Übersetzung für "Substructuring" in Deutsch

In this case, a triangular function or sinusoidal function is preferably chosen as the substructuring function.
Als Substrukturierungsfunktion wird vorzugsweise hierbei eine Dreiecksfunktion oder sinusförmige Funktion gewählt.
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In that respect a substructuring denotes for example a phase displacement of a subset of image dots or lines with respect to the rest of the raster.
Unter einer Substrukturierung wird dabei beispielsweise eine Phasenverschiebung einer Teilmenge an Bildpunkten oder Linien gegenüber dem übrigen Raster verstanden.
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It is particularly advantageous in this case if the substructuring function varies the deviation of one or both outer contours of the coil-shaped conductor track from the coarse structure.
Besonders vorteilhaft ist hierbei, wenn die Substrukturierungsfunktion die Abweichung einer oder beider Außenkonturen der spulenförmigen Leiterbahn von der Grobstruktur variiert.
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In this case, the substructuring of the conductor track sections is preferably chosen such that the conductor tracks are shaped in wavy fashion and/or in zigzag fashion at least in partial regions of the conductor track section.
Die Substrukturierung der Leiterbahnabschnitte ist hierbei vorzugsweise so gewählt, dass die Leiterbahnen zumindest in Teilbereichen des Leiterbahnabschnitts wellenförmig und/oder zickzackförmig ausgeformt sind.
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As a result of the substructuring of the conductor track sections, therefore, the antenna structure can also be set precisely to the requirements with regard to bandwidth, resonant frequency by means of targeted influencing of the parameters of electrical resistance, inductance and capacitance.
Durch die Substrukturierung der Leiterbahnabschnitte kann somit die Antennenstruktur noch genau auf die Erfordernisse hinsichtlich Bandbreite, Resonanzfrequenz durch gezielte Beeinflussung der Parameter elektrischer Widerstand, Induktivität und Kapazität eingestellt werden.
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Moreover the substructuring of the envelope curve differs from that of the first surface relief, insofar as the element surfaces are spaced from each other at a different optical spacing, here for example an optical spacing of 325 nm, and thus the color value of the diffracted light is influenced by interference in a different way, thereby giving the different color impression of the regions 31 and 32 .
Im weiteren unterscheidet sich die Substrukturierung der Hüllkurve von der des ersten Oberflächenreliefs dahingehend, dass die Elementflächen in einem unterschiedlichen optischen Abstand, hier beispielsweise in einem optischen Abstand von 325 nm voneinander beabstandet sind und so der Farbwert des gebeugten Lichts durch Interferenz in einer anderen Weise beeinflusst wird, wodurch sich der unterschiedliche Farbeindruck der Bereiche 31 und 32 ergibt.
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Thus in this case also the light diffracted by the surface relief 46 is superimposed with interference effects caused by the substructuring, which influence the color value of the light diffracted by the surface relief.
So wird auch hier das von dem Oberflächenrelief 46 gebeugte Licht mit durch die Substrukturierung bewirkten Interferenz-Effekten überlagert, welche den Farbwert des von dem Oberflächenrelief gebeugten Lichts beeinflussen.
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The substructuring of the envelope curve, by which the first item of information is generated substantially by diffraction of the light in the first or minus-first diffraction order means that the color value of the diffracted light is additionally influenced by interference, resulting in a colored optically variable impression which differs significantly from a normal rainbow impression.
Durch die Substrukturierung der Hüllkurve, durch welche die erste Information im wesentlichen durch Beugung des Lichts in der ersten oder minus-ersten Beugungsordnung generiert wird, wird der Farbwert des gebeugten Lichts zusätzlich durch Interferenz beeinflusst, so dass sich ein farbiger optisch variabler Eindruck ergibt, der sich signifikant von einem normalen Regenbogenfarbeinruck unterscheidet.
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By the choice of such parameters it is possible to improve the representation of the first item of information and to avoid the substructuring adversely influencing the representation of the first item of information.
Durch die Wahl derartiger Parameter ist es möglich, die Darstellung der ersten Information zu verbessern und zu vermeiden, dass die Substrukturierung die Darstellung der ersten Information negativ beeinflusst.
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This substructuring selectively influences the resistance value of the first and/or second conductor track, in order thus to increase the bandwidth of the antenna, for example.
Durch diese Substrukturierung wird der Widerstandswert der ersten und/oder zweiten Leiterbahn selektiv beeinflusst, um so beispielsweise die Bandbreite der Antenne zu erhöhen.
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The design of the first and/or second coil-shaped conductor track thus arises as a result of additive or multiplicative superposition of a macrofunction which describes the coarse structuring of the coil-shaped conductor track and defines a spiral having a specific predetermined width, for example, and the substructuring function.
Die Formgestaltung der ersten und/oder zweiten spulenförmigen Leiterbahn ergibt sich somit durch additive oder multiplikative Überlagerung einer Makrofunktion, welche die Grobstrukturierung der spulenförmigen Leiterbahn beschreibt und beispielsweise eine Spirale mit einer speziellen vorgegebenen Breite definiert und der Substrukturierungsfunktion.
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The amplitude of the substructuring function is in this case preferably between 1 mm and 10 mm, with further preference between 1.5 mm and 5 mm.
Die Amplitude der Substrukturierungsfunktion beträgt hierbei vorzugsweise zwischen 1 mm und 10 mm, weiter bevorzugt zwischen 1.5 mm und 5 mm.
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In this case, amplitude is understood to mean, in particular, the maximum deviation—caused by the substructuring function—of the outer contour or outer contours of the first and/or second coil-shaped conductor track from the coarse structure or the value averaged over a period.
Unter Amplitude wird hierbei insbesondere die durch die Substrukturierungsfunktion verursachte maximale Abweichung der Außenkontur oder der Außenkonturen der ersten und/oder zweiten spulenförmigen Leiterbahn von der Grobstruktur bzw. dem über eine Periode gemittelten Wert verstanden.
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This etch resist is then intended to perform a dual function: the etch resist serves on the one hand for the further substructuring of the finely structured first layer 11 by means of etching and on the other hand subsequently as an exposure mask for structuring a colored area.
Dieser Ätzresist soll anschließend eine Doppelfunktion erfüllen: Einerseits dient der Ätzresist zur weiteren Substrukturierung der fein strukturierten ersten Schicht 11 mittels Ätzen und andererseits später als Belichtungsmaske zur Strukturierung eines Farbbereichs.
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