Übersetzung für "Ätzrate" in Englisch

Die Ätzrate steigt mit Konzentration und Temperatur des Ätzmediums.
Etch rates increase strongly with concentration and temperature.
Wikipedia v1.0
Die Ätzrate sinkt mit steigendem Metallgehalt.
The etching rate decreases with an increased metal contact.
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Das lonenätzen mit Argonionen ist ein Ätzprozess mit niedriger Ätzrate und geringer Selektivität.
Etching with argon ions is an etching process with low etching rate and small selectivity.
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Aus diesem Diagramm kann die Ätzrate in einem ausgewählten Punkt ermittelt werden.
The etch rate can be ascertained at a selected point from this diagram.
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Es gibt aber auch Substratmaterialien, deren Ätzrate stark temperaturabhängig ist.
There are, however, substrate materials whose etch rate is strongly temperature-dependent.
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Das Ionenätzen mit Argonionen ist ein Ätzprozeß mit niedriger Ätzrate und geringer Selektivität.
Etching with argon ions is an etching process with low etching rate and small selectivity.
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Unter diesen Bedingungen ist die Ätzrate des Siliciumdioxids vernachlässigbar klein.
Under these conditions the etching rate of the silicon dioxide is negligible.
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Dies erfordert eine hohe und zahlenmäßig genau bekannte Ätzrate der Hartmaske.
This requires a high, numerically accurately known etching rate for the hard mask.
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Dies resultiert in einer höheren Ätzrate für die Siliziumoxidschicht.
This results in a higher etching rate for the silicon oxide layer.
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Hierdurch wird insgesamt die mit diesem Verfahren erzielbare Ätzrate merklich gesenkt.
Because of this, the etching rate that can be attained with this method is markedly reduced.
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Bei dieser Betriebsart wird der Microloading-Effekt in der Ätzrate noch weiter reduziert.
In this operating mode, the microloading effect in the etching rate is further reduced.
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Ein Nachteil des genannten Stands der Technik beruht in ihrer geringen Ätzrate.
A disadvantage of the aforementioned prior art is its low etching rate.
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Die maximale Ätzdauer nimmt also umgekehrt proportional zum Quadrat der Ätzrate ab.
The maximum etching duration thus decreases inversely proportional to the square of the etching rate.
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Es ist nicht möglich, den Gasfluß ohne Änderung der Ätzrate zu verändern.
It is not possible to vary the gas flow without changing the etching rate.
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Eine maximale Ätzrate ist durhc die physikalischen Bedingungen gegeben.
A maximum etching rate is established by the physical conditions.
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Die selektive Ätzrate ist empfindlich von Temperatur und Konzentration der Ätzlösung abhängig.
The selective etching rate is sensitively dependent on temperature and concentration of the etching solution.
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Es ist auch möglich die Abhängigkeit der Ätzrate von der Dotierstoffkonzentration auszunutzen.
It is also possible to utilise the dependency of the etching rate on the dopant concentration.
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Die Ätzrate definiert den insgesamt durch die Ätzung erzielten Massenverlust.
The etching rate defines the mass loss obtained as a whole by the etching.
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Mit der gleichen Ätzrate muß auch der Collar C geätzt werden.
The collar C must also be etched at the same etching rate.
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Eine erste Kurve 9 stellt beispielsweise die Ätzrate einer amorphen Siliziumschicht dar.
A first curve 9 represents, for example, the etching rate of an amorphous silicon layer.
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Mit steigendem Prozessgasdruck oberhalb von ca. 60 mTorr nimmt die Ätzrate ab.
The etching rate decreases with increasing process gas pressure above about 60 mtorr.
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Die Ätzrate hängt darüber hinaus vom Druck in der Vakuumkammer ab.
The etching rate also depends on the pressure in the vacuum chamber.
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Die Ätzrate beim reaktiven Ionenätzen der Photolackschicht ist vorzugsweise gleich der für polykristallines Silicium.
The etch rate of RIE resist is preferably equal to that of RIE polysilicon.
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Polydimethylsiloxanharz besitzt unglücklicherweise eine relativ niedrige Ätzrate, selbst bei bevorzugt angewendetem Gasentladungsätzen mit Tetrafluorkohlenstoff.
Polydimethylsiloxane resin unfortunately has a relatively slow etch rate even with its preferred CF4 plasma etchant.
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Die Ätzrate dieser Materialien ist dabei abhängig von der Temperatur und der Zusammensetzung der Ätzlösung.
The etching rate of said materials depends on the temperature and the composition of the etching solution.
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Die Ätzrate beim reaktiven lonenätzen der Photolackschicht ist vorzugsweise gleich der für polykristallines Silicium.
The etch rate of RIE resist is preferably equal to that of RIE polysilicon.
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Die unterste Grenze für die Fließgeschwindigkeit des Ätzmittels wird im allgemeinen durch die gewünschte Ätzrate bestimmt.
The minimum flow rate of the etchant is generally determined by the desired etch rate.
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Die Änderung der Ätzrate ist auf chemische und physikalische Schichtmodifikationen durch die nachfolgende Plasma-Abscheidung zurückzuführen.
The change in the etching rate can be attributed to chemical and physical layer modifications due to the subsequent plasma deposition.
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Dies bewirkt eine geringere Modifikation der Schichteigenschaften und eine höhere Ätzrate für die Hartmaske.
This results in less modification of the layer properties and a higher etching rate for the hard mask.
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Die Ätzrate ist nach ausreichender Vorbehandlung weitgehend unabhängig von der während der Ätzung zusätzlich zugeführten Wassermenge.
Given adequate pre-treatment, the etching rate is largely independent of the amount of water additionally introduced during the etching.
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