagegen ist in den bei der ursprünglichen Belich­tung mit Kopiermaske bestrahlten Bereichen die photolytisch gebildete Säure durch den Neutralisierungsschritt 3 un­wirksam geworden, so daß die säureabspaltbaren Gruppen nicht entfernt werden und das Polymere unlöslich bleibt.
EuroPat v2
The important characteristics of the base are a reasonably high vapor pressure at room temperature and the ability to penetrate the film and react with the photoacid.
Die wesentlichen Merkmale der Base sind ein angemessen hoher Dampfdruck bei Raumtemperatur und die Fähigkeit, in die Schicht einzudringen und mit der photolytisch gebilde­ten Säure zu reagieren.
EuroPat v2
The crosslinking can be initiated by addition of a photoacid, i.e. a compound which liberates protons on irradiation with light of suitable wavelength, and irradiation with light, as described, for example, in the unpublished application DE 102004009355.5.
Die Vernetzung kann durch Zusatz einer Photosäure, also einer Verbindung, die unter Bestrahlung mit Licht geeigneter Wellenlänge Protonen freisetzt, und Bestrahlung mit Licht initiiert werden, wie beispielsweise in der nicht offen gelegten Anmeldung DE 102004009355.5 beschrieben.
EuroPat v2
At that time, the photoacid becomes soluble in alkali, as in the novolac resin, so that the composition can be removed from those portions of a surface which have been exposed to radiation.
Erst dann wird die Säure abspaltende Verbindung ebenso wie das Novolak­ harz alkalilöslich, so daß das Gemisch in den belichteten Bereichen der Photoresist-Oberfläche entfernt werden kann.
EuroPat v2
The polymers have an acid sensitive acetal or ketal moiety which is removed by a catalytic reaction when the photoacid is exposed to radiation, leaving the imide nitrogen atoms still blocked by a methylol group, or substituted methylol group, which is removed when the exposed composition is developed in an aqueous alkaline solution.
Die Polymerisate besitzen eine säureempfindliche Acetal- oder Ketaleinheit, die bei der Bestrahlung der Säure abspaltenden Verbindung durch eine katalytische Reaktion abgespalten wird, wobei die Imidstickstoffatome noch durch eine Methylol- oder substituierte Methylolgruppe blockiert bleiben, die erst bei der Entwicklung des belichteten Gemischs in einer wäßrig­alkalischen Lösung abgespalten wird.
EuroPat v2
Where the photoacid has provided a Bronsted acid by its rearrangement, the first blocking group is catalytically removed, leaving the second blocking group in place on the nitrogen atoms.
An den Stellen, an denen die bei Belichtung Säure abspaltende Verbindung durch Umlagerung eine Brönsted-Säure entwickelt hat, wird die erste blockierende Gruppe katalytisch entfernt, während die zweite blockierende Gruppe an die Stickstoffatome gebunden bleibt.
EuroPat v2
However, when the latent photoacid is an insoluble material, it prevents the composition from dissolving until exposed to actinic radiation.
Wenn die bei Belichtung Säure abspaltende Verbindung jedoch eine unlösliche Substanz ist, so bleibt das Gemisch durch diese Substanz bis zur Belichtung mit aktinischer Strahlung unlöslich.
EuroPat v2
The Photoresist Composition In addition to the polymers discussed above, the photoresist composition will include a latent photoacid and a solvent and may optionally include stabilizers or other additives.
Außer den oben beschriebenen Polymerisaten enthält das erfin-­dungsgemäße Photoresistgemisch noch eine bei Belichtung Säure abspaltende Verbindung sowie ein Lösemittel und gegebenenfalls Stabilisatoren oder andere Zusätze.
EuroPat v2
The latent photoacid of the present invention will be chosen from neutral substances capable of producing an acid after reaction with actinic radiation.
Die bei Belichtung Säure abspaltende Verbindung dieser Erfin­dung wird aus einer Gruppe neutraler Substanzen gewählt, die nach der Reaktion mit aktinischer Strahlung eine Säure bilden können.
EuroPat v2
Clearly, the photoacid must absorb radiation at the frequency to be used, but it also must convert the radiation efficiently into the acid needed to deblock the polymers.
Natürlich muß die Säure abspaltende Ver­bindung bei der vorgesehenen Frequenz Strahlung absorbieren, aber sie muß die Strahlung auch wirksam in die zur Abspaltung der Polymeren notwendige Säure umwandeln.
EuroPat v2
It is desirable that the latent photoacid not be unstable at temperatures below about 90° C., to allow for the possibility of a baking step, the purpose of which is to remove the resist solvent.
Die Säure abspaltende Verbindung soll bei Temperaturen unter etwa 90 °C nicht instabil sein, so daß die Möglichkeit be­steht, eine Trocknungsbehandlung durchzuführen, mit der das Resistlösemittel vertrieben wird.
EuroPat v2
In recent years his activities have focused on the dynamics of the hydrogen bond structure of photoacid-base complexes and of hydrated protons.
In den letzten Jahren hat er vor allem die Dynamik von Wasserstoffbrückenstrukturen zwischen Säuren und Basen und hydratisierten Protonen auf ultrakurzen Zeitskalen untersucht.
ParaCrawl v7.1
These can be crosslinked in a targeted and controlled manner through addition of a photoacid (compound which liberates protons after irradiation with light of suitable energy).
Diese können durch Zusatz einer Photosäure (Verbindung, die nach Bestrahlung mit Licht geeigneter Energie Protonen freisetzt) gezielt und kontrolliert vernetzt werden.
EuroPat v2
The porous buffer layer can be produced, for example, by forming a layer of the crosslinkable compound for the buffer layer and the porogen from solution, if necessary with addition of auxiliary compounds, such as, for example, a photoacid.
Die poröse Pufferschicht lässt sich beispielsweise erzeugen, indem eine Schicht aus der vernetzbaren Verbindung für die Pufferschicht und dem Porogen aus Lösung, gegenbenenfalls unter Zusatz von Hilfsverbindungen wie beispielsweise einer Photosäure, erzeugt wird.
EuroPat v2