Übersetzung für "Film deposition" in Deutsch

Films of this kind are applied in a so-called film deposition method, in particular a PECVD method.
Derartige Schichten werden in einem sogenannten Schichtabscheidungsverfahren, insbesondere einem PECVD-Verfahren, aufgebracht.
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The metal layer is preferably applied on the insulation film by vapor deposition.
Die metallische Schicht wird bevorzugt durch Aufdampfen auf der Isolationsfolie aufgebracht.
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The paint film deposition is carried out during 2 minutes at 300 V onto a phosphated steel panel.
Die Abscheidung der Lackfilme erfolgt während 2 min bei 300 V auf phosphatiertem Blech.
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In this case, it is a prerequisite for completely homogeneous crosslinking of the deposited film that electrical deposition of the two hardening components takes place completely uniformly even in respect of time.
Voraussetzung für eine völlig homogene Vernetzung des abgeschiedenen Films ist dort eine auch zeitlich völlig gleichmäßige elektrische Abscheidung der beiden Härtungskomponenten.
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Contradictory exigencies also apply to the formation of a high electric film resistance on deposition in order to achieve a high throwing power versus high film thickness which can only be achieved with a low electric film resistance.
Ähnlich gegensätzliche Forderungen bestehen hinsichtlich der Ausbildung eines hohen elektrischen Filmwiderstandes bei der Abscheidung zur Erzielung eines hohen Umgriffs und dem gleichzeitigen Wunsch nach hohen Filmschichtstärken, die nur bei geringerem elektrischen Filmwiderstand erhalten werden können.
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Similar contradictory requirements exist in respect to the development of a high electrical film resistance during deposition in order to achieve a good throwing power, and the simultaneous desire for a high film thickness with excellent surface quality.
Ähnlich gegensätzliche Forderungen bestehen hinsichtlich der Ausbildung eines hohen elektrischen Filmwiderstandes bei der Abscheidung zur Erzielung eines guten Umgriffs und dem gleichzeitigen Wunsch nach hohen Filmschichtstärken mit exzellenter Flächenqualität.
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The metal layer may be applied by any known process, and is generally applied to the upper side of the film by vapor deposition and generally has a thickness of from about 20 to about 50 nm, the thickness of the metal layer being adjusted in accordance with the desired resistance, which is generally in the order of from 1 to 5 ?/m2.
Die Metallschicht wird im allgemeinen durch Bedampfen auf die Folienoberseite aufgebracht und hat im allgemeinen eine Dicke von 20 bis 50 nm, wobei die Dicke der Metallschicht nach dem erwünschten Widerstand eingestellt wird, der in der Größenordnung von 1 bis 5 ?/m² liegt.
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Accordingly, it is an object of our invention to provide a method for depositing a silver film, which allows deposition of an adherent silver film at comparatively low temperatures and in the absence of solvent.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereitstellung eines Verfahrens, welches die haftfeste Abscheidung von Silberfilmen bei relativ niedrigen Temperaturen, in Abwesenheit von Lösungsmitteln und unter Anwendung einer Glimmentladungszone ermöglicht.
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Similarly, contradictory demands exist in the formation of a high electrical resistance in the film during deposition in order to achieve high throwing power and the simultaneous desire for a relatively thick film layer having excellent surface quality.
Ähnlich gegensätzliche Forderungen bestehen hinsichtlich der Ausbildung eines hohen elektrischen Filmwiderstandes bei der Abscheidung zur Erzielung eines hohen Umgriffs und dem gleichzeitigen Wunsch nach hohen Filmschichtstärken mit exzellenter Flächenqualität.
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It is further preferred if the carbon film is applied using a film deposition method, in particular a PECVD method.
Weiterhin ist es bevorzugt, wenn die Kohlenstoffschicht in einem Schichtabscheidungsverfahren, insbesondere einem PECVD-Verfahren, aufgebracht wird.
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