Translation of "Chlorine trifluoride" in German
An
etching
gas
in
non-plasma
dry
chemical
etching
processes
may
be
chlorine
trifluoride
(ClF
3).
Ein
bevorzugtes
Ätzgas
in
plasmalosen
trockenchemischen
Ätzprozessen
ist
Chlortrifluorid
(ClF
3).
EuroPat v2
At
higher
temperatures
and
pressures,
PTFE
reacts
with
elemental
fluorine
and
chlorine
trifluoride.
Bei
höheren
Temperaturen
und
Drücken
reagiert
PTFE
mit
elementarem
Fluor-
und
Chlortrifluorid.
ParaCrawl v7.1
ML8.d.3
does
not
apply
to
chlorine
trifluoride
(CAS
7790-91-2).
Unternummer
ML8d3
erfasst
nicht
Chlortrifluorid
(CAS-Nr.
7790-91-2).
DGT v2019
ML8.d.3
does
not
control
chlorine
trifluoride.
Unternummer
ML8d3
erfasst
nicht
Chlortrifluorid.
TildeMODEL v2018
Chlorine
trifluoride
is
normally
stored
in
pressurized
gas
bottles
which
contain
the
substance
in
a
liquefied
form.
Chlortrifluorid
wird
üblicherweise
in
Druckgasflaschen,
die
die
Substanz
in
verflüssigter
Form
beinhalten,
bevorratet.
EuroPat v2
Additional
chlorine
gas
was
fed
to
the
formed
chlorine
trifluoride
into
gas
inlet
20
via
mass
flow
regulator
23
.
Zusätzliches
Chlorgas
wurde
dem
gebildeten
Chlortrifluorid
über
den
Massenregler
23
in
den
Gaseinlass
20
zugeführt.
EuroPat v2
In
another
specific
embodiment,
the
gases
selected
from
the
group
including
Cl
2
and/or
HCl
may
be
supplied
to
the
process
chamber
separately
from
the
formed
chlorine
trifluoride.
In
einer
weiteren
Ausführungsform
können
die
Gase
ausgewählt
aus
der
Gruppe
umfassend
Cl
2
und/oder
HCl
der
Prozesskammer
getrennt
von
dem
gebildeten
Chlortrifluorid
zugeführt
werden.
EuroPat v2
The
method
of
claim
1,
wherein
the
gas
including
at
least
one
of
Cl
2
and
HCl
is
supplied
to
a
process
chamber
separately
from
chlorine
trifluoride.
Verfahren
nach
einem
der
einem
der
vorherigen
Ansprüche,
dadurch
gekennzeichnet,
dass
das
Gas
ausgewählt
aus
der
Gruppe
umfassend
Cl
2
und/oder
HCl
der
Prozesskammer
(10)
getrennt
von
dem
gebildeten
Chlortrifluorid
zugeführt
wird.
EuroPat v2
Since
liquid
ClF
3
is
extremely
reactive
and,
as
a
strong
oxidizer,
very
hazardous,
and
since
unintended
release
may
cause
severe
damage,
chlorine
trifluoride
is
avoided
by
many
users
despite
its
advantageous
properties.
Da
die
Flüssigkeit
ClF
3
äußerst
reaktiv
und
als
starkes
Oxidationsmittel
sehr
gefährlich
ist,
und
bei
einer
ungewollten
Freisetzung
große
Schäden
anrichten
kann,
wird
Chlortrifluorid
trotz
seiner
vorteilhaften
Eigenschaften
von
vielen
Nutzern
gemieden.
EuroPat v2
Etching
system
5
is
provided
with
a
device
6
for
generating
chlorine
trifluoride
(ClF
3).
Die
Ätzanlage
5
ist
mit
einer
Vorrichtung
6
zur
Erzeugung
von
Chlortrifluorid
(ClF
3)
versehen.
EuroPat v2
Systems
associated
with
devices
for
generating
chlorine
trifluoride
are
disclosed
in
Patent
Specification
DE
102
29
037
A1
to
which
reference
is
hereby
made.
Anlagen,
verbunden
mit
Vorrichtungen
zur
Erzeugung
von
Chlortrifluorid
sind
in
der
Patentschrift
DE
102
29
037
A1
offenbart,
auf
die
hiermit
Bezug
genommen
wird.
EuroPat v2
The
chlorine
and/or
HCl
may
be
added
to
the
formed
chlorine
trifluoride
by
feeding
them
into
gas
inlet
20
via
mass
flow
regulator
23
.
Hierbei
ist
bevorzugt,
dass
Chlor
und/oder
HCl
dem
gebildeten
Chlortrifluorid
zugesetzt
werden,
indem
diese
gesteuert
über
den
Massenregler
23
in
den
Gaseinlass
20
zugeführt
werden.
EuroPat v2
Suitable
etching
gases,
in
particular
the
etching
gas
chlorine
trifluoride,
may
be
stored
in
commercially
available
pressure
bottles
as
liquefied
gas
and
removed
therefrom
in
the
gaseous
form.
Geeignete
Ätzgase,
insbesondere
das
Ätzgas
Chlortrifluorid
können
in
handelsüblichen
Druckgasflaschen
als
verflüssigtes
Gas
bevorratet
und
daraus
gasförmig
entnommen
werden.
EuroPat v2
Particularly
good
values
can
be
achieved
when
using
chlorine
fluoride
or
chlorine
trifluoride
as
the
functional
medium,
but
they
can
be
slightly
more
expensive
than
the
gaseous
fluorine
material
used
here.
Insbesondere
gute
Werte
lassen
sich
erzielen,
bei
Einsatz
von
Chlorfluorid
oder
Chlortrifluorid
als
Funktionsmedium,
die
sich
jedoch
geringfügig
teurer
erweisen
können
als
das
vorliegend
eingesetzte
gasförmige
Fluormaterial.
EuroPat v2
The
halogen
is
preferably
fluorine
or
one
of
its
compounds
such
as
chlorine
fluoride
(ClF)
or
chlorine
trifluoride
(ClF
3).
Als
Halogen
dient
vorzugsweise
Fluor
oder
eines
seiner
Verbindungen
wie
Chlorfluorid
(CIF)
oder
Chlortrifluorid
(CIF
3).
EuroPat v2
Instead
of
the
fluorine-delivering
etching
gas
SF
6
or
NF
3
discussed
in
that
patent,
however,
gaseous
chlorine
trifluoride
ClF
3,
bromine
trifluoride
BrF
3,
or
iodine
pentafluoride
IF
5,
or
a
mixture
of
these
gases
is
added
to
the
process
gas
as
the
etching
gas
in
the
exemplary
embodiment.
Anstelle
des
dort
eingesetzten
fluorliefernden
Ätzgases
SF
6
oder
NF
3
wird
jedoch
dem
Prozeßgas
als
Ätzgas
in
einem
ersten
Ausführungsbeispiel
gasförmiges
Chlortrifluorid
ClF
3,
Bromtrifluorid
BrF
3
oder
Iodpentafluorid
IF
5
oder
eine
Mischung
dieser
Gase
zugesetzt.
EuroPat v2
Chlorine
trifluoride
or
bromine
trifluoride,
which
can
be
supplied
directly
via
a
mass
flow
controller,
may
be
used,
since
they
have
a
sufficiently
high
vapor
pressure.
Bevorzugt
wird
Chlortrifluorid
oder
Bromtrifluorid
eingesetzt,
das
direkt
über
einen
Massenflußregler
zugeführt
werden
kann,
da
es
einen
ausreichend
hohen
Dampfdruck
besitzt.
EuroPat v2