Übersetzung für "Ionenbeschuss" in Englisch

Dadurch wird ein hochenergetischer Ionenbeschuss erzeugt, der jegliche Verunreinigung entfernt.
This causes high energy ion bombardment that sputters away any contamination.
WikiMatrix v1
Nach dem Ionenbeschuss war kein Fluor mehr auf der beschossenen Fläche nachweisbar.
After ion bombardment, no further fluorine could be found on the bombarded surface.
EuroPat v2
Ebenfalls möglich ist eine Aktivierung unter Ionenbeschuss.
Likewise possible is activation with ion bombardment.
EuroPat v2
Es wurde mittels Ionenbeschuss (Ar +) und ESCA-Analyse bestimmt.
It was determined by means of ion bombardment (Ar +) and ESCA analysis.
EuroPat v2
Weiterhin besitzt CoAl 2 O 4 einen hohen Sekundärelektronenkoeffizienten unter Ionenbeschuss.
Furthermore, CoAl 2 O 4 has a high secondary electron coefficient under ion bombardment.
EuroPat v2
Der Ionenbeschuss des Substrates führt zu erhöhter Wasserstoffdesorption.
The ion bombardment of the substrate leads to an increased hydrogen desorption.
EuroPat v2
Die Vorbehandlung dieses ZnO erfolgt vorzugsweise durch Ionenbeschuss.
The pretreatment of this ZnO preferably is carried out by ion bombardment.
EuroPat v2
Die Dotierung kann dabei beispielsweise durch Ionenbeschuss mit geeigneten Elementen erfolgen.
The doping may in this case be effected by ion bombardment with suitable elements.
EuroPat v2
Beim Ionen-Plattieren wird die Substrat-Oberfläche zunächst mittels Ionenbeschuss im Plasma gereinigt.
The first step is plasma surface cleaning by ion bombardment.
ParaCrawl v7.1
Das Gebiet 1 wird mit den Mikrorillen entweder mechanisch versehen durch Ionenbeschuss oder durch ein anisotropisches chemisches Aetzen.
The region 1 is provided with the serrations either mechanically ion milling, or anisotropic chemical etching.
EuroPat v2
Abgesehen von der Erzeugung der Elektronen an sogenannten heißen Elektroden durch Glühemission kann die Gasentladung auch durch Emission von Elektronen in einem starken elektrischen Feld oder direkt durch Ionenbeschuss (ioneninduzierte Sekundäremission) hervorgerufen werden.
In addition to the generation of the electrons at so-called hot electrodes by means of glow emission, the gas discharge may alternatively be generated through the emission of electrons in a strong electric field, or directly through ion bombardment (ion-induced secondary emission).
EuroPat v2
Die erste Passivierungsschicht 5 wird durch Ionenbeschuss (Sputtern) von der ersten Isolierschicht 2 abgesputtert und wenigstens teilweise als Seitenwandpassivierung 52 an den seitlichen Bereich der Metallschicht 6, der zweiten Isolierschicht 7 und der Hartmaske 8 aufgesputtert.
The first passivation layer 5 is sputtered off the first insulating layer 2 by impacting with ions (sputtering) and is at least partially sputtered, as a side wall passivation layer 52, onto the side region of the metal layer 6, the second insulating layer 7 and the hard mask 8 .
EuroPat v2
Da die zusätzliche Beheizung bei temperaturempfindlichen Stoffen, insbesondere Kunststoffmaterialien, ihre Grenzen hat, ist ein Ionenbeschuss vorteilhaft, denn Verdichtung, d.h. Neuarrangement von Bindungen im Netzwerk in Richtung maximaler Bindungsabsättigung der am Netzwerk beteiligten Atome, kann mit vergleichsweise geringem Wärmeeintrag kombiniert werden.
Since additional heating can have limitations in the case of temperature-sensitive substances, e.g., plastic materials, ion bombardment is useful because densification, rearrangement of bonds in the network in the direction of maximum bond saturation of the atoms participating in the network, can be combined with a comparatively small heat input.
EuroPat v2
Der Ionenbeschuss und die damit bewirkte Schichtverdichtung während des Sputterprozesses kann zusätzlich durch einen parallel betriebenen Niedervoltbogen und/oder ein zur Stabilisierung bzw. Intensivierung des Plasmas angelegtes Magnetfeld, und/oder durch das Anlegen einer DC-Biasspannung am Substrat oder durch das Anlegen eines Mittelfrequenzbias zwischen Substrat und Prozesskammer im Bereich von 1 bis 10.000, insbesondere zwischen 20 bis 250 kHz unterstützt werden.
The ion bombardment and the resulting layer densification during the sputtering process can additionally be aided by a parallel-operated low-voltage arc and/or a magnetic field applied for stabilizing and intensifying the plasma, and/or by applying a DC bias voltage to the substrate or by applying a medium frequency bias between the substrate and the process chamber in the range of from 1 to 10,000, particularly between 20 and 250 kHz.
EuroPat v2
Dies kann wiederum zu unerwünschtem Ionenbeschuss des Substrates führen und damit zur Erzeugung von Defekten, wie sich aus (10) ergibt.
This, in turn, can lead to an undesirable ion bombardment of the substrate and thus to the generating of defects, as indicated in (10).
EuroPat v2
Eine solche Quelle besteht aus einer Kathode, die in einer Vakuumkammer auf negative Spannung gelegt wird, wobei durch ein vorhandenes Edelgas wie Argon oder auch ein Gemisch von Edelgasen mit Reaktivgasen eine Plasmaentladung unterhalten wird, wobei der dadurch auftretende Ionenbeschuss das Target zerstäubt und eine dünne Schicht abgeschieden werden kann.
Such a source consists of a cathode which is applied with a negative voltage in a vacuum chamber, where at the same time a plasma discharge is maintained by an inert gas such as argon or a mixture of inert gases with reactive gases, and the so produced ion bombardment sputters the target and makes it possible to deposit a thin film on a substrate positioned in the chamber.
EuroPat v2
Die anschließende Kondensation dieser Fragmente auf der Substratoberfläche bewirkt dann unter Einwirkung von Substrattemperatur, Elektronen- und/oder Ionenbeschuss die Polymerisation und somit die Bildung einer geschlossenen Schicht.
The subsequent condensation of these fragments on the substrate surface, under the action of substrate temperature, electron bombardment and/or ion bombardment, then brings about the polymerization and thus the formation of a closed layer.
EuroPat v2
Beim reaktiven Ionenplattieren wird das Metall-Targetmaterial mittels eines Elektronenstrahls, eines Plasmas und durch Ionenbeschuss verdampft und durch Zugabe eines reaktiven Gases als oxidische Schicht auf das Substrat aufgedampft (z.B. TiO2 Schicht).
With reactive ion plating, the metal target material is evaporated using an electron beam, plasma, and bombardment with ions and vapor deposited onto the substrate by adding a reactive gas as an oxidic layer (a TiO2 layer, for example).
ParaCrawl v7.1
Eine Oberfläche wir durch den Ionenbeschuss physikalisch und je nach Gasart, auch durch chemische Reaktionen gereinigt.
A surface is cleaned by ion bombardment and, depending on the employed process gas, by chemical reactions.
ParaCrawl v7.1
Das Verhalten von Zellen unter Ionenbeschuss ist ein Thema, mit dem sich die Forscher der Biophysik-Gruppe beschäftigen.
The behavior of cells when irradiated by ions is a topic the scientists of the GSI biophysics group deal with.
ParaCrawl v7.1
Auf der Seite des Magnetrons wird durch den hohen Ionenbeschuss eine wesentlich bessere Ausnutzung des Beschichtungsmaterials bzw. des Targets erreicht.
On the side of the magnetron, substantially better utilization of the coating material, or the target, is achieved by the powerful ion bombardment.
EuroPat v2
Durch die dargestellte Anordnung der Düsen 9 wird verhindert, dass diese durch den Ionenbeschuss beschädigt oder zerstört werden, und dennoch ermöglicht, dass sich die Partikel gleichmäßig im Plasma ausbreiten.
The illustrated arrangement of the nozzles 9 prevents them from being damaged or destroyed by the ion bombardment and nevertheless means that the particles spread out evenly in the plasma.
EuroPat v2
Die Erhebungen und Vertiefungen der Oberflächenstruktur können (auch bei anderen Substraten) somit durch Laserbeschuss, durch Ionenbeschuss, insbesondere durch reaktives Ionenätzen oder reaktives Ionentiefätzen, und/oder auch durch mikromechanische, spanabtragende Bearbeitung der Rückseite des Substrats hergestellt sein.
The elevated portions and recesses of the surface structure (also with other substrates) can thus be manufactured by laser bombardment, by ion bombardment, in particular by reactive ion etching or deep reactive ion etching and/or also by micromechanical, material removing machining of the rear side of the substrate.
EuroPat v2
Zu diesem Zweck wird von zum Beispiel einem Titantarget 52 durch Ionenbeschuss das Targetmaterial abgetragen und die gesputterten Teilchen 54 auf der Folienoberfläche kondensiert, wobei die Grundschicht 26 gebildet wird.
For this purpose, the target material is removed from, for example, a Ta target 52 by ion bombardment and the sputtered particles 54 are condensed onto the foil surface to form the base layer 26 .
EuroPat v2
Zu diesem Zweck wird von zum Beispiel einem Tantaltarget 52 durch Ionenbeschuss das Targetmaterial abgetragen und die gesputterten Teilchen 54 auf der Folienoberfläche kondensiert, wobei die Grundschicht 26 gebildet wird.
For this purpose, the target material is removed from, for example, a Ta target 52 by ion bombardment and the sputtered particles 54 are condensed onto the foil surface to form the base layer 26 .
EuroPat v2
Beispielsweise kann mittels Sputterns (Ionenbeschuss, Bestrahlung mit Teilchen oder Ähnlichem) die Korngrenze derart modifiziert sein oder werden, dass bevorzugt leichte Atome wie Sauerstoff aus dem ferroelektrischen Material herausgesputtert sind oder werden, so dass das verbleibende Material aus den schwereren Atomen, wie beispielsweise Bismut und Eisen, einen metallischen Charakter aufweist oder einen metallischen Bereich bildet.
By way of example, by means of sputtering (ion bombardment, irradiation with particles or the like) the grain boundary can be modified in such a way that preferably light atoms such as oxygen are sputtered from the ferroelectric material, such that the remaining material composed of the heavier atoms, such as bismuth and iron, for example, has a metallic character or forms a metallic region.
EuroPat v2
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Silikonoberfläche (7) vor dem Aufbringen der organischen Schicht (1) durch Ionenbeschuss vorbehandelt wird.
The method according to claim 1, further comprising pretreating the silicone surface by ion bombardment before forming the organic layer.
EuroPat v2
Solche Herstellungsprozesse beinhalten in der Regel flächendeckende Ätzschritte durch, zum Beispiel, einen Ionenbeschuss aus einer Ionenkanone, die sich nicht selbst limitieren, sondern nach dem Durchätzen der zu bearbeitenden Schicht im richtigen Moment aktiv gestoppt werden müssen.
Such production processes generally include extensive etching steps, for example ion bombardment from an ion cannon, which are not self-limiting, but after through-etching of the layer to be treated must be actively stopped at the right moment.
EuroPat v2
Zu den PVD-Verfahren zählen insbesondere thermisches Verdampfen, bei dem das Ausgangsmaterial durch Temperaturbeaufschlagung in die Gasphase übergeführt wird, sowie Sputtern, bei dem das Ausgangsmaterial durch Ionenbeschuss in die Gasphase übergeführt wird.
The PVD methods include, in particular, thermal evaporation in which the starting material is converted to the gas phase by application of temperature and sputtering, in which the starting material is converted to the gas phase by ion bombardment.
EuroPat v2